A temperatura do processo PVD varia normalmente entre 50 e 600 graus Celsius.
Esta gama de temperaturas é necessária para a evaporação de metais e outros elementos.
Estes elementos são depois redepositados num substrato adequado para formar películas finas e revestimentos.
A temperatura específica utilizada depende do material que está a ser evaporado e das propriedades desejadas do revestimento.
5 pontos-chave a saber sobre a temperatura do processo PVD
1. Faixa de temperatura para evaporação
O processo PVD é realizado numa câmara com uma atmosfera controlada a uma pressão reduzida.
Esta pressão situa-se normalmente entre 0,1 e 1 N/m².
2. Deposição em linha de vista
Este ambiente facilita o método de deposição por "linha de visão".
Os átomos do material sólido passam através da câmara e incorporam-se nos objectos que se encontram no seu caminho.
Para obter um revestimento uniforme, o objeto deve ser posicionado corretamente dentro da câmara durante o processo de deposição.
3. Tipos de técnicas de PVD
Existem três tipos principais de técnicas de PVD: evaporação térmica, pulverização catódica e revestimento iónico.
A evaporação térmica envolve o aquecimento de um material para formar um vapor que se condensa num substrato para formar o revestimento.
Este aquecimento pode ser conseguido através de vários métodos, tais como filamentos quentes, resistência eléctrica, feixes de electrões ou de laser e arco elétrico.
4. Sputtering e revestimento iónico
A pulverização catódica e a metalização iónica são outros métodos que também funcionam dentro das condições especificadas de temperatura e pressão do processo PVD.
5. Caraterísticas do processo PVD
Em geral, o processo PVD caracteriza-se pela sua baixa pressão (alto vácuo) e temperaturas comparativamente baixas.
Isto resulta em revestimentos muito finos, normalmente na gama de 1 a 10µm.
Estes revestimentos são utilizados para várias aplicações, incluindo a melhoria da resistência ao desgaste de ferramentas de aço através da deposição de materiais como o nitreto de titânio.
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