Na Deposição Física de Vapor (PVD), os gases desempenham um papel crucial na formação de vários compostos que melhoram as propriedades do material do substrato.
Os 3 principais gases utilizados em PVD: Oxigénio, Nitrogénio e Metano
Oxigénio
O oxigénio é normalmente utilizado no processo PVD.
Reage com átomos de metal para formar óxidos metálicos.
Esta reação ocorre durante a fase de transporte.
A formação de óxidos metálicos é essencial para aplicações que requerem resistência à oxidação e dureza melhorada.
Nitrogénio
O azoto é outro gás fundamental utilizado na PVD.
É particularmente importante em processos como o sputtering.
O material alvo é frequentemente um metal como o titânio.
A reação entre o azoto e o titânio leva à formação de nitreto de titânio (TiN).
O TiN é um composto duro e resistente ao desgaste.
Esta reação é reforçada pela presença de azoto gasoso no ambiente de plasma.
Metano
O metano é utilizado nos processos PVD para formar carbonetos.
É particularmente eficaz quando o material alvo é um metal que pode formar carbonetos estáveis.
A reação entre o metano e os átomos de metal resulta na deposição de carbonetos metálicos.
Os carbonetos metálicos são conhecidos pela sua dureza e resistência ao desgaste.
Este gás é normalmente utilizado em aplicações específicas em que a formação de carbonetos é benéfica.
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