A resistência do grafeno CVD, especificamente a sua resistência de folha, é tipicamente de cerca de 350 Ω/sq quando cultivado num substrato de cobre, com uma transparência de 90%. Este valor representa uma melhoria significativa no rácio transparência/resistência de folha em comparação com o grafeno não dopado, que tem uma resistência de folha de aproximadamente 6 kΩ com 98% de transparência.
Explicação pormenorizada:
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Resistência de folha do grafeno CVD: A resistência de folha do grafeno produzido por deposição química de vapor (CVD) num substrato de cobre é de 350 Ω/sq. Esta medição é efectuada em condições em que o grafeno mantém um elevado nível de transparência, especificamente 90%. A resistência da folha é um parâmetro crítico para aplicações como as películas condutoras transparentes, onde é essencial um equilíbrio entre a condutividade e a transparência.
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Comparação com o grafeno não dopado: O grafeno não dopado, que é um alótropo cristalino bidimensional com um átomo de espessura, apresenta uma resistência de folha de aproximadamente 6 kΩ com 98% de transparência. Esta resistência mais elevada em comparação com o grafeno CVD sobre cobre indica que o processo CVD pode aumentar a condutividade do grafeno sem comprometer significativamente a sua transparência.
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Impacto da espessura da camada: A resistência da folha de grafeno diminui com a adição de mais camadas. Hipoteticamente, se as camadas se comportassem de forma independente, a resistência da folha deveria manter-se constante e estar relacionada com a de uma película multicamadas. Isto sugere que o processo CVD pode ser optimizado para controlar o número de camadas, ajustando assim a resistência da folha para satisfazer requisitos de aplicação específicos.
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Aplicações e perspectivas futuras: O grafeno CVD é utilizado em várias aplicações, como sensores, ecrãs tácteis e elementos de aquecimento. Prevê-se que o desenvolvimento de melhores métodos de manuseamento e de redução dos custos de produção do grafeno CVD venha a alargar ainda mais as suas aplicações. A capacidade de produzir grafeno com uma grande área de superfície e boas propriedades eléctricas torna a CVD um método atrativo para aplicações industriais.
Em resumo, a resistência do grafeno CVD, em particular a resistência da folha, é significativamente inferior à do grafeno não dopado, tornando-o um material promissor para aplicações condutoras transparentes. A capacidade de adaptar a resistência da folha controlando o número de camadas e as melhorias contínuas nas técnicas CVD são factores-chave que impulsionam a adoção do grafeno CVD em várias aplicações tecnológicas.
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