A pulverização catódica é um tipo de deposição física de vapor (PVD).
Esta conclusão baseia-se na descrição da pulverização catódica como um processo que envolve a transferência física de átomos de uma fonte condensada (o alvo) para o substrato, em vez de se basear em reacções químicas na fase gasosa, como na deposição química de vapor (CVD).
5 pontos-chave explicados
1. Explicação de PVD e Sputtering
A deposição física de vapor (PVD) engloba uma série de técnicas utilizadas para criar películas finas através da deposição de átomos, iões ou moléculas num substrato.
A pulverização catódica, um método específico da PVD, envolve o bombardeamento de um material alvo com partículas de alta energia (normalmente iões), o que faz com que os átomos do alvo sejam ejectados e subsequentemente depositados num substrato.
Este processo não requer a utilização de precursores químicos, o que o distingue da CVD.
2. Comparação com a CVD
Em contrapartida, a deposição em fase vapor por processo químico (CVD) implica a utilização de precursores voláteis que reagem quimicamente após exposição ao calor ou à pressão para depositar uma película fina num substrato.
Os processos de CVD requerem frequentemente temperaturas mais elevadas e envolvem reacções químicas mais complexas, que podem incluir a utilização de materiais tóxicos ou perigosos.
3. Vantagens da pulverização catódica em relação à CVD
Requisitos de temperatura: A pulverização catódica funciona normalmente a temperaturas mais baixas do que a CVD, o que a torna adequada para substratos que não suportam temperaturas elevadas.
Disponibilidade de material: A pulverização catódica não requer precursores especializados, permitindo a deposição de uma gama mais ampla de materiais.
Preocupações com segurança e meio ambiente: A PVD, incluindo a pulverização catódica, evita alguns dos problemas de segurança associados ao manuseamento e armazenamento de precursores perigosos utilizados na CVD.
4. Conclusão
Dada a natureza do processo de pulverização catódica e a sua classificação em PVD, é evidente que a pulverização catódica é uma técnica de PVD.
Esta classificação é apoiada pelos mecanismos físicos envolvidos na pulverização catódica, que contrastam com as reacções químicas caraterísticas dos processos CVD.
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