A deposição em química é o processo de criação de camadas finas ou espessas de uma substância, átomo a átomo ou molécula a molécula, numa superfície sólida.
Este processo resulta num revestimento na superfície, que pode alterar as propriedades do substrato, dependendo da aplicação pretendida.
A deposição é crucial em várias indústrias, particularmente na indústria de semicondutores, onde é utilizada para produzir materiais de alta qualidade e elevado desempenho.
Qual é o significado de deposição em química? 4 Técnicas Principais Explicadas
1. Deposição química de vapor (CVD)
A Deposição Química de Vapor (CVD) é um método utilizado para produzir materiais sólidos, normalmente em condições de vácuo.
É amplamente utilizado no fabrico de semicondutores e na produção de películas finas.
O processo envolve a evaporação de um composto volátil, seguida da sua decomposição térmica ou reação química com outras substâncias no substrato.
Os produtos da reação não voláteis depositam-se então no substrato, formando uma película fina.
Este processo requer condições específicas, tais como pressões que vão desde alguns torr até acima da pressão atmosférica e temperaturas relativamente elevadas (cerca de 1000°C).
2. Deposição em vácuo
A deposição em vácuo é uma família de processos utilizados para depositar camadas de material em substratos sob condições de vácuo.
Esta técnica permite o controlo preciso da espessura da película, mesmo na gama dos nanómetros, num ambiente limpo.
É frequentemente utilizada para aplicar revestimentos resistentes à corrosão em substratos e é amplamente utilizada para a preparação de películas de materiais inorgânicos à escala industrial.
3. Deposição em fase vapor por processo físico (PVD)
A deposição física de vapor (PVD) envolve técnicas de alta energia para vaporizar materiais sólidos no vácuo para deposição num material alvo.
Dois métodos comuns de PVD incluem a pulverização catódica e a evaporação.
A pulverização catódica por magnetrão, um método baseado em plasma, envolve a interação de iões de plasma com o material, fazendo com que os átomos sejam pulverizados e formem uma película fina no substrato.
Este método é normalmente utilizado na produção eléctrica ou ótica.
4. Resumo das técnicas de deposição
Em resumo, a deposição em química é um processo versátil e crítico utilizado para modificar superfícies através da aplicação de camadas finas ou espessas de materiais.
É essencial em indústrias que requerem propriedades materiais precisas, como a dos semicondutores, e utiliza várias técnicas como CVD e PVD para alcançar os resultados desejados.
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