A deposição de vapor é um processo utilizado para depositar películas finas de materiais num substrato.
Existem diferentes métodos de deposição de vapor, mas os mais comuns são a deposição química de vapor (CVD) e a deposição física de vapor (PVD).
Como funciona a deposição de vapor? 5 métodos principais explicados
1. Deposição de Vapor Químico (CVD)
Na deposição de vapor químico, um precursor volátil é injetado numa câmara sob vácuo.
A câmara é aquecida a uma temperatura de reação, fazendo com que o gás precursor reaja ou se decomponha no revestimento pretendido.
Os produtos da reação ligam-se então à superfície do material, formando uma película fina.
Este método permite um controlo preciso do processo de deposição e a capacidade de produzir grandes quantidades de películas finas.
2. Deposição Física de Vapor (PVD)
A deposição física de vapor utiliza um processo físico para depositar películas finas.
Neste método, o material alvo é primeiro vaporizado de uma forma sólida para plasma ou iões.
O material vaporizado é então transferido para a superfície do substrato e permite-se que se condense e cresça numa película.
A deposição física de vapor pode ser realizada através de diferentes técnicas, como a evaporação térmica, a pulverização catódica ou a evaporação por feixe de electrões.
3. Evaporação térmica
A evaporação térmica envolve a vaporização do material alvo utilizando energia térmica de um elemento de aquecimento ou de um feixe de electrões.
O material vaporizado é transportado através de um vácuo elevado e depositado no substrato, onde se condensa e cresce numa película sólida.
Este método é normalmente utilizado para depositar metais puros, não-metais, óxidos e nitretos.
4. Sputtering
A pulverização catódica é outra técnica utilizada na deposição física de vapor.
Envolve o bombardeamento do material alvo com iões de alta energia, fazendo com que os átomos sejam ejectados da superfície do alvo.
Estes átomos ejectados viajam então em linha reta e depositam-se no substrato, formando uma película fina.
A pulverização catódica pode ser efectuada em modo DC ou RF, dependendo dos requisitos do processo de deposição.
5. Processo geral
Em geral, os sistemas de deposição de vapor funcionam através da conversão do material alvo num vapor ou plasma.
O material vaporizado é transportado para o substrato e permite-se que se condense e cresça numa película fina.
A escolha do método de deposição e dos parâmetros como a pressão da câmara, a temperatura do substrato e o tempo de deposição afectarão as propriedades físicas do material depositado e a espessura da película.
A deposição de vapor é amplamente utilizada em várias indústrias, como o fabrico de semicondutores, revestimentos ópticos e células solares de película fina.
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