Conhecimento Quando foi inventado o sputtering? (4 pontos-chave explicados)
Avatar do autor

Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

Quando foi inventado o sputtering? (4 pontos-chave explicados)

A pulverização catódica foi observada e estudada pela primeira vez em 1852 por William Robert Grove.

Grove realizou experiências em que utilizou uma ponta de arame como fonte de revestimento e pulverizou um depósito sobre uma superfície de prata altamente polida a uma pressão de cerca de 0,5 Torr.

Embora Grove tenha sido o primeiro a estudar este fenómeno, ele foi observado por outros antes dele através do exame de descargas incandescentes.

Quando é que o sputtering foi inventado? (4 pontos-chave explicados)

Quando foi inventado o sputtering? (4 pontos-chave explicados)

1. A observação inicial

A pulverização catódica foi observada e estudada pela primeira vez em 1852 por William Robert Grove.

Grove realizou experiências em que utilizou uma ponta de arame como fonte de revestimento e pulverizou um depósito sobre uma superfície de prata altamente polida a uma pressão de cerca de 0,5 Torr.

Embora Grove tenha sido o primeiro a estudar este fenómeno, ele foi observado por outros antes dele através do exame de descargas incandescentes.

2. A evolução da pulverização catódica

O processo de pulverização catódica envolve a ejeção de átomos ou moléculas da superfície de um material devido ao bombardeamento por partículas de alta energia.

Esta técnica permaneceu uma curiosidade científica até aos anos 40, altura em que começou a ser utilizada comercialmente como processo de revestimento, nomeadamente com a pulverização catódica de díodos.

No entanto, a pulverização catódica por díodos tinha limitações, tais como baixas taxas de deposição e custos elevados.

Estas questões levaram ao desenvolvimento da pulverização catódica por magnetrões em meados da década de 1970, uma variante magneticamente reforçada que melhorou os métodos anteriores.

3. Aplicações modernas

A pulverização catódica evoluiu significativamente desde a sua observação inicial na década de 1850.

Tornou-se uma abordagem madura para a deposição de vários materiais de película fina e encontrou aplicações que vão desde revestimentos reflectores para espelhos e materiais de embalagem a dispositivos semicondutores avançados.

A tecnologia tem continuado a progredir, com mais de 45 000 patentes americanas emitidas desde 1976 relacionadas com a pulverização catódica, realçando a sua importância na ciência e tecnologia dos materiais.

4. O impacto da pulverização catódica

Em resumo, a invenção da pulverização catódica pode ser rastreada até 1852, quando William Robert Grove estudou e demonstrou o processo pela primeira vez.

Desde então, tem sofrido um desenvolvimento significativo e é atualmente uma técnica amplamente utilizada em várias indústrias devido à sua versatilidade e aos avanços na tecnologia de pulverização catódica.

Continue a explorar, consulte os nossos especialistas

Experimente a evolução da tecnologia de pulverização catódica com a KINTEK SOLUTION. Como pioneiros na ciência dos materiais e na tecnologia de película fina, oferecemos soluções de ponta que avançaram desde a descoberta de Grove em 1852 até aos sofisticados processos actuais de pulverização catódica por magnetrão.

Junte-se às mais de 45.000 patentes que comprovam a importância da pulverização catódica na sua indústria, tirando partido da experiência e inovação da KINTEK SOLUTION. Eleve o seu projeto hoje mesmo com o nosso equipamento e serviços de pulverização catódica sem paralelo.

Contacte-nos agora para libertar o potencial das suas aplicações!

Produtos relacionados

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Forno de sinterização por plasma de faísca Forno SPS

Descubra as vantagens dos fornos de sinterização por plasma de faísca para a preparação rápida e a baixa temperatura de materiais. Aquecimento uniforme, baixo custo e amigo do ambiente.

Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de carboneto de boro (BC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de carboneto de boro de alta qualidade a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Personalizamos materiais BC de diferentes purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Sistema de fiação por indução de fusão por vácuo Forno de fusão a arco

Sistema de fiação por indução de fusão por vácuo Forno de fusão a arco

Desenvolva materiais metaestáveis com facilidade utilizando o nosso sistema de fiação por fusão em vácuo. Ideal para investigação e trabalho experimental com materiais amorfos e microcristalinos. Encomende agora para obter resultados efectivos.

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Máquina de revestimento PECVD de deposição por evaporação reforçada por plasma

Actualize o seu processo de revestimento com equipamento de revestimento PECVD. Ideal para LED, semicondutores de potência, MEMS e muito mais. Deposita películas sólidas de alta qualidade a baixas temperaturas.

Forno de prensagem a quente com tubo de vácuo

Forno de prensagem a quente com tubo de vácuo

Reduzir a pressão de formação e diminuir o tempo de sinterização com o forno de prensagem a quente com tubo de vácuo para materiais de alta densidade e grão fino. Ideal para metais refractários.

Alvo de pulverização catódica de alumínio (Al) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de alumínio (Al) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de alumínio (Al) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Oferecemos soluções personalizadas, incluindo alvos de pulverização catódica, pós, folhas, lingotes e muito mais para satisfazer as suas necessidades específicas. Encomende agora!

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de chumbo (Pb) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? Não procure mais do que a nossa seleção especializada de opções personalizáveis, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos!

Alvo de pulverização catódica de estanho de elevada pureza (Sn) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de estanho de elevada pureza (Sn) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de estanho (Sn) de alta qualidade para utilização em laboratório? Os nossos especialistas oferecem materiais de estanho (Sn) personalizáveis a preços razoáveis. Consulte a nossa gama de especificações e tamanhos hoje mesmo!

Irídio de alta pureza (Ir) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Irídio de alta pureza (Ir) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de Irídio (Ir) de alta qualidade para utilização em laboratório? Não procure mais! Os nossos materiais produzidos e adaptados por especialistas estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos para se adaptarem às suas necessidades específicas. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais. Obtenha um orçamento hoje mesmo!

Liga de tungsténio e titânio (WTi) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Liga de tungsténio e titânio (WTi) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Descubra os nossos materiais de liga de tungsténio e titânio (WTi) para utilização em laboratório a preços acessíveis. A nossa experiência permite-nos produzir materiais personalizados de diferentes purezas, formas e tamanhos. Escolha entre uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.

Liga de cobre e zircónio (CuZr) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Liga de cobre e zircónio (CuZr) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Descubra a nossa gama de materiais de ligas de cobre e zircónio a preços acessíveis, adaptados às suas necessidades específicas. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de ferro (Fe) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de ferro (Fe) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de ferro (Fe) a preços acessíveis para utilização em laboratório? A nossa gama de produtos inclui alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais em várias especificações e tamanhos, adaptados às suas necessidades específicas. Contacte-nos hoje mesmo!

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecido com plasma e radiofrequência

RF-PECVD é um acrónimo de "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (película de carbono tipo diamante) em substratos de germânio e silício. É utilizado na gama de comprimentos de onda infravermelhos de 3-12um.

Cadinho de grafite para evaporação por feixe de electrões

Cadinho de grafite para evaporação por feixe de electrões

Uma tecnologia utilizada principalmente no domínio da eletrónica de potência. É uma película de grafite feita de material de origem de carbono por deposição de material utilizando a tecnologia de feixe de electrões.

Alvo de pulverização catódica de crómio (Cr) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de crómio (Cr) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de crómio a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos formas e tamanhos personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, folhas, pós e muito mais. Contacte-nos hoje.

Cadinho de feixe de electrões

Cadinho de feixe de electrões

No contexto da evaporação por feixe de canhão de electrões, um cadinho é um recipiente ou suporte de fonte utilizado para conter e evaporar o material a depositar num substrato.


Deixe sua mensagem