Conhecimento Quais são os dois métodos utilizados para depositar componentes de película fina num substrato? (2 métodos principais explicados)
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Atualizada há 4 semanas

Quais são os dois métodos utilizados para depositar componentes de película fina num substrato? (2 métodos principais explicados)

Quando se trata de depositar componentes de película fina num substrato, existem dois métodos principais: a deposição física e a deposição química. Estes métodos são essenciais para várias aplicações na investigação e na indústria.

2 Métodos Principais Explicados

Quais são os dois métodos utilizados para depositar componentes de película fina num substrato? (2 métodos principais explicados)

1. Deposição Física

A deposição física, também conhecida como deposição física de vapor (PVD), envolve a transferência física de material de uma fonte para um substrato.

Este processo é normalmente conseguido através de métodos como a evaporação ou a pulverização catódica.

Na evaporação, o material é aquecido a uma temperatura elevada, provocando a sua vaporização e posterior condensação no substrato.

Na pulverização catódica, os iões são bombardeados sobre um material alvo, fazendo com que os átomos sejam ejectados e depositados no substrato.

2. Deposição química

A deposição química, também conhecida como deposição de vapor químico (CVD), envolve uma reação química entre um fluido precursor e o substrato.

Esta reação resulta na formação de uma camada fina sobre a superfície.

Exemplos de métodos de deposição química incluem a galvanoplastia, o sol-gel, o revestimento por imersão, o revestimento por rotação e a deposição de camadas atómicas (ALD).

Na galvanoplastia, é utilizada uma corrente eléctrica para depositar uma camada metálica no substrato.

Na sol-gel, é aplicada uma solução ao substrato, que é depois submetida a uma reação química para formar uma película sólida.

O revestimento por imersão e o revestimento por centrifugação envolvem a imersão ou a centrifugação do substrato numa solução que contém o material desejado, que depois adere à superfície.

Vantagens e limitações

Tanto os métodos de deposição física como os métodos de deposição química têm o seu próprio conjunto de vantagens e limitações.

Os métodos de deposição física são frequentemente preferidos pela sua simplicidade e capacidade de depositar uma vasta gama de materiais.

Os métodos de deposição química, por outro lado, oferecem um melhor controlo sobre a espessura, uniformidade e composição da película.

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