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Tubo Redutor de Quartzo Fundido Adaptador de Quartzo de Alta Pureza para Fornos Tubulares de Laboratório e Processamento de Semicondutores
Número do item : KT-SYG
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Composição do Material
- Quartzo Fundido de Alta Pureza (SiO2 ≥ 99,99%)
- Temperatura de Operação
- 1100°C Contínuo / 1250°C Pico de Curto Prazo
- Resistência ao Choque Térmico
- Têmpera em Água de 1100°C a 20°C Sem Fratura
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Visão Geral do Produto
O tubo redutor de quartzo fundido de alta pureza serve como um acoplamento de transição de precisão projetado para conectar diâmetros de tubos desiguais em fornos de alta temperatura, redes de vácuo e tubulações de processo. Fabricado a partir de sílica fundida refinada com teor de dióxido de silício superior a 99,99%, este componente oferece excelente resiliência térmica, clareza óptica e inércia química, garantindo transições de fluxo volumétrico confiáveis sem zonas mortas ou falhas estruturais.
Amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, deposição química a vapor, pesquisa fotovoltaica e laboratórios piroquímicos analíticos, este adaptador faz a interface entre câmaras de fornos primários e manifolds de fornecimento de gás, depuradores de exaustão e conexões de vácuo. Ele elimina incompatibilidades de interface geométrica em sistemas térmicos severos onde acoplamentos elastoméricos ou metálicos são inadequados devido a riscos de degradação térmica ou contaminação.
Projetado para operação contínua a 1100°C e picos transitórios de até 1250°C, o componente apresenta um coeficiente de expansão térmica excepcionalmente baixo, concedendo imunidade total a choques térmicos rápidos durante ciclos agressivos de fornos. A espessura de parede uniforme, a concentricidade precisa e o recozimento completo do forno garantem resistência mecânica de longo prazo sob condições rigorosas de vácuo e pressão positiva.
Principais Características
- Ultra-Alta Pureza de Material: Fabricado exclusivamente a partir de sílica fundida de qualidade superior, com pureza de SiO2 superior a 99,99% e impurezas metálicas residuais totais abaixo de 20 ppm, garantindo risco zero de contaminação do substrato em processos ultralimpos de semicondutores, células solares e deposição de filmes finos.
- Resiliência Superior ao Choque Térmico: Possui um coeficiente de expansão térmica ultrabaixo de 5,5 × 10⁻⁷ /°C da temperatura ambiente até 1000°C, permitindo a exposição direta a gradientes térmicos agudos e têmpera instantânea em água a partir de 1100°C sem microfissuras, fendilhamento ou fratura térmica catastrófica.
- Geometria Formada por Torno de Precisão: Fabricado utilizando tornos de vidro para trabalhar quartzo sincronizados por computador para manter a concentricidade rigorosa, transições de conicidade suaves e espessura de parede uniforme nas seções de furo maior e menor, evitando estresse térmico localizado e recirculação turbulenta de gás.
- Inércia Química de Amplo Espectro: Apresenta imunidade quase total a ácidos corrosivos, incluindo ácidos nítrico, sulfúrico e clorídrico concentrados em temperaturas de ebulição, bem como halogênios secos e vapores precursores voláteis, protegendo a integridade da química do processo em ambientes químicos exigentes.
- Rigidez Estrutural em Alta Temperatura: Retém excepcional estabilidade mecânica sob condições operacionais contínuas a 1100°C e excursões de pico intermitentes de até 1250°C, resistindo ao afundamento, amolecimento ou implosão a vácuo sob regimes de pressão negativa profunda.
- Transparência Óptica e Visibilidade do Processo: Oferece alta transmissão espectral nos espectros ultravioleta, visível e infravermelho próximo de 260 nm a 2500 nm, permitindo monitoramento visual claro de descargas de plasma, fluxos de precursores e zonas de condensação de vapor durante o processamento térmico.
- Terminações de Extremidade e Interfaces de Junção Personalizáveis: Projetado com configurações de conexão versáteis, incluindo extremidades lisas polidas a fogo, juntas cônicas esmerilhadas padrão, acoplamentos esféricos de esfera e soquete ou perfis de flange rápido com rebordo para integrar-se perfeitamente a diversos layouts de aparelhos.
- Recozimento de Forno Controlado: Passa por recozimento de ciclo programado em múltiplos estágios para erradicar tensões internas residuais introduzidas durante o estiramento mecânico e afunilamento a quente, verificado por meio de testes de polariscópio óptico para garantir durabilidade física confiável durante o serviço.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Difusão e Oxidação de Semicondutores | Conecta tubos de processo de grande calibre a injetores de fornecimento de gás reativo menores ou flanges de vácuo de linha de foreline em fornos de difusão de alta temperatura. | Evita contaminação metálica, mantém vedações atmosféricas ultralimpas e resiste a ciclos de processo contínuos de 1100°C sem desvitrificação. |
| Deposição Química a Vapor (CVD / PECVD) | Atua como o redutor de fluxo de gás primário, fazendo a ponte entre os dutos de entrega de reagentes e a câmara principal de deposição a vácuo em sistemas de tubos horizontais ou verticais. | Elimina zonas de recirculação turbulenta através de uma geometria cônica suave, garantindo fluxo de precursor laminar e crescimento uniforme de filme fino. |
| Exaustão de Alto Vácuo e Transições de Foreline | Faz a ponte entre câmaras de processo superdimensionadas e linhas de bombeamento de vácuo padrão, armadilhas frias e sensores de pressão de diagnóstico em configurações de alto vácuo. | Fornece taxas de desgaseificação negligenciáveis sob condições de vácuo ultra-alto, sustentando diferenciais de vácuo profundo sem flambagem estrutural. |
| Depuração de Gás Corrosivo e Linhas de Ventilação | Faz a interface entre fluxos de efluentes corrosivos contendo cloro, compostos de flúor ou subprodutos ácidos e armadilhas de condensação e torres neutralizadoras. | Impermeável à névoa ácida e halogênios em temperaturas de exaustão elevadas, evitando a corrosão prematura do acoplamento e vazamentos catastróficos de exaustão. |
| Redução de Furo de Forno Tubular de Laboratório | Facilita a conversão dimensional entre tubos de aquecimento de grandes fornos e vidrarias de laboratório padronizadas ou portas de inserção de sonda analítica. | Permite aos pesquisadores adaptar diâmetros de tubos de fornos legados a aparelhos modulares sem a usinagem personalizada de tampas de extremidade de forno caras. |
| Processamento de Wafer de Silício Fotovoltaico | Serve como duto de transição para o fornecimento de vapor dopante de oxicloreto de fósforo ou tribrometo de boro em reatores de difusão de emissor de célula solar. | Resiste à corrosão agressiva do vapor transportador de dopante, preservando a extrema pureza química crítica para a alta eficiência de tempo de vida dos portadores. |
| Análise Piroquímica e Térmica | Acopla barcos de combustão de alta temperatura ou tubos de reação diretamente a espectrômetros de massa, analisadores de gás ópticos e serpentinas de condensador. | Fornece caminhos de fluxo inertes que evitam a adsorção de amostras, reações secundárias catalíticas ou distorção de sinal durante avaliações analíticas sensíveis. |
| Deposição de Pré-forma de Fibra Óptica (MCVD) | Conecta tubos de partida de quartzo rotativos a manifolds de alimentação química e sopradores de exaustão durante a deposição química a vapor modificada para núcleos de fibra. | Garante alta concentricidade rotacional e resistência mecânica sob intensa chama de oxi-hidrogênio percorrendo ao longo do eixo da pré-forma. |
Especificações Técnicas
Variantes Dimensionais Padrão
| Modelo do Produto | Diâmetro Externo Maior (OD1) | Diâmetro Externo Menor (OD2) | Espessura da Parede (W) | Comprimento do Cone (L1) | Comprimento Total (L) | Geometria de Transição |
|---|---|---|---|---|---|---|
| KT-SYG-2515 | 25 mm (±0,3 mm) | 15 mm (±0,3 mm) | 2,0 mm (±0,2 mm) | 30 mm | 150 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-3825 | 38 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 2,5 mm (±0,3 mm) | 40 mm | 180 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-5025 | 50 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 50 mm | 200 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-6040 | 60 mm (±0,5 mm) | 40 mm (±0,5 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 50 mm | 220 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-8050 | 80 mm (±0,8 mm) | 50 mm (±0,5 mm) | 3,5 mm (±0,3 mm) | 60 mm | 250 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-10060 | 100 mm (±0,8 mm) | 60 mm (±0,5 mm) | 4,0 mm (±0,4 mm) | 80 mm | 300 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-12080 | 120 mm (±1,0 mm) | 80 mm (±0,8 mm) | 4,5 mm (±0,4 mm) | 90 mm | 320 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-150100 | 150 mm (±1,2 mm) | 100 mm (±0,8 mm) | 5,0 mm (±0,5 mm) | 100 mm | 350 mm | Conêntrico |
| KT-SYG-5025E | 50 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 55 mm | 200 mm | Exêntrico de Fundo Plano |
| KT-SYG-8050E | 80 mm (±0,8 mm) | 50 mm (±0,5 mm) | 3,5 mm (±0,3 mm) | 65 mm | 250 mm | Exêntrico de Fundo Plano |
| KT-SYG-10060E | 100 mm (±0,8 mm) | 60 mm (±0,5 mm) | 4,0 mm (±0,4 mm) | 85 mm | 300 mm | Exêntrico de Fundo Plano |
| KT-SYG-CUSTOM | 10 mm – 450 mm | 5 mm – 350 mm | 1,5 mm – 10,0 mm | Definido pelo Cliente | 50 mm – 1200 mm | Conêntrico / Exêntrico |
Propriedades Físicas e Térmicas do Material
| Parâmetro | Norma de Teste / Unidade | Valor / Característica |
|---|---|---|
| Composição Química | Espectroscopia | Quartzo Fundido de Alta Pureza (SiO2 ≥ 99,99%) |
| Densidade do Material | Arquimedes / g/cm³ | 2,20 g/cm³ |
| Temperatura Operacional Contínua | Limite Térmico em Serviço | 1100°C |
| Limite Operacional Máximo de Curto Prazo | Limiar de Pico de Excursão | 1250°C |
| Ponto de Amolecimento | ASTM C338 | 1730°C |
| Ponto de Recozimento | ASTM C336 | 1180°C |
| Ponto de Deformação | ASTM C336 | 1120°C |
| Coeficiente de Expansão Térmica (CTE) | Dilatometria (20°C – 1000°C) | 5,5 × 10⁻⁷ /°C |
| Resistência ao Choque Térmico | Teste de Têmpera em Água | 1100°C a 20°C Sem Fratura |
| Condutividade Térmica | 20°C / W/(m·K) | 1,4 W/(m·K) |
| Resistência à Tração | Teste Mecânico / MPa | 48 MPa |
| Resistência à Compressão | Teste Mecânico / MPa | 1100 MPa |
| Módulo de Young (Módulo de Elasticidade) | Ressonância Acústica / GPa | 72 GPa |
| Coeficiente de Poisson | Mecânico / Adimensional | 0,17 |
| Constante Dielétrica | 1 MHz a 25°C | 3,75 |
| Índice de Refração (nD) | Linha D de Sódio Óptica (589,3 nm) | 1,4585 |
| Transmitância Óptica | Espectrometria de 260 nm – 2500 nm | > 90% |
Perfil Típico de Impurezas Vestigiais Químicas
| Elemento | Símbolo | Concentração (ppm em peso) |
|---|---|---|
| Alumínio | Al | 12,0 – 16,0 |
| Ferro | Fe | 0,2 – 0,6 |
| Cálcio | Ca | 0,4 – 0,9 |
| Magnésio | Mg | 0,1 – 0,4 |
| Sódio | Na | 0,5 – 1,2 |
| Potássio | K | 0,4 – 0,8 |
| Lítio | Li | 0,2 – 0,5 |
| Cobre | Cu | < 0,05 |
| Impurezas Metálicas Totais | Conteúdo Total de Metais | < 20,0 ppm |
Opções de Terminação de Extremidade e Conexão
| Estilo de Terminação | Padrão Disponível | Conexão Típica de Aplicação |
|---|---|---|
| Extremidades Lisas Polidas a Fogo | Corte liso padrão e vitrificado a chama | Conexões Ultra-Torr, vedações de anel O-ring de compressão, flanges de extremidade de forno |
| Juntas Cônicas de Vidro Esmerilhado | Cone padrão ST 14/23, 19/26, 24/29, 29/32, 45/40 | Conexões de vidraria intercambiáveis diretas sem adaptadores de polímero |
| Juntas Esféricas de Esfera e Soquete | Juntas semi-esféricas S13, S19, S28, S35, S50 | Linhas de ajuste angular, juntas de expansão térmica livres de tensão |
| Extremidades de Flange Rápido com Rebordo | Extremidades com rebordo de quartzo para braçadeiras de anel O-ring | Acoplamentos de braçadeira para tubos de vácuo, manifolds de foreline de alta pureza |
| Flanges de Quartzo Fundido | Faces planas polidas com furos para parafusos ou bordas ranhuradas | Aparafusamento direto a conjuntos de vácuo metálicos ou visores de reatores |
Por Que Escolher Este Produto
- Tecnologia de Termoformação em Torno de Precisão: Tornos avançados automatizados para trabalhar vidro controlam a redução da espessura da parede na zona de transição cônica, eliminando pontos finos estruturais e estresses térmicos irregulares comuns em redutores puxados manualmente.
- Pureza de Material e Matriz Sem Compromissos: Proveniente estritamente de quartzo fundido eletricamente refinado, contendo menos de 20 ppm de impurezas metálicas cumulativas, protegendo lotes sensíveis de wafers, leitos catalíticos e deposições de filmes finos CVD contra contaminação cruzada elemental.
- Recozimento Validado com Zero Estresse: Cada peça passa por recozimento automatizado com rampa em forno seguido por inspeções abrangentes de tensão polariscópica, garantindo tensão mecânica residual zero e resiliência completa contra choque térmico.
- Engenharia de Layout Conêntrico e Exêntrico: Oferecido tanto em formas concêntricas padrão para dinâmica de fluxo simétrica quanto em configurações exêntricas de fundo plano que eliminam o acúmulo de condensado líquido em linhas horizontais de exaustão e recuperação.
- Customização Dimensional Abrangente: Projetamos proporções de diâmetro personalizadas, ângulos de transição exclusivos, comprimentos de perna estendidos e flanges de terminação sob medida combinados diretamente com ferramentas de processo proprietárias e fornos tubulares legados.
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