A deposição de vapor em películas finas é um processo utilizado para depositar camadas finas de material num substrato.
Este processo ocorre normalmente em condições controladas num ambiente de vácuo.
É crucial no fabrico de micro/nano dispositivos.
O processo envolve a emissão de partículas a partir de uma fonte, o seu transporte para o substrato e a sua condensação na superfície do substrato.
5 Métodos Principais Explicados
1. Deposição Física de Vapor (PVD)
A Deposição Física de Vapor (PVD) e a Deposição Química de Vapor (CVD) são os dois principais métodos utilizados na deposição de vapor.
A PVD inclui técnicas como a pulverização catódica, a evaporação e a sublimação.
Na PVD, o material é vaporizado fisicamente a partir de uma fonte e depois depositado no substrato.
2. Deposição química em fase vapor (CVD)
Em contrapartida, a CVD envolve reacções químicas a partir da fase de vapor.
Os precursores gasosos reagem para formar uma película fina sólida no substrato.
A CVD é particularmente eficaz na produção de películas e revestimentos sólidos de alta qualidade.
3. Evaporação térmica
A evaporação térmica é um tipo de PVD.
Utiliza aquecimento resistivo para evaporar material sólido numa câmara de alto vácuo, criando uma elevada pressão de vapor.
O material evaporado reveste então a superfície do substrato.
Esta técnica é amplamente utilizada na indústria para criar camadas de ligação metálica em células solares, transístores de película fina, bolachas semicondutoras e OLED à base de carbono.
4. Aplicações da deposição de película fina
As aplicações da deposição de película fina são vastas.
Vão desde películas mecânicas superduras e resistentes à corrosão até películas funcionais, como películas de gravação magnética, de armazenamento de informação, fotossensíveis, termossensíveis, supercondutoras e de conversão fotoeléctrica.
Para além disso, podem também ser preparados revestimentos decorativos utilizando esta tecnologia.
5. Escolha entre PVD e CVD
A escolha entre PVD e CVD depende dos requisitos específicos da película.
Estes requisitos incluem a sua composição, pureza, morfologia, espessura, microestrutura e outras propriedades funcionais.
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