Conhecimento Qual é a espessura de um alvo de pulverização catódica?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 3 meses

Qual é a espessura de um alvo de pulverização catódica?

A espessura de um alvo de pulverização catódica pode variar consoante o material utilizado e a natureza da película fina que está a ser criada.

Para a pulverização catódica magnetrónica de materiais magnéticos como o níquel, é utilizado um alvo mais fino, normalmente uma folha ou chapa com menos de 1 mm de espessura.

Para alvos metálicos normais, uma espessura de até 4 a 5 mm é considerada aceitável. O mesmo se aplica aos alvos de óxido.

O tamanho e a forma dos alvos de pulverização catódica também podem variar muito. Os alvos mais pequenos podem ter menos de uma polegada (2,5 cm) de diâmetro, enquanto os maiores alvos rectangulares podem atingir bem mais de uma jarda (0,9 m) de comprimento. Nalguns casos, podem ser necessários alvos maiores, e os fabricantes podem criar alvos segmentados ligados por juntas especiais.

As formas habitualmente utilizadas para alvos de pulverização catódica são circulares e rectangulares, embora também possam ser produzidas outras formas, como quadradas e triangulares.

As dimensões padrão dos alvos circulares variam entre 1" e 20" de diâmetro, e os alvos rectangulares podem estar disponíveis em comprimentos até e superiores a 2000 mm, dependendo do metal e de se tratar de uma construção de peça única ou múltipla.

Os métodos de fabrico de alvos de pulverização catódica dependem das propriedades do material do alvo e da sua aplicação. Podem ser utilizados os métodos de fusão e laminação a vácuo, prensagem a quente, processo especial de sinterização por prensagem, prensagem a quente a vácuo e forjamento.

Os alvos de pulverização catódica são normalmente placas sólidas feitas de metais puros, ligas ou compostos como óxidos ou nitretos. A espessura dos revestimentos depositados por pulverização catódica é normalmente da ordem dos angstroms a microns. A película fina pode ser um único material ou vários materiais numa estrutura em camadas.

A pulverização catódica reactiva é outro processo em que um gás não inerte, como o oxigénio, é utilizado em combinação com um material-alvo elementar para criar uma reação química e formar uma nova película composta.

Em resumo, a espessura de um alvo de pulverização catódica pode variar consoante o material e a aplicação, indo de menos de 1 mm para materiais magnéticos até 4 a 5 mm para alvos normais de metal e óxido. O tamanho e a forma dos alvos de pulverização catódica também podem variar muito, com alvos redondos que vão de 1" a 20" de diâmetro e alvos rectangulares disponíveis em comprimentos até e acima de 2000 mm.

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