Conhecimento O que é o processo de deposição química de vapor?
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Atualizada há 4 dias

O que é o processo de deposição química de vapor?

A deposição de vapor químico (CVD) é um processo utilizado para depositar películas finas e revestimentos num substrato, provocando uma reação química ou a decomposição de reagentes gasosos. Este método envolve três etapas principais: evaporação de um composto volátil, decomposição térmica ou reação química do vapor e deposição dos produtos de reação não voláteis no substrato. O processo requer normalmente temperaturas elevadas e gamas de pressão específicas para facilitar as reacções de forma eficaz.

Explicação pormenorizada:

  1. Evaporação de um composto volátil:

  2. Na primeira etapa, é evaporado um composto volátil relacionado com o material a depositar. Este composto serve como precursor, que é frequentemente um halogeneto ou hidreto. O precursor é concebido para transportar e preparar o material de deposição para interação com o substrato.Decomposição térmica ou reação química:

  3. O precursor vaporizado entra numa câmara de reação, frequentemente sob condições de vácuo, onde sofre decomposição térmica ou reage com outros gases, líquidos ou vapores presentes na câmara. Este passo é crucial, uma vez que decompõe o precursor em átomos e moléculas que estão prontos para se ligarem ao substrato. As condições de reação, incluindo a temperatura e a pressão, são cuidadosamente controladas para garantir a ocorrência das transformações químicas desejadas.

Deposição de produtos de reação não voláteis:

As espécies decompostas ou reagidas depositam-se então no substrato, formando uma película fina ou um revestimento. Esta deposição ocorre porque os produtos da reação são não voláteis e aderem à superfície do substrato. A qualidade e a espessura da película dependem dos parâmetros do processo, incluindo a temperatura, a pressão e a natureza dos reagentes.Aplicações e materiais:

A CVD é amplamente utilizada para depositar vários materiais, incluindo silicetos, óxidos metálicos, sulfuretos e arsenietos. A versatilidade do processo permite-lhe ser adaptado a diferentes aplicações, desde o fabrico de semicondutores à criação de revestimentos protectores em vários materiais.

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