Os revestimentos por deposição são essenciais para várias aplicações, proporcionando propriedades específicas como a durabilidade e a condutividade.
Existem dois tipos principais de revestimentos de deposição: deposição física de vapor (PVD) e deposição química de vapor (CVD).
Cada categoria inclui várias técnicas adaptadas a aplicações específicas e propriedades do material.
5 métodos principais explicados
1. Deposição Física de Vapor (PVD)
Este método envolve a deposição de materiais num substrato sem envolver reacções químicas.
Evaporação térmica ou por feixe de electrões
Os materiais são aquecidos até ao seu ponto de vaporização e depois condensados no substrato.
Sputtering por Magnetrão ou Feixe de Iões
Os átomos são ejectados de um material alvo devido ao bombardeamento por iões, sendo depois depositados no substrato.
Deposição por arco catódico
Um arco de alta corrente vaporiza material de um cátodo, que depois se deposita no substrato.
2. Deposição química em fase vapor (CVD)
Envolve reacções químicas entre precursores gasosos para depositar um material sólido num substrato.
CVD normal
Os gases reagem a altas temperaturas para depositar uma película fina.
Deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD)
Utiliza plasma para melhorar a reação química, permitindo temperaturas de deposição mais baixas.
3. Sol-Gel
Uma solução química que forma um revestimento sólido através de uma reação química.
4. Hidrólise por chama
Deposição através da decomposição térmica de um vapor químico.
5. Deposição eletroquímica e sem eléctrodos
Envolve a redução electrolítica ou química sem eletricidade, respetivamente.
Pulverização térmica, a plasma e a frio
Envolvem a pulverização de materiais sobre uma superfície a várias temperaturas.
Cada um destes métodos é escolhido com base nas propriedades desejadas do revestimento, como a transparência, a durabilidade, a condutividade eléctrica ou a condutividade térmica, e os requisitos específicos do substrato e da aplicação.
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