Materiais de laboratório
Alvo de pulverização catódica de vanádio (V) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-V
O preço varia com base em specs and customizations
- Fórmula química
- V
- Pureza
- 3N
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.
Solicite sua cotação personalizada 👋
Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappFornecemos materiais de vanádio (V) para utilização laboratorial a preços competitivos. A nossa especialidade consiste em produzir e personalizar materiais de vanádio (V) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades individuais.
As nossas ofertas incluem uma variedade de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, entre outros.
Detalhes
Acerca do Vanádio (V)
O vanádio é um metal altamente resistente à corrosão, normalmente utilizado como liga em aço inoxidável. Os seus compostos são também utilizados em cerâmicas avançadas.
O pentóxido de vanádio, o composto de vanádio mais importante, é um catalisador na produção de ácido sulfúrico. O vanádio está disponível em várias formas, incluindo metal e compostos com purezas que vão desde o grau ACS até à pureza ultra-alta (99% a 99,999%).
Para materiais de origem de evaporação, são utilizadas formas elementares ou metálicas, como pellets, varetas, fios e grânulos. As nanopartículas e os nanopós de vanádio oferecem uma área de superfície ultra-elevada. Os óxidos de vanádio estão disponíveis em pó e em pellets densos para utilização em revestimentos ópticos e aplicações de película fina, mas tendem a ser insolúveis.
Os fluoretos de vanádio insolúveis são utilizados na metalurgia, na deposição química e física de vapor e em alguns revestimentos ópticos. Os compostos solúveis de vanádio, incluindo cloretos e acetatos, podem ser fabricados como soluções em estequiometrias específicas.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
O que são metais de elevada pureza?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que são utilizados os metais de elevada pureza?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
Quais são os benefícios da utilização de metais de elevada pureza?
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Que indústrias utilizam normalmente metais de elevada pureza?
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.8
out of
5
Absolutely satisfied with the custom-made Vanadium sputtering target! It perfectly meets our research requirements, offering exceptional quality and purity.
4.9
out of
5
The Vanadium powder exceeded our expectations. Its high purity and consistent particle size distribution have significantly improved our thin-film deposition process.
4.7
out of
5
The Vanadium wire we received was of exceptional quality. The fast delivery and excellent customer service made the entire experience seamless.
4.6
out of
5
The Vanadium block we purchased is precisely machined and meets our exact specifications. The material's purity ensures reliable results in our research.
5.0
out of
5
The Vanadium granules we ordered were top-notch. Their consistent size and purity have significantly enhanced the performance of our sputtering system.
4.8
out of
5
The custom-shaped Vanadium target we received was flawlessly manufactured. Its unique design has enabled us to achieve unprecedented results in our thin-film deposition experiments.
4.9
out of
5
The Vanadium coating material we purchased exhibited exceptional adhesion and uniformity. The results we obtained were remarkable.
4.7
out of
5
The Vanadium cylinders we received were precisely machined and met our stringent specifications. Their high quality has contributed to the success of our research.
4.6
out of
5
The Vanadium cones we ordered were of exceptional quality. Their unique shape allowed for efficient material utilization and improved deposition uniformity.
5.0
out of
5
The Vanadium particles we received were highly pure and exhibited a narrow particle size distribution. They have significantly improved the performance of our thin-film deposition process.
4.8
out of
5
The Vanadium foils we purchased were of exceptional quality. Their thinness and uniformity have enabled us to achieve remarkable results in our research.
4.9
out of
5
The Vanadium powders we ordered were of exceptional purity and fine particle size. They have significantly enhanced the performance of our sputtering system.
4.7
out of
5
The Vanadium 3D printing powders we received were of exceptional quality. Their flowability and printability have enabled us to create complex structures with high precision.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Compre materiais de óxido de vanádio (V2O3) para o seu laboratório a preços razoáveis. Oferecemos soluções personalizadas de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.
Tungsténio de alta pureza (W) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de tungsténio (W) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Oferecemos purezas, formas e tamanhos personalizados de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de cobalto (Co) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de cobalto (Co) a preços acessíveis para utilização em laboratório, adaptados às suas necessidades específicas. A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais. Contacte-nos hoje para obter soluções personalizadas!
Alvo de pulverização catódica de lantânio (La) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de Lantânio (La) de alta qualidade a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Escolha entre a nossa vasta gama de purezas, formas e tamanhos personalizados para satisfazer os seus requisitos específicos. Explore a nossa seleção de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós, fio-máquina e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de zinco (Zn) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de Zinco (Zn) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Navegue pela nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de antimónio de elevada pureza (Sb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de antimónio (Sb) de alta qualidade adaptados às suas necessidades específicas. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos a preços razoáveis. Navegue pelos nossos alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.
Diamante CVD para gestão térmica
Diamante CVD para gestão térmica: Diamante de alta qualidade com condutividade térmica até 2000 W/mK, ideal para dissipadores de calor, díodos laser e aplicações GaN on Diamond (GOD).
Alvo de pulverização catódica de crómio (Cr) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de crómio a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos formas e tamanhos personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, folhas, pós e muito mais. Contacte-nos hoje.
Diamante dopado com boro CVD: Um material versátil que permite uma condutividade eléctrica adaptada, transparência ótica e propriedades térmicas excepcionais para aplicações em eletrónica, ótica, deteção e tecnologias quânticas.
Alvo de pulverização catódica de háfnio (Hf) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de háfnio (Hf) de alta qualidade adaptados às necessidades do seu laboratório a preços razoáveis. Encontre várias formas e tamanhos para alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Encomendar agora.
Alvo de pulverização catódica de molibdénio (Mo) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de molibdénio (Mo) para o seu laboratório? Os nossos especialistas produzem formas e tamanhos personalizados a preços razoáveis. Escolha entre uma vasta seleção de especificações e tamanhos. Encomendar agora.
Alvo de pulverização catódica de paládio (Pd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de paládio a preços acessíveis para o seu laboratório? Oferecemos soluções personalizadas com diferentes purezas, formas e tamanhos - desde alvos de pulverização catódica a pós nanométricos e pós para impressão 3D. Consulte a nossa gama agora!
Liga de tântalo e tungsténio (TaW) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de alta qualidade em liga de tântalo e tungsténio (TaW)? Oferecemos uma vasta gama de opções personalizáveis a preços competitivos para utilização em laboratório, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Procura materiais de Óxido de Tungsténio (WO3) de alta qualidade? Os nossos produtos de qualidade laboratorial são adaptados às suas necessidades específicas, com uma gama de purezas, formas e tamanhos disponíveis. Compre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.
Revestimento de Diamante CVD: Condutividade Térmica Superior, Qualidade de Cristal e Adesão para Ferramentas de Corte, Atrito e Aplicações Acústicas
Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de carboneto de boro de alta qualidade a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Personalizamos materiais BC de diferentes purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Diamante CVD para ferramentas de dressagem
Experimente o Desempenho Imbatível dos Blanks de Dressadores de Diamante CVD: Alta Condutividade Térmica, Excecional Resistência ao Desgaste e Independência de Orientação.
Alvo de pulverização catódica de tântalo (Ta) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Descubra os nossos materiais de tântalo (Ta) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Adaptamo-nos às suas necessidades específicas com várias formas, tamanhos e purezas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de neodímio (Nd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de neodímio (Nd) de alta qualidade? Os nossos materiais de Nd de qualidade laboratorial estão disponíveis numa variedade de purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Compre hoje alvos de pulverização catódica, revestimentos, partículas e muito mais.
Blocos de ferramentas de corte
Ferramentas de corte de diamante CVD: Resistência superior ao desgaste, baixo atrito, elevada condutividade térmica para maquinagem de materiais não ferrosos, cerâmicas e compósitos
Alvo de pulverização catódica de zircónio de alta pureza (Zr) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de zircónio de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? A nossa gama de produtos acessíveis inclui alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais, adaptados às suas necessidades específicas. Contacte-nos hoje mesmo!
Barco de evaporação de molibdénio / tungsténio / tântalo
As fontes de barco de evaporação são utilizadas em sistemas de evaporação térmica e são adequadas para depositar vários metais, ligas e materiais. As fontes de barco de evaporação estão disponíveis em diferentes espessuras de tungsténio, tântalo e molibdénio para garantir a compatibilidade com uma variedade de fontes de energia. Como contentor, é utilizado para a evaporação sob vácuo de materiais. Podem ser utilizadas para a deposição de película fina de vários materiais ou concebidas para serem compatíveis com técnicas como o fabrico por feixe de electrões.
Cadinho de alumina (Al2O3) com tampa Cadinho de laboratório cilíndrico
Cadinhos Cilíndricos Os cadinhos cilíndricos são uma das formas mais comuns de cadinhos, adequados para fundir e processar uma grande variedade de materiais, e são fáceis de manusear e limpar.
Estes cadinhos funcionam como recipientes para o material de ouro evaporado pelo feixe de evaporação de electrões, ao mesmo tempo que direccionam com precisão o feixe de electrões para uma deposição precisa.
Forno de arco de vácuo Forno de fusão por indução
Descubra o poder do forno de arco a vácuo para a fusão de metais activos e refractários. Alta velocidade, efeito de desgaseificação notável e livre de contaminação. Saiba mais agora!
Cadinho de tungsténio / Cadinho de molibdénio com revestimento por evaporação por feixe de electrões
Os cadinhos de tungsténio e molibdénio são normalmente utilizados nos processos de evaporação por feixe de electrões devido às suas excelentes propriedades térmicas e mecânicas.
Fio de tungsténio evaporado termicamente
Tem um elevado ponto de fusão, condutividade térmica e eléctrica e resistência à corrosão. É um material valioso para indústrias de alta temperatura, vácuo e outras.