Materiais de laboratório
Alvo de pulverização catódica de bismuto (Bi) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-BI
O preço varia com base em specs and customizations
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.
Solicite sua cotação personalizada 👋
Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappOferecemos materiais de Bismuto (Bi) para utilização em laboratório a preços acessíveis. A nossa experiência consiste em produzir e adaptar materiais de Bismuto (Bi) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.
Fornecemos uma gama de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, etc.
Produtos principais
- Alvo de pulverização de bismuto: 99,999% de pureza. Tamanhos convencionais: φ25.4×3mm, φ30×4mm, φ76.2×3mm, φ100×5mm. Tamanhos personalizados disponíveis. Usado para revestimento de pulverização catódica por magnetron.
- Partículas de Bismuto: 99,959%-99,999% de pureza. Tamanhos convencionais: 1-6mm. Tamanhos personalizados disponíveis. Usado para revestimento por evaporação, fusão de ligas e muito mais.
- Bismuto em pó: 99,99% de pureza. Tamanhos convencionais: 200 mesh, 325 mesh, 500 mesh. Tamanhos personalizados disponíveis. Usado para metalurgia do pó.
Detalhes
Acerca do Bismuto (Bi)
O bismuto, um metal com propriedades únicas, encontrou inúmeras aplicações em vários sectores. A sua propriedade de expansão na solidificação torna-o um material ideal para fazer peças fundidas afiadas de objectos que são susceptíveis de serem danificados por altas temperaturas.
O bismuto forma ligas de baixo ponto de fusão com metais como o estanho, o cádmio, etc., que são amplamente utilizados em dispositivos de segurança para sistemas de deteção e extinção de incêndios. Além disso, o bismuto é utilizado na produção de ferros maleáveis e como catalisador para o fabrico de fibras acrílicas.
Quando aquecido no ar, o bismuto arde com uma chama azul, formando fumos amarelos do óxido. É também utilizado como material de acoplamento térmico e como transportador de combustível 235 U ou 233 U em reactores nucleares. Os seus sais solúveis são úteis para trabalhos de deteção, uma vez que formam sais básicos não solúveis com a água.
O oxicloreto de bismuto é amplamente utilizado em cosméticos, enquanto as formas elementares ou metálicas de bismuto, tais como pastilhas, varetas, fios e grânulos, são utilizadas como material de evaporação. O óxido de bismuto está disponível em formas como pós e pastilhas densas, úteis para aplicações como revestimento ótico e película fina.
Os fluoretos de bismuto, que são insolúveis, são utilizados na metalurgia, na deposição química e física de vapor e em alguns revestimentos ópticos. Além disso, o bismuto está disponível em formas solúveis, como cloretos, nitratos e acetatos, fabricados como soluções em estequiometrias específicas.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
O que são metais de elevada pureza?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que são utilizados os metais de elevada pureza?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
Quais são os benefícios da utilização de metais de elevada pureza?
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Que indústrias utilizam normalmente metais de elevada pureza?
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.8
out of
5
The Bismuth (Bi) Sputtering Target exceeded our expectations. It's a perfect fit for our magnetron sputtering coating system.
4.9
out of
5
The Bismuth (Bi) Powder was delivered promptly and met all our specifications. We will definitely order again.
4.7
out of
5
The Bismuth (Bi) Block is of the highest quality and has helped improve the efficiency of our research.
4.8
out of
5
The Bismuth (Bi) Wire is perfect for our evaporation source material. It's pure and consistent.
4.9
out of
5
KINTEK's Bismuth (Bi) materials are top-notch. We've been using them for years and have never been disappointed.
4.7
out of
5
The Bismuth (Bi) Granules arrived quickly and were exactly as described. They're perfect for our alloy melting process.
4.8
out of
5
We're very satisfied with the Bismuth (Bi) Sputtering Target. It's made our coating process much more efficient.
4.9
out of
5
The Bismuth (Bi) Powder is of exceptional quality and has helped us achieve better results in our research.
4.7
out of
5
We highly recommend the Bismuth (Bi) Block. It's a great addition to our laboratory equipment.
4.8
out of
5
The Bismuth (Bi) Wire is exactly what we needed for our evaporation coating process. Thank you, KINTEK!
4.9
out of
5
We've been using KINTEK's Bismuth (Bi) materials for years and have always been impressed with their quality and consistency.
4.7
out of
5
The Bismuth (Bi) Granules are perfect for our powder metallurgy process. They're uniform in size and purity.
4.8
out of
5
We're very happy with the Bismuth (Bi) Sputtering Target. It's helped us improve the quality of our thin films.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Obtenha materiais de Óxido de Bismuto (Bi2O3) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços razoáveis. Escolha entre uma vasta gama de tamanhos e formas para satisfazer as suas necessidades específicas. Encomendar agora!
Alvo de pulverização catódica de antimónio de elevada pureza (Sb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de antimónio (Sb) de alta qualidade adaptados às suas necessidades específicas. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos a preços razoáveis. Navegue pelos nossos alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.
Descubra os nossos materiais de alta qualidade em liga de prata e bismuto de estanho a preços razoáveis. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos personalizados para as necessidades do seu laboratório. Compre alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais hoje.
Alvo de pulverização catódica de boro de alta pureza (B) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de Boro (B) a preços acessíveis, adaptados às necessidades específicas do seu laboratório. Nossos produtos variam de alvos de pulverização catódica a pós para impressão 3D, cilindros, partículas e muito mais. Contacte-nos hoje.
Alvo de pulverização catódica de térbio (Tb) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Compre materiais de térbio (Tb) de alta qualidade a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Oferecemos formas, tamanhos e purezas personalizados para atender às suas necessidades exclusivas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de itérbio (Yb) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de itérbio (Yb) para o seu laboratório? A nossa experiência consiste em produzir materiais de Yb personalizados de várias purezas, formas e tamanhos. Escolha entre a nossa vasta gama de especificações e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Preços acessíveis.
Alvo de pulverização catódica de zinco (Zn) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de Zinco (Zn) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Navegue pela nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.
Compósito condutor-cerâmica de nitreto de boro (BN)
Devido às características do próprio nitreto de boro, a constante dieléctrica e a perda dieléctrica são muito pequenas, pelo que é um material isolante elétrico ideal.
Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de carboneto de boro de alta qualidade a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Personalizamos materiais BC de diferentes purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Peças cerâmicas de nitreto de boro (BN)
O nitreto de boro ((BN) é um composto com elevado ponto de fusão, elevada dureza, elevada condutividade térmica e elevada resistividade eléctrica. A sua estrutura cristalina é semelhante à do grafeno e mais dura do que o diamante.
Alvo de pulverização catódica de nitreto de boro (BN) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Compre materiais de nitreto de boro para as suas necessidades laboratoriais a preços razoáveis. Adaptamos os materiais às suas necessidades com diferentes purezas, formas e tamanhos. Escolha entre uma vasta gama de especificações e tamanhos.
Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de chumbo (Pb) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? Não procure mais do que a nossa seleção especializada de opções personalizáveis, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos!
Fluoreto de itérbio (YbF3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Compre materiais de alta qualidade de Fluoreto de Itérbio (YbF3) para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Oferecemos formas e tamanhos personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Contacte-nos hoje mesmo!
Sulfureto de antimónio (Sb2S3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de alta qualidade de Sulfureto de Antimónio (Sb2S3) para o seu laboratório a preços razoáveis. Os nossos produtos personalizáveis incluem alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais. Encomendar agora!
Espaçador de nitreto de boro hexagonal (HBN) - Perfil de came e vários tipos de espaçadores
As juntas de nitreto de boro hexagonal (HBN) são fabricadas a partir de peças em bruto de nitreto de boro prensadas a quente. Propriedades mecânicas semelhantes às da grafite, mas com uma excelente resistência eléctrica.
Fluoreto de bário (BaF2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Compre materiais de Fluoreto de Bário (BaF2) a preços acessíveis. Adaptamo-nos às suas necessidades com uma gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Encomendar agora.
Tubo cerâmico de nitreto de boro (BN)
O nitreto de boro (BN) é conhecido pela sua elevada estabilidade térmica, excelentes propriedades de isolamento elétrico e propriedades de lubrificação.
Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (B4C) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de alta qualidade de Carboneto de Boro (B4C) para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Oferecemos materiais personalizados de diferentes purezas, formas e tamanhos para atender às suas necessidades exclusivas, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, partículas e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de índio de elevada pureza (In) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Looking for high-quality Indium materials for laboratory use? Look no further! Our expertise lies in producing tailored Indium materials of varying purities, shapes, and sizes. We offer a wide range of Indium products to suit your unique requirements. Order now at reasonable prices!
Placa de cerâmica de nitreto de boro (BN)
As placas cerâmicas de nitreto de boro (BN) não utilizam água de alumínio para molhar e podem fornecer uma proteção abrangente para a superfície de materiais que contactam diretamente com alumínio fundido, magnésio, ligas de zinco e respectivas escórias.
substrato / janela de fluoreto de bário (BaF2)
O BaF2 é o cintilador mais rápido, procurado pelas suas propriedades excepcionais. As suas janelas e placas são valiosas para a espetroscopia VUV e de infravermelhos.
Cadinho de nitreto de boro (BN) - Pó de fósforo sinterizado
O cadinho de nitreto de boro (BN) sinterizado com pó de fósforo tem uma superfície lisa, densa, sem poluição e com uma longa vida útil.
Haste de cerâmica de nitreto de boro (BN)
A vareta de nitreto de boro (BN) é a forma cristalina de nitreto de boro mais forte como a grafite, que tem um excelente isolamento elétrico, estabilidade química e propriedades dieléctricas.
Peças personalizadas em cerâmica de nitreto de boro (BN)
As cerâmicas de nitreto de boro (BN) podem ter diferentes formas, pelo que podem ser fabricadas para gerar alta temperatura, alta pressão, isolamento e dissipação de calor para evitar a radiação de neutrões.
Titanato de bário (BaTiO3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Descubra a nossa gama de materiais personalizados de titanato de bário (BaTiO3) para utilização em laboratório. Fornecemos uma seleção diversificada de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços razoáveis e soluções personalizadas.