A deposição térmica, também conhecida como evaporação térmica, é uma técnica utilizada na deposição física de vapor (PVD).
Envolve o aquecimento de um material até ao seu ponto de evaporação num ambiente de alto vácuo.
Isto faz com que o material se vaporize e depois se deposite como uma película fina num substrato.
Este método é conhecido pela sua simplicidade, elevada taxa de deposição e utilização eficiente do material.
É amplamente utilizado em indústrias como a ótica, a eletrónica e as células solares.
O que é o método de deposição térmica? 5 pontos-chave para compreender
1. Mecanismo de Deposição Térmica
O processo começa com o material alvo a ser colocado dentro de uma fonte de evaporação.
Esta fonte pode ser um barco, uma bobina ou um cesto.
A fonte é então aquecida pela passagem de uma corrente eléctrica através dela.
Isto faz com que o material atinja o seu ponto de evaporação devido à resistência eléctrica da fonte.
Este método de aquecimento é frequentemente designado por evaporação resistiva.
Uma vez evaporado, as moléculas do material movem-se através do vácuo e condensam-se na superfície de um substrato.
Forma-se assim uma película fina.
Este método é versátil e pode ser utilizado para depositar uma vasta gama de materiais.
Estes incluem metais como o alumínio, a prata, o níquel, o crómio e o magnésio.
2. Aplicações da deposição térmica
A evaporação térmica é amplamente utilizada no fabrico de vários componentes.
Estes incluem camadas de ligação metálica em células solares, transístores de película fina, bolachas semicondutoras e OLEDs à base de carbono.
A película produzida pode ser um componente único ou pode envolver a co-deposição de diferentes materiais.
Tal depende dos requisitos específicos da aplicação.
3. Vantagens e melhorias
Uma das principais vantagens da evaporação térmica é a sua elevada taxa de deposição e a utilização eficiente dos materiais.
Este método foi ainda melhorado com tecnologias como a deposição por feixe de electrões.
Isto permite a produção de revestimentos de alta qualidade com um elevado grau de precisão.
A evaporação térmica é particularmente eficaz para depositar camadas metálicas condutoras de eletricidade em dispositivos.
Estes incluem células solares, ecrãs OLED e transístores de película fina.
4. Comparação com outros métodos de deposição
Embora a evaporação térmica seja um método comum, existem outras técnicas de deposição.
Uma dessas técnicas é a deposição por pulverização catódica, que utiliza plasma para transferir iões de um material alvo para um substrato.
Cada método tem o seu próprio conjunto de vantagens e é escolhido com base nas necessidades específicas da aplicação.
5. Resumo
A deposição térmica é um método fundamental e amplamente utilizado no processo PVD.
Oferece uma abordagem simples para depositar películas finas com elevada eficiência e versatilidade em vários sectores.
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