A Deposição Química em Vapor (CVD) é um processo complexo utilizado para criar películas finas em substratos.
Quais são os 6 passos da CVD?
1. Introdução de produtos químicos precursores
A primeira etapa do processo de CVD consiste em introduzir os produtos químicos precursores no reator de CVD.
Estes precursores químicos são os gases reagentes que irão sofrer reacções químicas para formar a película fina desejada no substrato.
2. Transporte das moléculas precursoras
Uma vez no interior do reator, as moléculas precursoras têm de ser transportadas para a superfície do substrato.
Este transporte é normalmente efectuado através de uma combinação de transporte fluido e difusão.
3. Adsorção na superfície do substrato
As moléculas precursoras são então adsorvidas na superfície do substrato.
A adsorção refere-se à ligação destas moléculas à superfície do substrato.
4. Reacções químicas
As moléculas precursoras adsorvidas sofrem reacções químicas com o material do substrato para formar a película fina desejada.
Estas reacções podem ocorrer na superfície do substrato ou muito perto dela.
5. Dessorção de subprodutos
À medida que as reacções químicas ocorrem, formam-se moléculas de subprodutos.
Estas moléculas de subprodutos têm de ser dessorvidas da superfície do substrato para dar lugar a mais moléculas precursoras.
A dessorção refere-se à libertação destas moléculas da superfície.
6. Evacuação dos subprodutos
Os subprodutos gasosos das reacções são então evacuados da câmara de reação.
Isto é necessário para manter um ambiente limpo para o processo de deposição.
É importante notar que o processo CVD pode ocorrer em diferentes condições, tais como CVD à pressão atmosférica, CVD a baixa pressão e CVD a ultra-alto vácuo.
Além disso, existem várias classificações e variações de CVD, como a CVD com plasma, a CVD assistida por laser e a CVD foto-assistida, que envolvem diferentes fontes de energia para a ativação dos gases reagentes.
Continue a explorar, consulte os nossos especialistas
Está à procura de equipamento de laboratório de alta qualidade para o seu processo de deposição química de vapor (CVD)?
A KINTEK é a solução! O nosso equipamento avançado assegura um controlo preciso da introdução do gás reagente, do transporte de fluidos e da difusão, conduzindo à formação de películas finas com uma qualidade excecional.
Actualize o seu laboratório com a KINTEK e obtenha resultados superiores no seu processo CVD.
Contacte-nos hoje mesmo!
