A pulverização catódica em corrente contínua é geralmente considerada melhor do que a pulverização em corrente contínua para determinadas aplicações, particularmente na pulverização reactiva e no tratamento de isoladores.
Isto deve-se à sua capacidade de atenuar os danos provocados pela descarga de arco e ao seu maior controlo sobre as propriedades da película.
4 razões principais pelas quais a pulverização catódica DC pulsada é melhor
1. Atenuação dos danos causados pela descarga de arco
A pulverização catódica DC pulsada é particularmente vantajosa na pulverização iónica reactiva, em que o risco de descarga de arco é elevado.
A descarga de arco ocorre devido à acumulação de carga no alvo, o que pode ser prejudicial tanto para a película fina como para a fonte de alimentação.
A pulverização catódica DC pulsada ajuda a gerir este problema, descarregando periodicamente a carga acumulada, evitando assim a acumulação que conduz a descargas de arco.
Este facto torna o processo mais estável e menos prejudicial para o equipamento e para as películas depositadas.
2. Maior controlo das propriedades da película
A pulverização catódica pulsada permite um melhor controlo de várias propriedades da película, como a espessura, a uniformidade, a força de adesão, a tensão, a estrutura do grão e as propriedades ópticas ou eléctricas.
Isto é crucial em aplicações em que é necessário um controlo preciso das caraterísticas da película.
A natureza pulsada da fonte de alimentação permite um ambiente mais controlado para a deposição de materiais, conduzindo a películas de maior qualidade.
3. Vantagens na deposição de materiais isolantes
A pulverização catódica CC tradicional tem limitações no que respeita à deposição de materiais isolantes devido à acumulação de carga no alvo.
A pulverização catódica de corrente contínua pulsada, juntamente com avanços como a pulverização magnetrónica de impulso de alta potência (HiPIMS), ultrapassa estas limitações, fornecendo um método para depositar materiais isolantes de forma eficaz.
Isto é particularmente importante no desenvolvimento de materiais e revestimentos avançados em que as propriedades de isolamento são essenciais.
4. Conclusão
Embora a pulverização catódica de corrente contínua seja eficaz para materiais simples e condutores, a pulverização catódica de corrente contínua pulsada oferece vantagens significativas em termos de estabilidade do processo, controlo das propriedades da película e capacidade de lidar com materiais reactivos e isolantes.
Estas vantagens tornam a pulverização catódica DC pulsada uma escolha superior para muitas aplicações modernas na deposição de película fina, especialmente em indústrias que exigem elevada precisão e qualidade nos seus materiais.
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