Materiais de laboratório
Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-BC
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Fórmula química
- BC
- Pureza
- 2N5
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
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Obtenha sua cotação agora! Deixe um recado Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappA preços razoáveis, oferecemos materiais de carboneto de boro (BC) para uso em laboratório. Somos especializados na produção e personalização de materiais de BC de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. A nossa gama de ofertas inclui alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, entre outros.
Detalhes
Sobre o carboneto de boro (BC)
Somos especializados na produção de alvos de pulverização de carboneto de boro (BC) de alta pureza para uso em aplicações de semicondutores, deposição química de vapor (CVD), deposição física de vapor (PVD), telas e ópticas. Os nossos alvos de pulverização catódica têm a maior densidade possível e os mais pequenos tamanhos médios de grão.
Os nossos alvos de pulverização catódica padrão para películas finas estão disponíveis em forma monobloco ou ligada com dimensões e configurações de alvo planas até 820 mm. São fornecidos com locais de perfuração, roscagem, biselagem, ranhuras e suporte concebidos para funcionar tanto com dispositivos de pulverização catódica mais antigos como com os mais recentes, incluindo revestimento de grandes áreas para energia solar ou células de combustível e aplicações de flip-chip. Oferecemos todas as formas e configurações de alvos compatíveis com todas as pistolas padrão.
Todos os alvos são submetidos a uma análise minuciosa utilizando as melhores técnicas demonstradas, incluindo a fluorescência de raios X (XRF), a espetrometria de massa de descarga luminescente (GDMS) e o plasma indutivamente acoplado (ICP).
A pulverização catódica é o processo de deposição de película fina utilizando material metálico ou óxido de pulverização catódica de pureza ultra elevada sobre outro substrato sólido através da remoção controlada e conversão do material alvo numa fase gasosa/plasma dirigida através de bombardeamento iónico. Os nossos materiais são produzidos utilizando cristalização, estado sólido e outros processos de purificação ultra elevada, como a sublimação.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é um alvo de pulverização catódica?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
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