O revestimento por pulverização catódica é um processo versátil de deposição física de vapor que pode ser utilizado para revestir uma vasta gama de materiais, incluindo metais, ligas, isoladores, cerâmicas e seus compostos. O processo envolve a ejeção de material de uma superfície alvo e a sua deposição num substrato para formar uma película fina e funcional.
Materiais que podem ser revestidos por pulverização catódica:
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Metais e ligas: Metais comuns como a prata, o ouro, o cobre e o aço podem ser revestidos por pulverização catódica. As ligas também podem ser pulverizadas e, em condições adequadas, um alvo multicomponente pode ser transformado numa película com a mesma composição.
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Óxidos: Exemplos incluem o óxido de alumínio, o óxido de ítrio, o óxido de titânio e o óxido de índio e estanho (ITO). Estes materiais são frequentemente utilizados pelas suas propriedades eléctricas, ópticas ou químicas.
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Nitretos: O nitreto de tântalo é um exemplo de um nitreto que pode ser pulverizado. Os nitretos são valorizados pela sua dureza e resistência ao desgaste.
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Boretos, carbonetos e outras cerâmicas: Embora não seja especificamente mencionado na referência, a declaração geral sobre as capacidades de pulverização catódica sugere que estes materiais também podem ser pulverizados.
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Elementos e compostos de terras raras: O gadolínio é dado como exemplo de um elemento de terras raras que pode ser pulverizado, frequentemente utilizado para radiografia de neutrões.
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Pilhas dieléctricas: A pulverização catódica pode ser utilizada para criar pilhas dieléctricas através da combinação de vários materiais para isolar eletricamente componentes, tais como instrumentos cirúrgicos.
Características e técnicas do processo:
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Compatibilidade de materiais: A pulverização catódica pode ser usada com metais, ligas e isolantes. Também pode lidar com alvos multicomponentes, permitindo a criação de filmes com composições precisas.
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Sputtering reativo: Ao adicionar oxigénio ou outro gás ativo à atmosfera de descarga, pode ser produzida uma mistura ou um composto da substância alvo e da molécula de gás. Isto é útil para a criação de óxidos e nitretos.
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Controlo de precisão: A corrente de entrada do alvo e o tempo de pulverização podem ser controlados, o que é crucial para obter espessuras de película de alta precisão.
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Uniformidade: O revestimento por pulverização catódica é vantajoso para produzir grandes áreas de película uniforme, o que nem sempre é possível com outros processos de deposição.
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Técnicas: A pulverização catódica por magnetrão DC é utilizada para materiais condutores, enquanto a pulverização por radiofrequência é utilizada para materiais isolantes como os óxidos, embora a uma taxa inferior. Outras técnicas incluem a pulverização por feixe de iões, a pulverização reactiva e a pulverização magnetrónica por impulso de alta potência (HiPIMS).
Em resumo, o revestimento por pulverização catódica é um processo altamente adaptável que pode ser utilizado para depositar uma variedade de materiais, desde metais simples a compostos cerâmicos complexos, com um controlo preciso da composição e espessura da película. Esta versatilidade torna-o uma ferramenta valiosa em muitas indústrias, incluindo a dos semicondutores, aeroespacial, energia e defesa.
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