Conhecimento Como funciona o processo de pulverização catódica PVD? - Um guia em 4 etapas
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 2 meses

Como funciona o processo de pulverização catódica PVD? - Um guia em 4 etapas

A pulverização catódica PVD é um processo utilizado para depositar películas finas de material num substrato.

Envolve a utilização de iões de alta energia para bombardear um material alvo.

Isto faz com que átomos ou moléculas sejam ejectados e subsequentemente condensados num substrato sob a forma de uma película fina.

O processo é conduzido numa câmara de vácuo, normalmente utilizando gás árgon.

É um método seco e de baixa temperatura, adequado para produtos sensíveis à temperatura.

Como funciona o processo de pulverização catódica PVD? - Um guia em 4 etapas

Como funciona o processo de pulverização catódica PVD? - Um guia em 4 etapas

1. Configuração e condições de vácuo

O material alvo, frequentemente um metal sólido ou um composto, é posicionado numa câmara de vácuo.

A câmara é então evacuada para criar as condições de vácuo desejadas.

2. Ionização e bombardeamento

O gás árgon é introduzido na câmara e ionizado para formar um plasma.

Este plasma é então utilizado para bombardear o material alvo com iões de árgon de alta energia.

3. Ejeção e deposição

O bombardeamento ejecta átomos ou moléculas do material alvo.

Estas partículas ejectadas viajam através do vácuo e depositam-se no substrato, formando uma película fina.

4. Controlo e parâmetros

Vários parâmetros críticos devem ser controlados para garantir a qualidade da película depositada.

Estes incluem o tipo de gás utilizado, a tensão aplicada e o posicionamento do alvo e do substrato.

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