O árgon é uma escolha popular para a pulverização catódica devido a várias razões importantes.
4 razões principais pelas quais o argônio é usado na pulverização catódica
Alta taxa de pulverização
O árgon tem uma elevada taxa de pulverização.
Isto deve-se ao facto de ser um gás raro com uma massa atómica elevada.
Uma massa atómica elevada significa que, quando ionizado e acelerado em direção ao alvo, o árgon transfere um momento significativo com o impacto.
Isto leva a uma ejeção eficiente dos átomos do alvo.
Natureza inerte
O árgon é quimicamente inerte.
Isto significa que não reage facilmente com outros elementos.
A sua natureza inerte minimiza o risco de reacções químicas indesejadas entre o gás de pulverização catódica e o material alvo ou a película em crescimento.
Isto assegura que a película depositada mantém a composição química e as propriedades desejadas.
Baixo preço e disponibilidade
O árgon é relativamente barato em comparação com outros gases raros, como o crípton e o xénon.
A sua disponibilidade generalizada e o seu baixo custo fazem dele uma escolha prática para aplicações industriais e laboratoriais.
Este fator económico é significativo, especialmente em processos de fabrico em grande escala, onde o custo dos materiais pode ter um impacto significativo no custo global de produção.
Disponibilidade de gás puro
O árgon está disponível em elevado grau de pureza.
A elevada pureza é essencial para evitar que as impurezas afectem a qualidade da película depositada.
As impurezas podem degradar as propriedades da película, como a sua condutividade eléctrica ou transparência ótica.
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