Materiais de laboratório

Sulfureto de antimónio (Sb2S3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Name: Sulfureto de antimónio (Sb2S3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Brand: Kintek Solution
SKU: LM-Sb2S3
Rating: 4.82 (11 reviews)

Número do item : LM-Sb2S3

O preço varia com base em specs and customizations

Fórmula química: Sb2S3
Pureza: 3N
Forma: discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.

Descrição
Avaliações
Downloads

Solicite sua cotação personalizada 👋

Enviar e-mail Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via Whatsapp

No nosso laboratório, oferecemos materiais de Sulfureto de Antimónio (Sb2S3) a preços razoáveis para várias utilizações. A nossa experiência consiste em produzir e adaptar materiais de sulfureto de antimónio (Sb2S3) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.

Fornecemos uma vasta gama de especificações e tamanhos para vários produtos, tais como alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares e de formas irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, entre outros.

Detalhes

Alvo de pulverização de sulfureto de antimónio (Sb2S3) — Alvo de pulverização de sulfeto de antimónio (Sb2S3)

Sobre o Sulfeto de Antimónio (Sb2S3)

O trissulfureto de antimónio é uma fonte de antimónio moderadamente solúvel em ácido que é amplamente utilizada para aplicações compatíveis com sulfatos. No nosso laboratório, oferecemos Sulfureto de Antimónio de elevada pureza, submicrónico e em formas de nanopó, que estão prontamente disponíveis na maioria dos volumes. Também produzimos muitos graus padrão, incluindo Mil Spec (grau militar), ACS, Grau Técnico e de Reagente, Grau Alimentar, Agrícola e Farmacêutico, Grau Ótico, USP e EP/BP (Farmacopeia Europeia/Farmacopeia Britânica).

Cumprimos rigorosamente as normas de ensaio ASTM aplicáveis para garantir a qualidade dos nossos produtos. Além disso, fornecemos opções de embalagem típicas e personalizadas para satisfazer os seus requisitos específicos. Escolha o nosso laboratório para obter materiais de Sulfureto de Antimónio fiáveis e de qualidade superior.

Controle de qualidade de ingredientes

Análise da composição da matéria-prima: Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;

Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio.
Análise de detecção de falhas metalográficas: O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;

Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos.
Inspeção de aparência e dimensão: As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;

O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.

Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional

Processo de preparação: prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
Forma do alvo de pulverização catódica: pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo: Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado.
Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado: 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado

Formas metálicas disponíveis

Detalhes de formas metálicas

Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.

Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos
Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes

A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.

Embalagem

Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.

FAQ

O que é a deposição física de vapor (PVD)?

A deposição física de vapor (PVD) é uma técnica de deposição de películas finas através da vaporização de um material sólido no vácuo e da sua posterior deposição num substrato. Os revestimentos por PVD são altamente duráveis, resistentes a riscos e à corrosão, o que os torna ideais para uma variedade de aplicações, desde células solares a semicondutores. A PVD também cria películas finas que podem suportar temperaturas elevadas. No entanto, a PVD pode ser dispendiosa, e o custo varia consoante o método utilizado. Por exemplo, a evaporação é um método de PVD de baixo custo, enquanto a pulverização catódica por feixe de iões é bastante dispendiosa. A pulverização catódica por magnetrão, por outro lado, é mais cara mas mais escalável.

O que é um alvo de pulverização catódica?

Um alvo de pulverização catódica é um material utilizado no processo de deposição por pulverização catódica, que envolve a fragmentação do material alvo em partículas minúsculas que formam um spray e revestem um substrato, como uma bolacha de silício. Os alvos de pulverização catódica são normalmente elementos metálicos ou ligas, embora estejam disponíveis alguns alvos cerâmicos. Existem numa variedade de tamanhos e formas, com alguns fabricantes a criar alvos segmentados para equipamentos de pulverização catódica de maiores dimensões. Os alvos de pulverização catódica têm uma vasta gama de aplicações em domínios como a microeletrónica, as células solares de película fina, a optoelectrónica e os revestimentos decorativos, devido à sua capacidade de depositar películas finas com elevada precisão e uniformidade.

O que são materiais de elevada pureza?

Os materiais de elevada pureza referem-se a substâncias isentas de impurezas e que possuem um elevado nível de homogeneidade química. Estes materiais são essenciais em várias indústrias, particularmente no domínio da eletrónica avançada, onde as impurezas podem afetar significativamente o desempenho dos dispositivos. Os materiais de elevada pureza são obtidos através de vários métodos, incluindo a purificação química, a deposição em fase de vapor e a refinação por zonas. Na preparação de diamante monocristalino de qualidade eletrónica, por exemplo, é necessário um gás de matéria-prima de elevada pureza e um sistema de vácuo eficiente para atingir o nível de pureza e homogeneidade desejados.

O que é a pulverização catódica por magnetrão?

A pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de revestimento baseada em plasma utilizada para produzir películas muito densas com excelente aderência, o que a torna um método versátil para criar revestimentos em materiais com pontos de fusão elevados e que não podem ser evaporados. Este método gera um plasma magneticamente confinado perto da superfície de um alvo, onde iões energéticos carregados positivamente colidem com o material alvo carregado negativamente, fazendo com que os átomos sejam ejectados ou "pulverizados". Estes átomos ejectados são então depositados num substrato ou bolacha para criar o revestimento desejado.

Como são feitos os alvos de pulverização catódica?

Os alvos de pulverização catódica são fabricados utilizando uma variedade de processos de fabrico, dependendo das propriedades do material do alvo e da sua aplicação. Estes incluem fusão e laminação a vácuo, prensagem a quente, processo especial de sinterização por prensagem, prensagem a quente a vácuo e métodos forjados. A maioria dos materiais dos alvos de pulverização catódica pode ser fabricada numa vasta gama de formas e tamanhos, sendo as formas circulares ou rectangulares as mais comuns. Os alvos são normalmente fabricados a partir de elementos metálicos ou ligas, mas também podem ser utilizados alvos cerâmicos. Também estão disponíveis alvos de pulverização catódica compostos, feitos de uma variedade de compostos, incluindo óxidos, nitretos, boretos, sulfuretos, selenetos, teluretos, carbonetos, cristalinos e misturas compostas.

Porquê a pulverização catódica por magnetrões?

A pulverização catódica por magnetrão é preferida devido à sua capacidade de atingir uma elevada precisão na espessura da película e na densidade dos revestimentos, ultrapassando os métodos de evaporação. Esta técnica é especialmente adequada para criar revestimentos metálicos ou isolantes com propriedades ópticas ou eléctricas específicas. Além disso, os sistemas de pulverização catódica por magnetrões podem ser configurados com várias fontes de magnetrões.

Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?

Os alvos de pulverização catódica são utilizados num processo chamado pulverização catódica para depositar películas finas de um material num substrato utilizando iões para bombardear o alvo. Estes alvos têm uma vasta gama de aplicações em vários campos, incluindo microeletrónica, células solares de película fina, optoelectrónica e revestimentos decorativos. Permitem a deposição de películas finas de materiais numa variedade de substratos com elevada precisão e uniformidade, o que os torna uma ferramenta ideal para a produção de produtos de precisão. Os alvos de pulverização catódica existem em várias formas e tamanhos e podem ser especializados para satisfazer os requisitos específicos da aplicação.

Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?

A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.

A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.

O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?

Os alvos de pulverização catódica para eletrónica são discos finos ou folhas de materiais como o alumínio, o cobre e o titânio que são utilizados para depositar películas finas em bolachas de silício para criar dispositivos electrónicos como transístores, díodos e circuitos integrados. Estes alvos são utilizados num processo designado por pulverização catódica, no qual os átomos do material alvo são fisicamente ejectados da superfície e depositados num substrato através do bombardeamento do alvo com iões. Os alvos de pulverização catódica para eletrónica são essenciais na produção de microeletrónica e requerem normalmente uma elevada precisão e uniformidade para garantir dispositivos de qualidade.

Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?

Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.

A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.

Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.

Utilizações da deposição de película fina

Películas finas à base de óxido de zinco

As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.

Resistências de película fina

As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.

Filmes finos magnéticos

Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.

Filmes finos ópticos

Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.

Filmes finos de polímeros

Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.

Baterias de película fina

As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.

Revestimentos de película fina

Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.

Células solares de película fina

As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.

Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?

A vida útil de um alvo de pulverização catódica depende de factores como a composição do material, a pureza e a aplicação específica para a qual está a ser utilizado. Geralmente, os alvos podem durar várias centenas a alguns milhares de horas de pulverização catódica, mas isto pode variar muito, dependendo das condições específicas de cada ciclo. O manuseamento e a manutenção adequados também podem prolongar a vida útil de um alvo. Além disso, a utilização de alvos de pulverização catódica rotativos pode aumentar os tempos de execução e reduzir a ocorrência de defeitos, tornando-os uma opção mais económica para processos de grande volume.

Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas

Taxa de deposição:

A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.

Uniformidade:

A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.

Capacidade de preenchimento:

A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.

Características da película:

As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.

Temperatura do processo:

As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.

Danos:

Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

4.9

out of

5

The sputter target is of reliable quality and has enabled us to achieve better results. Shipment was also fast.

Lamine Ba

4.7

out of

5

The prices are fair and reasonable. I'm satisfied.

Anahit Kirakosyan

4.8

out of

5

The Antimony Sulfide (Sb2S3) target arrived in perfect condition, as described. Thank you!

Siti Aisyah

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's product is of high quality and is working perfectly in our lab. We are very happy with the purchase.

Stine Solberg

4.9

out of

5

The Antimony Sulfide (Sb2S3) powder is of great quality, and we have been using it for our research for a few months now. It is a great product that we would highly recommend.

Catalin Preda

5.0

out of

5

We have been using KINTEK SOLUTION's Antimony Sulfide (Sb2S3) block for a while now and we are very satisfied with its performance. It is durable and has a long lifespan.

Celine Dion

4.7

out of

5

The Antimony Sulfide (Sb2S3) granule is a great product that we have been using in our lab for quite some time now. It is reliable and has helped us achieve accurate results.

Jhonatan Rojas

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Antimony Sulfide (Sb2S3) sputter target is a great product that has helped us improve the efficiency of our research. We highly recommend it.

Babatunde Akindele

5.0

out of

5

The Antimony Sulfide (Sb2S3) powder from KINTEK SOLUTION is fantastic! It is highly pure and consistent, which has greatly improved the quality of our research.

Margarita Ivanova

4.9

out of

5

We have been using KINTEK SOLUTION's Antimony Sulfide (Sb2S3) wire for a few months now, and we are very impressed with its quality and performance. It is a great product that we would definitely recommend.

Muhammad Ali

4.7

out of

5

The Antimony Sulfide (Sb2S3) ingot from KINTEK SOLUTION is a great product that we have been using in our lab for a while now. It is reliable and has helped us achieve consistent results.

Nguyen Thi Hong

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Alvo de pulverização catódica de antimónio de elevada pureza (Sb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de antimónio (Sb) de alta qualidade adaptados às suas necessidades específicas. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos a preços razoáveis. Navegue pelos nossos alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.

Sulfureto de zinco (ZnS) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de sulfureto de zinco (ZnS) a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos e personalizamos materiais de ZnS de diferentes purezas, formas e tamanhos. Escolha entre uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Sulfureto de tungsténio (WS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de Sulfureto de Tungsténio (WS2) para o seu laboratório? Oferecemos uma gama de opções personalizáveis a óptimos preços, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Encomende agora!

Alvo de pulverização catódica de sulfureto de cádmio (CdS) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Sulfureto de molibdénio (MoS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Molibdénio a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Formas, tamanhos e purezas personalizados disponíveis. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.

Sulfureto de estanho (SnS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Estanho (SnS2) para o seu laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais para satisfazer as suas necessidades específicas. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Liga de prata e bismuto de estanho (SnBiAg) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Descubra os nossos materiais de alta qualidade em liga de prata e bismuto de estanho a preços razoáveis. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos personalizados para as necessidades do seu laboratório. Compre alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais hoje.

molde de prensa de infravermelhos para laboratório

Liberte facilmente amostras do nosso molde de prensa de infravermelhos de laboratório para testes precisos. Ideal para baterias, cimento, cerâmica e outras pesquisas de preparação de amostras. Tamanhos personalizáveis disponíveis.

Alvo de pulverização catódica de bismuto (Bi) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de bismuto (Bi)? Oferecemos materiais de qualidade laboratorial a preços acessíveis em várias formas, tamanhos e purezas para satisfazer as suas necessidades específicas. Veja os nossos alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais!

Montagem do molde de prensa cilíndrica de laboratório

Obtenha uma moldagem fiável e precisa com o molde de prensa cilíndrica para laboratório da Assemble. Perfeito para pó ultrafino ou amostras delicadas, amplamente utilizado na investigação e desenvolvimento de materiais.

Dióxido de silício de alta pureza (SiO2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de dióxido de silício para o seu laboratório? Os nossos materiais de SiO2, feitos à medida, estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos. Consulte a nossa vasta gama de especificações hoje mesmo!

Molde quadrado para prensa de laboratório

Crie facilmente amostras uniformes com o molde quadrado de prensa de laboratório - disponível em vários tamanhos. Ideal para baterias, cimento, cerâmica e muito mais. Tamanhos personalizados disponíveis.

Selénio de alta pureza (Se) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de selénio (Se) a preços acessíveis para utilização em laboratório? Somos especializados na produção e adaptação de materiais de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de samário (Sm) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de Samário (Sm) para o seu laboratório? Oferecemos uma vasta gama de tamanhos e especificações para alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais a preços acessíveis. Personalizados de acordo com os seus requisitos exclusivos.

Montagem do molde quadrado da prensa de laboratório

Obtenha uma preparação de amostras perfeita com o molde de prensa quadrada para laboratório Assemble. A desmontagem rápida elimina a deformação da amostra. Perfeito para baterias, cimento, cerâmica e muito mais. Tamanhos personalizáveis disponíveis.

Alvo de pulverização catódica de térbio (Tb) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Compre materiais de térbio (Tb) de alta qualidade a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Oferecemos formas, tamanhos e purezas personalizados para atender às suas necessidades exclusivas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Cadinho de cerâmica de alumina (Al2O3) para forno de mufla de laboratório

Os cadinhos de cerâmica de alumina são utilizados em alguns materiais e ferramentas de fusão de metais, e os cadinhos de fundo plano são adequados para fundir e processar lotes maiores de materiais com melhor estabilidade e uniformidade.

Alvo de pulverização catódica de prata (Ag) de alta pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de prata (Ag) a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais? Os nossos peritos especializam-se na produção de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.

Cadinho de alumina (Al2O3) com tampa Cadinho de laboratório cilíndrico

Cadinhos Cilíndricos Os cadinhos cilíndricos são uma das formas mais comuns de cadinhos, adequados para fundir e processar uma grande variedade de materiais, e são fáceis de manusear e limpar.

Molde de prensagem cilíndrico

Forme e teste eficazmente a maioria das amostras com os moldes de prensagem cilíndricos numa gama de tamanhos. Fabricados em aço rápido japonês, com uma longa vida útil e tamanhos personalizáveis.

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de chumbo (Pb) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? Não procure mais do que a nossa seleção especializada de opções personalizáveis, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos!

Alvo de pulverização catódica de óxido de samário de elevada pureza (Sm2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de alta qualidade de óxido de samário (Sm2O3) para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos materiais habilmente produzidos e adaptados vêm em diferentes formas e tamanhos para se adaptarem às suas necessidades. Navegue pela nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Molde de prensa cilíndrica para aquecimento elétrico de laboratório

Prepare amostras de forma eficiente com o molde de prensa de aquecimento elétrico cilíndrico para laboratório. Aquecimento rápido, alta temperatura e operação fácil. Tamanhos personalizados disponíveis. Perfeito para investigação em pilhas, cerâmica e bioquímica.

Fluoreto de samário (SmF3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de alta qualidade de fluoreto de samário (SmF3) para o seu laboratório? Não procure mais! As nossas soluções personalizadas estão disponíveis numa gama de purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Contacte-nos hoje mesmo!

Liga de tântalo e tungsténio (TaW) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de alta qualidade em liga de tântalo e tungsténio (TaW)? Oferecemos uma vasta gama de opções personalizáveis a preços competitivos para utilização em laboratório, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.

Molde de prensa de laboratório em metal duro

Forme amostras ultra-duras com o molde de prensa de laboratório em metal duro. Fabricado em aço rápido japonês, tem uma longa vida útil. Tamanhos personalizados disponíveis.

Suporte para tubos de centrifugação em PTFE

Os suportes para tubos de ensaio em PTFE fabricados com precisão são completamente inertes e, devido às propriedades de alta temperatura do PTFE, estes suportes para tubos de ensaio podem ser esterilizados (autoclavados) sem qualquer problema.

Tags quentes

alvos de pulverização catódica materiais de elevada pureza materiais de deposição de película fina

Atalho