A pulverização catódica em corrente contínua é geralmente considerada melhor do que a pulverização em corrente contínua para determinadas aplicações, particularmente na pulverização reactiva e no tratamento de isoladores. Isto deve-se à sua capacidade de atenuar os danos provocados pela descarga de arco e ao seu melhor controlo das propriedades da película.
Atenuação de danos por descarga de arco:
A pulverização catódica DC pulsada é particularmente vantajosa na pulverização iónica reactiva, onde o risco de descarga de arco é elevado. A descarga de arco ocorre devido à acumulação de carga no alvo, o que pode ser prejudicial tanto para a película fina como para a fonte de alimentação. A pulverização catódica DC pulsada ajuda a gerir este problema, descarregando periodicamente a carga acumulada, evitando assim a acumulação que conduz a descargas de arco. Isto torna o processo mais estável e menos prejudicial para o equipamento e para as películas depositadas.Maior controlo das propriedades da película:
A pulverização catódica DC pulsada permite um melhor controlo de várias propriedades da película, como a espessura, uniformidade, força de adesão, tensão, estrutura do grão e propriedades ópticas ou eléctricas. Isto é crucial em aplicações em que é necessário um controlo preciso das características da película. A natureza pulsada da fonte de alimentação permite um ambiente mais controlado para a deposição de materiais, conduzindo a películas de maior qualidade.
Vantagens na deposição de materiais isolantes:
A pulverização catódica CC tradicional tem limitações no que respeita à deposição de materiais isolantes devido à acumulação de carga no alvo. A pulverização catódica DC pulsada, juntamente com avanços como a pulverização magnetrónica de impulso de alta potência (HiPIMS), ultrapassa estas limitações, fornecendo um método para depositar materiais isolantes de forma eficaz. Isto é particularmente importante no desenvolvimento de materiais e revestimentos avançados em que as propriedades isolantes são essenciais.
