Os diferentes tipos de pulverização catódica incluem a pulverização catódica com díodo DC, a pulverização catódica com díodo RF, a pulverização catódica com díodo magnetrão e a pulverização catódica com feixe de iões.
1. Pulverização catódica com díodo de corrente contínua: Na pulverização catódica com díodos de corrente contínua, um plasma de baixa pressão de gás árgon é inflamado entre um alvo e um substrato utilizando uma tensão de corrente contínua de 500-1000 V. Os iões positivos de árgon precipitam átomos do alvo, que depois migram para o substrato e aí se condensam. No entanto, apenas os condutores eléctricos podem ser pulverizados neste processo, sendo alcançadas baixas taxas de pulverização.
2. Pulverização por RF-diodo: A pulverização catódica por RF envolve a utilização de energia de radiofrequência (RF) para gerar um plasma entre o alvo e o substrato. A potência de RF é utilizada para ionizar o gás árgon e acelerar os iões em direção ao alvo, provocando a pulverização catódica. Este método permite taxas de pulverização catódica mais elevadas do que a pulverização catódica com díodo de corrente contínua e pode ser utilizado tanto para materiais condutores como para materiais isolantes.
3. Pulverização catódica com díodo magnetrão: A pulverização catódica com díodo magnetrão é uma variação da pulverização catódica com díodo RF em que é aplicado um campo magnético próximo da superfície do alvo. O campo magnético aprisiona os electrões perto do alvo, aumentando a densidade do plasma e a taxa de pulverização. Este método é normalmente utilizado para depositar películas metálicas com elevada aderência e densidade.
4. Pulverização catódica por feixe de iões: A pulverização catódica por feixe de iões envolve a utilização de um feixe de iões de alta energia para pulverizar átomos do material alvo. O feixe de iões é gerado pela ionização de um gás como o árgon e pela aceleração dos iões em direção ao alvo. Este método permite um controlo preciso do processo de pulverização catódica e é frequentemente utilizado para depositar películas finas de alta qualidade com baixos níveis de contaminação.
Cada tipo de pulverização catódica tem as suas próprias vantagens e limitações, e a escolha do método depende dos requisitos específicos da aplicação do revestimento.
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