A principal diferença entre a pulverização catódica RF e a pulverização catódica DC reside nas suas fontes de energia.
A pulverização catódica DC utiliza uma corrente contínua como fonte de energia.
A pulverização catódica RF utiliza uma fonte de energia de corrente alternada (AC).
Esta diferença nas fontes de energia leva a várias distinções entre as duas técnicas de pulverização catódica.
4 pontos-chave para entender a diferença entre pulverização catódica RF e pulverização catódica DC
1. Requisito de tensão
A pulverização catódica DC normalmente requer 2.000-5.000 volts.
A pulverização por RF requer 1.012 volts ou mais para atingir a mesma taxa de deposição.
Isto deve-se ao facto de a pulverização catódica DC envolver o bombardeamento direto de iões do plasma de gás por electrões.
A pulverização por radiofrequência utiliza energia cinética para remover os electrões das camadas exteriores dos átomos de gás.
A criação de ondas de rádio na pulverização catódica por radiofrequência exige mais energia para obter o mesmo efeito que uma corrente de electrões.
2. Pressão da câmara
A pulverização catódica RF pode manter o plasma de gás a uma pressão de câmara significativamente mais baixa, inferior a 15 mTorr.
A pulverização catódica DC requer uma pressão de câmara de 100 mTorr.
Esta pressão mais baixa ajuda a reduzir o número de colisões entre as partículas de plasma carregadas e o material alvo.
Cria um caminho mais direto para o alvo de pulverização.
3. Aplicabilidade
A pulverização catódica em corrente contínua é amplamente utilizada, eficaz e económica.
É adequada para o processamento de grandes quantidades de substratos.
A pulverização catódica por radiofrequência funciona tanto para materiais condutores como para materiais não condutores pulverizados.
É mais cara e tem um rendimento de pulverização mais baixo.
É mais adequada para substratos de menor dimensão.
4. Resumo das diferenças
A pulverização catódica por radiofrequência utiliza uma fonte de alimentação CA, requer uma tensão mais elevada, funciona com uma pressão de câmara mais baixa e é adequada para materiais condutores e não condutores.
A pulverização catódica DC utiliza uma fonte de energia DC, requer uma tensão mais baixa, funciona com uma pressão de câmara mais elevada e é mais económica para o processamento de grandes quantidades de substratos.
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