A pulverização catódica é um processo que envolve a utilização de um gás específico para criar películas finas ou revestimentos num substrato.
5 pontos-chave para saber sobre o gás de processo para pulverização catódica
1. O gás de processo mais comum é o argônio
O argônio é normalmente o gás de escolha para a pulverização catódica.
2. O argônio é introduzido em uma câmara de vácuo
Numa câmara de vácuo, o árgon é ionizado e forma um plasma.
3. Os iões do plasma são acelerados em direção ao material alvo
Estes iões deslocam átomos ou moléculas do material alvo.
4. As partículas deslocadas formam um fluxo de vapor
Este fluxo de vapor deposita-se num substrato, criando uma película fina ou um revestimento.
5. A escolha do gás pode variar
Podem também ser utilizados outros gases como o néon, crípton, xénon, oxigénio e azoto, dependendo dos requisitos específicos do processo de pulverização catódica.
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