A espessura de um alvo de pulverização catódica pode variar em função de vários factores.
Estes factores incluem o material que está a ser utilizado e a natureza da película fina que está a ser criada.
Para a pulverização catódica magnetrónica de materiais magnéticos como o níquel, é utilizado um alvo mais fino.
Trata-se normalmente de uma folha ou chapa com menos de 1 mm de espessura.
Para alvos metálicos normais, uma espessura de até 4 a 5 mm é considerada aceitável.
O mesmo se aplica aos alvos de óxido.
O tamanho e a forma dos alvos de pulverização catódica também podem variar muito.
Os alvos mais pequenos podem ter menos de uma polegada (2,5 cm) de diâmetro.
Enquanto os maiores alvos retangulares podem atingir bem mais de uma jarda (0,9 m) de comprimento.
Em alguns casos, podem ser necessários alvos maiores.
Os fabricantes podem criar alvos segmentados ligados por juntas especiais.
As formas normalmente utilizadas para alvos de pulverização catódica são circulares e rectangulares.
No entanto, também podem ser produzidas outras formas, como a quadrada e a triangular.
Os tamanhos padrão para alvos circulares variam de 1" a 20" de diâmetro.
Os alvos rectangulares podem estar disponíveis em comprimentos até e superiores a 2000 mm.
Isto depende do metal e do facto de se tratar de uma construção de peça única ou múltipla.
Os métodos de fabrico de alvos de pulverização catódica dependem das propriedades do material do alvo e da sua aplicação.
Podem ser utilizados os métodos de fusão e laminação a vácuo, prensagem a quente, processo especial de sinterização por prensagem, prensagem a quente a vácuo e forjamento.
Os alvos de pulverização catódica são normalmente placas sólidas feitas de metais puros, ligas ou compostos como óxidos ou nitretos.
A espessura dos revestimentos depositados por pulverização catódica é normalmente da ordem dos angstroms a microns.
A película fina pode ser um único material ou vários materiais numa estrutura em camadas.
A pulverização catódica reactiva é outro processo em que é utilizado um gás não inerte, como o oxigénio, em combinação com um material-alvo elementar.
Isto cria uma reação química e forma uma nova película composta.
Em resumo, a espessura de um alvo de pulverização catódica pode variar consoante o material e a aplicação.
Varia de menos de 1 mm para materiais magnéticos até 4 a 5 mm para alvos normais de metal e óxido.
O tamanho e a forma dos alvos de pulverização também podem variar muito.
Com alvos redondos que variam entre 1" e 20" de diâmetro e alvos rectangulares disponíveis em comprimentos até e superiores a 2000 mm.
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