O método químico para a deposição de películas finas é designado por deposição de vapor químico (CVD). Na CVD, um substrato é colocado numa câmara de vácuo e dois precursores químicos são aquecidos, provocando a sua vaporização. Quando estes precursores vaporizados se encontram na superfície do substrato, ocorre uma reação química que resulta na formação de um revestimento de película fina. A CVD é uma técnica amplamente utilizada para criar películas finas de elevado desempenho com propriedades materiais específicas. É normalmente utilizada no fabrico de semicondutores e noutras indústrias em que é necessário um controlo preciso da composição e espessura da película.
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