A pulverização catódica foi observada e estudada pela primeira vez em 1852 por William Robert Grove. Grove realizou experiências em que utilizou uma ponta de arame como fonte de revestimento e pulverizou um depósito sobre uma superfície de prata altamente polida a uma pressão de cerca de 0,5 Torr. Embora Grove tenha sido o primeiro a estudar este fenómeno, ele foi observado por outros antes dele através do exame de descargas incandescentes.
O processo de pulverização catódica envolve a ejeção de átomos ou moléculas da superfície de um material devido ao bombardeamento por partículas de alta energia. Esta técnica permaneceu uma curiosidade científica até aos anos 40, altura em que começou a ser utilizada comercialmente como processo de revestimento, nomeadamente com a pulverização catódica de díodos. No entanto, a pulverização catódica por díodos tinha limitações, tais como baixas taxas de deposição e custos elevados. Estas questões levaram ao desenvolvimento da pulverização catódica por magnetrão em meados da década de 1970, uma variante magneticamente reforçada que melhorou os métodos anteriores.
A pulverização catódica evoluiu significativamente desde a sua observação inicial na década de 1850. Tornou-se uma abordagem madura para a deposição de vários materiais de película fina e encontrou aplicações que vão desde revestimentos reflectores para espelhos e materiais de embalagem a dispositivos semicondutores avançados. A tecnologia tem continuado a avançar, com mais de 45.000 patentes americanas emitidas desde 1976 relacionadas com a pulverização catódica, realçando a sua importância na ciência e tecnologia dos materiais.
Em resumo, a invenção da pulverização catódica remonta a 1852, quando William Robert Grove estudou e demonstrou o processo pela primeira vez. Desde então, tem sofrido um desenvolvimento significativo e é atualmente uma técnica amplamente utilizada em várias indústrias devido à sua versatilidade e aos avanços na tecnologia de pulverização catódica.
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