Quando se trata de deposição de película fina, dois dos métodos mais comuns são a evaporação térmica e a epitaxia por feixe molecular (MBE).
5 Principais diferenças explicadas
1. Método de Vaporização
A evaporação térmica utiliza o calor para vaporizar os materiais.
A MBE, por outro lado, utiliza um feixe de partículas de alta energia para depositar com precisão películas finas.
2. Adequação do material
A evaporação térmica é adequada para materiais com pressões de vapor mais elevadas e pontos de fusão mais baixos.
A MBE pode lidar com materiais com pressões de vapor mais baixas e pontos de fusão mais altos.
3. Precisão e Controlo
A MBE oferece maior precisão e controlo sobre o processo de deposição.
A evaporação térmica, embora eficaz, não oferece o mesmo nível de precisão.
4. Taxa de deposição e pureza
A evaporação por feixe de electrões (uma forma de MBE) tem normalmente uma taxa de deposição mais elevada e resulta em películas menos densas e mais puras.
A evaporação térmica pode ser mais propensa a impurezas devido ao aquecimento do cadinho.
5. Aplicações específicas
A MBE é ideal para aplicações avançadas no fabrico de semicondutores.
A evaporação térmica é uma técnica mais simples e direta para a deposição geral de películas finas.
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