Os alvos de pulverização catódica são utilizados principalmente para a deposição de películas finas em vários substratos num processo conhecido como deposição física de vapor (PVD). Esta técnica é crucial em várias indústrias, incluindo a eletrónica, a ótica e as energias renováveis.
Semicondutores:
Os alvos de pulverização catódica desempenham um papel vital na produção de semicondutores. São utilizados para criar camadas condutoras em microchips, chips de memória, cabeças de impressão e ecrãs planos. O processo envolve o uso de ligas metálicas que devem garantir alta pureza química e uniformidade metalúrgica para manter a integridade e o desempenho dos dispositivos semicondutores.Revestimento de vidro:
Na indústria da construção, os alvos de pulverização catódica são utilizados para produzir vidro de baixa emissividade (Low-E). Este tipo de vidro é revestido para reduzir a quantidade de luz infravermelha e ultravioleta que passa, ajudando a poupar energia, a controlar a luz e a melhorar a estética. O revestimento é aplicado através de um processo de pulverização catódica que deposita camadas finas de materiais na superfície do vidro.
Revestimento de Células Solares:
Com a crescente procura de energias renováveis, os alvos de pulverização catódica são utilizados no fabrico de células solares de película fina. Estas células solares de terceira geração são criadas utilizando a tecnologia de revestimento por pulverização catódica, que permite a aplicação precisa de materiais que melhoram a capacidade das células para converter a luz solar em eletricidade.Aplicações ópticas:
A pulverização catódica também é utilizada em aplicações ópticas, onde camadas finas são depositadas no vidro para modificar suas propriedades. Isso pode incluir o aumento da refletividade, da transmitância ou da durabilidade do vidro, dependendo dos requisitos específicos do dispositivo ótico que está sendo fabricado.
