Sistema Reator de Deposição Química em Fase Vapor por Plasma de Micro-ondas MPCVD para Laboratório e Crescimento de Diamante

MPCVD significa Deposição Química em Fase Vapor por Plasma de Micro-ondas. Ela cultiva filmes de diamante de qualidade em laboratórios usando gás de carbono e plasma de micro-ondas.

Sistema MPCVD

MPCVD é um sistema para depositar filmes finos em um substrato usando uma câmara de vácuo, gerador de micro-ondas e sistema de fornecimento de gás. Um plasma é gerado dentro da câmara por um magnetron ou klystron gerando micro-ondas a 2,45 GHz. O sistema de fornecimento de gás possui MFCs calibrados em sccm para controlar o fluxo de gás. A temperatura do substrato é controlada pelo plasma e medida por um termopar. O plasma aquece o substrato e a temperatura é monitorada durante a deposição.

Aplicações

MPCVD mostra promessa para a produção de diamantes grandes e de alta qualidade a baixo custo.

As propriedades únicas do diamante, como dureza, rigidez, alta condutividade térmica, baixa expansão térmica, resistência à radiação e inércia química, o tornam um material valioso. No entanto, o alto custo, o tamanho limitado e a dificuldade de controlar impurezas de diamantes naturais e sintéticos de alta pressão e alta temperatura limitaram suas aplicações.

MPCVD é o equipamento principal para o cultivo de gemas e filmes de diamante, que podem ser monocristalinos ou policristalinos. A indústria de semicondutores utiliza extensivamente o crescimento de filmes de diamante para substratos de diamante de grande porte, bem como a indústria de ferramentas de corte ou perfuração de diamante.

Comparado ao método HPHT para diamantes cultivados em laboratório, o método de CVD por micro-ondas é vantajoso para o crescimento de diamantes de grande porte a um custo menor, tornando-o uma solução ideal para diamantes semicondutores, crescimento de diamantes ópticos e o grande mercado de diamantes para joias.

Vantagens da MPCVD

MPCVD é um método de síntese de diamante com vantagens sobre HFCVD e DC-PJ CVD. Evita contaminação e permite múltiplos gases. Oferece ajuste suave de potência de micro-ondas e controle de temperatura estável, evitando a perda de cristais semente. MPCVD é promissor para aplicações industriais devido a uma área de plasma grande e estável.

MPCVD produz diamantes mais puros usando menos energia do que HPHT. Também permite a produção de diamantes maiores.

Vantagens do Nosso Sistema MPCVD

Estamos profundamente envolvidos na indústria há muitos anos e, como resultado, temos uma vasta base de clientes que confiam e utilizam nossos equipamentos. Nosso equipamento MPCVD tem funcionado de forma estável por mais de 40.000 horas, demonstrando estabilidade, confiabilidade, repetibilidade e custo-benefício excepcionais. Mais vantagens do nosso sistema MPCVD incluem:

• Área de crescimento de substrato de 3 polegadas, carga máxima de lote de até 45 peças de diamantes
• Potência de saída de micro-ondas ajustável de 1-10Kw para menor consumo de eletricidade
• Equipe de pesquisa com rica experiência e suporte de receita de crescimento de diamante de ponta
• Programa exclusivo de suporte técnico para equipes com zero experiência em crescimento de diamante

Ao alavancar nossa tecnologia avançada acumulada, implementamos várias rodadas de atualizações e melhorias em nosso sistema MPCVD, resultando em eficiência significativamente melhorada e custos de equipamento reduzidos. Como resultado, nosso equipamento MPCVD está na vanguarda dos avanços tecnológicos e oferecido a um preço competitivo. Bem-vindo para nos consultar.

Processo de Trabalho

A máquina MPCVD controla o fluxo de cada caminho de gás e a pressão da cavidade enquanto introduz gases reagentes (como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) na cavidade sob pressão específica. Após estabilizar o fluxo de ar, o gerador de micro-ondas de estado sólido de 6KW gera micro-ondas que são então introduzidas na cavidade através do guia de ondas.

O gás de reação se transforma em um estado de plasma sob o campo de micro-ondas, formando uma bola de plasma que paira acima do substrato de diamante. A alta temperatura do plasma aquece o substrato a uma temperatura específica. O calor em excesso produzido na cavidade é dissipado pela unidade de resfriamento a água.

Para garantir condições ideais de crescimento durante o processo de crescimento de diamante monocristalino MPCVD, ajustamos fatores como potência, composição da fonte de gás e pressão da cavidade. Além disso, como a bola de plasma não entra em contato com a parede da cavidade, o processo de crescimento do diamante é livre de impurezas, aumentando assim a qualidade do diamante.

Detalhes e Peças

Sistema de micro-ondas

Câmara de reação

Sistema de fluxo de gás

Sistema de vácuo e sensor

Especificações Técnicas

Avisos

A segurança do operador é a questão mais importante! Por favor, opere o equipamento com cautelas. Trabalhar com gases inflamáveis, explosivos ou tóxicos é muito perigoso, os operadores devem tomar todas as precauções necessárias antes de iniciar o equipamento. Trabalhar com pressão positiva dentro dos reactores ou câmaras é perigoso, o operador deve seguir rigorosamente os procedimentos de segurança. Extra também deve ser tido cuidado ao operar com materiais reativos ao ar, especialmente sob vácuo. Uma fuga pode aspirar ar para dentro do aparelho e provocar ocorrer uma reação violenta.

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