A limpeza de uma câmara de pulverização catódica é essencial para manter elevados níveis de limpeza. Isto evita a contaminação e garante a qualidade dos revestimentos.
4 passos essenciais para um desempenho ótimo
1. Limpeza da câmara e dos componentes
Limpeza da câmara: Limpe a câmara de vidro com água quente e sabão e seque-a bem. Para os depósitos mais difíceis, utilize um esfregão de cozinha. Evite utilizar solventes devido a questões de saúde e segurança.
Limpeza da superfície metálica: Utilize álcool isopropílico nas superfícies metálicas. Evite a acetona, uma vez que apresenta maiores riscos para a saúde e segurança e demora mais tempo a libertar gases, afectando o desempenho do aspirador.
2. Manutenção da qualidade do vácuo e do gás
Nível de vácuo: Assegurar que a câmara de vácuo é evacuada para um nível de vácuo elevado, normalmente entre 10^-6 e 10^-9 Torr. Isto é crucial para criar um ambiente livre de contaminantes para a deposição.
Gás de pulverização: O gás de pulverização catódica (árgon ou oxigénio) deve ser limpo e seco para manter as caraterísticas de composição do revestimento.
3. Métodos de pré-limpeza
Método de deposição: A escolha do método de deposição influencia o método de pré-limpeza. Por exemplo, as tecnologias de fontes de iões são mais compatíveis com os sistemas de evaporação do que com os sistemas de pulverização catódica.
Profundidade de limpeza: Determinar o nível de limpeza necessário com base nos contaminantes. Para a simples remoção de hidrocarbonetos e moléculas de água, são suficientes métodos de baixa energia iónica. Para a remoção de camadas de óxido, é necessária uma maior densidade e energia iónica.
Área de cobertura: Considere a área de cobertura do método de limpeza. Técnicas como a placa incandescente RF e o pré-tratamento por plasma podem cobrir grandes áreas, enquanto outras, como os pré-tratamentos por RF ou micro-ondas e as fontes de iões circulares, oferecem uma cobertura mais limitada.
4. Limpeza por pulverização catódica
Técnica: Utiliza a pulverização catódica física no vácuo para limpar as superfícies dos sólidos. Este método é eficaz em ciência de superfícies, deposição em vácuo e revestimento iónico.
Considerações: Tenha cuidado com potenciais problemas como o sobreaquecimento, a incorporação de gás, os danos na superfície e a rugosidade. Assegurar um plasma limpo para evitar a recontaminação e gerir a redeposição do material pulverizado, especialmente a altas pressões de pulverização.
Seguindo estes passos e considerações detalhadas, a câmara de pulverização e os seus componentes podem ser limpos eficazmente, garantindo um desempenho ótimo e revestimentos de alta qualidade.
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