Para limpar um alvo de pulverização catódica, pode seguir os passos abaixo indicados:
1. Limpe com um pano macio que não largue pêlos, embebido em acetona. Isto ajudará a remover qualquer pó ou sujidade que possa estar presente na superfície do alvo.
2. Limpar com álcool. Utilize um pano limpo embebido em álcool para limpar ainda mais o alvo e remover quaisquer contaminantes remanescentes.
3. Limpar com água desionizada. Enxagúe o alvo com água desionizada para garantir que todos os vestígios de acetona e álcool são removidos.
4. Secar o alvo. Após a limpeza com água desionizada, coloque o alvo numa estufa e seque-o a uma temperatura de 100 ℃ durante 30 minutos. Isto irá garantir que o alvo está completamente seco antes de ser utilizado.
Para além do processo de limpeza, existem algumas precauções a ter em conta durante a utilização de alvos de revestimento por pulverização catódica:
1. Preparação da pulverização: É importante manter a câmara de vácuo e o sistema de pulverização catódica limpos. Qualquer resíduo ou contaminante pode aumentar a possibilidade de falha da película. Limpe as câmaras de pulverização catódica, as pistolas de pulverização catódica e os alvos de pulverização catódica para evitar curto-circuitos no sistema, formação de arcos no alvo e formação de superfícies rugosas.
2. Instalação do alvo: Durante a instalação do alvo, assegurar uma boa ligação térmica entre o alvo e a parede estabilizadora da pistola de pulverização. Se a placa de arrefecimento ou a placa de suporte estiver deformada, pode provocar fissuras ou dobras no alvo, afectando a condutividade térmica e provocando danos no alvo.
3. Otimização da utilização do alvo: Nos sistemas de pulverização catódica, o alvo é uma peça sólida de material que será pulverizada para revestimento de película fina. Certifique-se de que o alvo é suficientemente grande para evitar a pulverização acidental de outros componentes. Preste atenção às áreas da superfície do alvo onde o efeito de pulverização catódica foi predominante, conhecidas como pistas de corrida, uma vez que poderão ter de ser tratadas ou substituídas.
4. Alvo de pulverização catódica de silício: Se estiver a trabalhar com um alvo de pulverização catódica de silício, é importante escolher um alvo que seja fabricado utilizando processos e métodos adequados. Isto pode incluir galvanoplastia, pulverização catódica e deposição de vapor. Além disso, podem ser necessários processos de limpeza e gravação para obter condições de superfície desejáveis.
Seguindo estes passos e tomando precauções, pode limpar e utilizar eficazmente alvos de pulverização no seu processo de pulverização.
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