O objetivo da utilização de árgon durante o processo de pulverização catódica deve-se principalmente à sua natureza inerte, à sua elevada taxa de pulverização catódica, ao seu baixo custo e à sua elevada pureza. O árgon serve como meio para criar iões que bombardeiam o material alvo, facilitando a deposição de películas finas num substrato.
Natureza inerte e alta taxa de pulverização:
O árgon é um gás inerte, o que significa que não reage facilmente com outros elementos. Esta propriedade é crucial na pulverização catódica porque assegura que os iões de árgon, que são acelerados em direção ao material alvo, não interagem quimicamente com o alvo ou com a película depositada. A inércia do árgon ajuda a manter a integridade e as propriedades desejadas da película fina que está a ser depositada. Além disso, o árgon tem uma massa elevada, o que aumenta a sua eficiência de pulverização catódica. Quando os iões de árgon colidem com o material alvo, transferem uma energia cinética significativa, levando a uma maior taxa de material alvo a ser ejectado e depositado no substrato.Baixo custo e disponibilidade:
O árgon é relativamente barato e está amplamente disponível em elevado grau de pureza, o que o torna uma escolha economicamente viável para aplicações industriais e de investigação. A relação custo-benefício do argônio é particularmente importante em processos que exigem grandes volumes de gás, como é freqüentemente o caso na pulverização catódica.
Papel no processo de pulverização catódica:
Na configuração de pulverização catódica, o gás árgon é introduzido numa câmara de vácuo onde é ionizado por electrões livres. Estes iões de árgon são então atraídos para o cátodo carregado negativamente (material alvo) por um campo elétrico. Após a colisão com o alvo, os iões de árgon fazem com que os átomos do alvo sejam ejectados e subsequentemente depositados no substrato. Este processo é crucial para a formação de películas finas com propriedades precisas e controláveis.
Versatilidade nas Técnicas de Sputtering:
