A deposição direta de energia (DED) é um processo que utiliza fontes de alta energia para fundir e depositar materiais diretamente sobre um substrato.
Os materiais utilizados na DED podem variar muito, mas normalmente incluem metais, cerâmicas e alguns compósitos.
Eis os principais métodos e materiais envolvidos na deposição direta de energia:
1. Deposição de plasma
A deposição de plasma utiliza partículas carregadas de alta energia de um plasma para libertar átomos de um material alvo.
A composição do material alvo determina o material a ser depositado no substrato.
Os materiais comuns utilizados na deposição por plasma incluem vários metais e cerâmicas.
2. Deposição por feixe de electrões
Esta técnica envolve a utilização de um íman para concentrar os electrões num feixe, que é dirigido para um cadinho que contém o material de interesse.
A energia do feixe de electrões provoca a evaporação do material, e os vapores revestem então o substrato.
Os materiais adequados para a deposição por feixe de electrões são normalmente metais e cerâmicas que podem suportar temperaturas elevadas e a interação direta com o feixe de electrões.
3. Deposição por arco catódico
Neste método, é descarregado um arco elétrico de alta potência sobre o material alvo, que é transformado em vapor altamente ionizado e depositado na peça de trabalho.
Os materiais mais comuns são os metais e algumas ligas.
4. Deposição em fase vapor por processo físico com feixe de electrões (EB-PVD)
Este processo aquece o material a depositar a uma pressão de vapor elevada por bombardeamento de electrões em vácuo elevado.
O material vaporizado é então transportado por difusão e depositado por condensação na peça de trabalho mais fria.
Os materiais adequados para o EB-PVD incluem metais e alguns compostos cerâmicos.
5. Deposição por evaporação
Este método aquece o material a depositar a uma pressão de vapor elevada através de aquecimento por resistência eléctrica em vácuo elevado.
Os materiais normalmente utilizados na deposição evaporativa são os metais e algumas cerâmicas de baixo ponto de fusão.
6. Deposição por pulverização catódica
Uma descarga de plasma incandescente bombardeia o material alvo, pulverizando uma parte como vapor para posterior deposição.
Esta técnica pode depositar uma vasta gama de materiais, incluindo metais, ligas e algumas cerâmicas.
7. Deposição por Laser Pulsado (PLD)
Um laser de alta potência transforma o material do alvo num vapor, que é depois depositado num substrato.
A PLD é versátil e pode ser utilizada com uma variedade de materiais, incluindo óxidos complexos e outros materiais cerâmicos.
Cada um destes métodos permite a deposição de materiais específicos com base nas suas propriedades térmicas e nos requisitos energéticos da técnica de deposição.
A escolha do material e do método de deposição depende das propriedades desejadas do produto final, como a densidade, a aderência e a integridade geral do material.
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