O revestimento PVD, ou revestimento por deposição física de vapor, é um processo que envolve a deposição de uma fina camada de material na superfície de um substrato.
O material é vaporizado e depois depositado no substrato numa câmara de vácuo.
O resultado é um revestimento fino e uniforme.
5 etapas principais explicadas
1. Limpeza do substrato
O substrato é submetido a um processo de limpeza para remover qualquer sujidade, detritos ou contaminantes.
Podem ser utilizados vários métodos de limpeza, como a limpeza mecânica ou química.
2. Pré-tratamento
O substrato é submetido a um pré-tratamento para melhorar a aderência do revestimento.
Podem ser utilizadas técnicas como a anodização ou a gravação por plasma para criar uma superfície rugosa no substrato.
3. Deposição em vácuo
O substrato está pronto para o revestimento PVD numa câmara de deposição em vácuo.
O material alvo, que irá formar o revestimento, é aquecido até vaporizar.
O material vaporizado é então depositado na superfície do substrato.
4. Formação do revestimento
O processo forma uma película fina com uma espessura de apenas alguns nanómetros a alguns micrómetros.
O processo de deposição em vácuo assegura que o revestimento PVD está isento de impurezas.
5. Vantagens do revestimento PVD
O revestimento PVD oferece melhorias significativas em termos de dureza, resistência à corrosão, redução do desgaste e aspeto estético.
O processo inclui etapas de limpeza e pré-tratamento antes de o revestimento PVD ter lugar numa câmara de deposição em vácuo.
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