Um alvo ITO, que significa alvo de óxido de índio e estanho, é um tipo de alvo de pulverização utilizado na indústria de película fina. É constituído por uma mistura de óxido de índio (In2O3) e óxido de estanho (SnO2) com um rácio de peso de 90% de In2O3 e 10% de SnO2.
O ITO é uma escolha popular para alvos de pulverização catódica devido à sua combinação de condutividade eléctrica e transparência ótica. É normalmente utilizado em aplicações como semicondutores, fotovoltaicas e de revestimento, bem como em aplicações ópticas.
Existem vários métodos de fabrico de alvos de ITO. Um método é através de alvos rotativos pulverizados termicamente, que incluem métodos de produção de plasma, arco e pulverização a frio. Outros métodos de fabrico incluem a fundição, a extrusão e a prensagem isostática a quente (HIP)/sinterização.
Os alvos rotativos, especificamente os cilíndricos, são frequentemente utilizados no fabrico de revestimentos de grandes áreas para vidro arquitetónico e ecrãs planos. Estes alvos têm várias vantagens em relação aos alvos planos. Contêm mais material, o que resulta em ciclos de produção mais longos e tempos de paragem reduzidos. A acumulação de calor é distribuída uniformemente pela área da superfície, permitindo densidades de potência mais elevadas e maior velocidade de deposição. Isto leva a um melhor desempenho durante a pulverização reactiva.
A KINTEK é um fornecedor especializado na produção de alvos ITO de elevada pureza. Oferecem alvos de pulverização rotativa cilíndricos feitos à medida em vários tamanhos, desde 2" até 8,625" de diâmetro e comprimentos desde algumas polegadas até 160 polegadas. Os alvos são analisados utilizando técnicas como a fluorescência de raios X (XRF), a espetrometria de massa de descarga luminescente (GDMS) e o plasma indutivamente acoplado (ICP) para garantir a mais elevada qualidade.
Para obter o melhor desempenho e evitar fissuras ou sobreaquecimento, recomenda-se a colagem do alvo ITO a uma placa de suporte. Os métodos de produção de alvos compostos utilizados pela KINTEK incluem a prensagem a quente sob vácuo, a prensagem isostática a quente, a prensagem isostática a frio e a sinterização por prensagem a frio. Os alvos podem ser fabricados em várias formas e tamanhos, incluindo retangular, anular ou oval, dependendo dos requisitos específicos.
Em resumo, um alvo ITO é um alvo de pulverização catódica constituído por uma mistura de óxido de índio e óxido de estanho. É utilizado em várias indústrias para a deposição de películas finas e oferece uma combinação de condutividade eléctrica e transparência ótica. Fabricados através de diferentes métodos, os alvos ITO têm frequentemente a forma de alvos rotativos, que apresentam vantagens em relação aos alvos planos em termos de utilização de material e desempenho de deposição. A KINTEK é um fornecedor especializado na produção de alvos de ITO de elevada pureza em vários tamanhos e formas.
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