Conhecimento O que é o processo de PVD? 5 passos fundamentais para compreender a deposição física de vapor
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Atualizada há 3 semanas

O que é o processo de PVD? 5 passos fundamentais para compreender a deposição física de vapor

A deposição física de vapor (PVD) é um processo utilizado para depositar uma película fina de material num substrato.

Este processo é normalmente utilizado no fabrico de semicondutores e noutras indústrias.

O PVD envolve várias etapas fundamentais: vaporização, transporte e condensação.

5 passos fundamentais para compreender a deposição física de vapor

O que é o processo de PVD? 5 passos fundamentais para compreender a deposição física de vapor

1. Vaporização

O primeiro passo na PVD é a vaporização.

Isto envolve a conversão do material a ser depositado num estado de vapor.

A vaporização é normalmente conseguida através de eletricidade de alta potência, lasers ou outros métodos de aquecimento.

O objetivo é gaseificar o material precursor sólido em condições de vácuo a alta temperatura.

2. Transporte

Quando o material se encontra no estado de vapor, é transportado através de uma região de baixa pressão desde a sua fonte até ao substrato.

Esta etapa requer um ambiente de vácuo para minimizar as colisões com outras partículas.

O vácuo assegura um movimento eficiente dos átomos ou moléculas vaporizados.

3. Condensação

A etapa final envolve a condensação do vapor no substrato.

Quando os átomos vaporizados atingem o substrato, aderem à sua superfície e formam uma película fina através do processo de condensação.

Isto resulta numa deposição eficiente e de elevada pureza do material.

4. Métodos PVD

Os métodos PVD são preferidos pela sua capacidade de produzir películas finas com elevada pureza e eficiência.

Os dois métodos mais comuns de PVD são a pulverização catódica e a evaporação térmica.

A pulverização catódica é o método mais utilizado no fabrico de dispositivos de integração em muito grande escala (VLSI).

É particularmente eficaz para depositar películas finas de materiais.

5. Aplicações ambientais e industriais

A PVD é um processo amigo do ambiente.

Oferece a vantagem de depositar praticamente qualquer material inorgânico.

Isto torna-o versátil e valioso em várias aplicações industriais.

As películas produzidas podem variar de alguns angstroms a milhares de angstroms de espessura.

As taxas de deposição variam tipicamente de 1-100 A/s.

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