A pulverização catódica por magnetrão RF é uma técnica utilizada em várias indústrias para depositar películas finas em substratos. No entanto, apresenta vários inconvenientes que podem afetar a sua eficiência e relação custo-eficácia.
Quais são as 9 desvantagens da pulverização catódica por magnetrão RF?
1. Menor taxa de deposição
A pulverização catódica RF tem uma taxa de deposição mais baixa em comparação com outras técnicas de pulverização catódica, como a pulverização catódica DC pulsada. Isto significa que demora mais tempo a depositar uma espessura de película desejada.
2. Maior necessidade de energia
A pulverização catódica por RF requer tensões mais elevadas para aumentar a taxa de pulverização. Isto leva a mais efeitos de aquecimento no substrato, o que pode ser indesejável em certas aplicações.
3. Complexidade e custo
A pulverização catódica RF é mais complicada e dispendiosa do que a pulverização catódica DC tradicional. Requer conectores e cabos especiais para que a corrente RF seja transportada para a superfície dos condutores.
4. Taxas de deposição mais baixas para alguns materiais
A pulverização catódica RF pode ter taxas de deposição muito baixas para determinados materiais, em comparação com outras técnicas de pulverização catódica. Este facto pode limitar a sua aplicabilidade em determinadas aplicações.
5. Circuitos adicionais de fornecimento de energia e de correspondência de impedância
A aplicação de potência de RF na pulverização catódica requer uma fonte de alimentação dispendiosa e circuitos adicionais de correspondência de impedância, aumentando o custo global e a complexidade do sistema.
6. Campos magnéticos dispersos
A fuga de campos magnéticos dos alvos ferromagnéticos pode perturbar o processo de pulverização. Para evitar esta situação, é necessário utilizar pistolas de pulverização catódica com ímanes permanentes fortes, o que aumenta o custo do sistema.
7. Geração de calor
A maior parte da energia incidente no alvo transforma-se em energia térmica, que tem de ser eficientemente removida para evitar danos térmicos no substrato ou na película.
8. Dificuldade em depositar uniformemente em estruturas complexas
A pulverização catódica por RF pode ser difícil de depositar uniformemente em estruturas complexas, como pás de turbinas. Isto limita a sua aplicação em certas indústrias.
9. Níveis mais altos de tensão residual interna
Pode ser difícil produzir revestimentos espessos de alto desempenho com pulverização catódica por RF devido aos níveis mais elevados de tensão residual interna. Isto pode afetar a qualidade geral e o desempenho das películas depositadas.
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