Existem diferentes tipos de deposição?
Sim, existem diferentes tipos de deposição, particularmente no contexto das técnicas de deposição em vácuo. As duas categorias principais são a Deposição de Vapor Físico (PVD) e a Deposição de Vapor Químico (CVD).
Deposição de Vapor Físico (PVD):
A PVD envolve a vaporização de um material sólido utilizando fontes de alta energia, como feixes de electrões ou plasmas, ou através de um simples aquecimento. O material vaporizado condensa-se então num substrato para formar uma película fina. A PVD é versátil, capaz de depositar uma vasta gama de materiais, incluindo metais, ligas e cerâmicas. É normalmente utilizado em aplicações como revestimentos, tratamentos de superfície e fabrico de semicondutores. O processo garante uma camada uniforme devido à ausência de moléculas de ar que poderiam interferir com a deposição.Deposição de Vapor Químico (CVD):
A CVD é um processo utilizado para criar camadas finas ou espessas de uma substância, átomo a átomo ou molécula a molécula, numa superfície sólida. A camada depositada altera as propriedades da superfície do substrato consoante a aplicação. A espessura das camadas pode variar de um único átomo (nanómetro) a vários milímetros. Os métodos CVD incluem várias técnicas para criar camadas de diferentes materiais em várias superfícies, tais como pulverização, revestimento por rotação, revestimento e métodos de deposição em vácuo.
