Os alvos de pulverização são componentes essenciais no processo de deposição por pulverização catódica. Eles fornecem a fonte de material para a criação de filmes finos.
4 tipos principais de alvos de aspersão que você precisa conhecer
Alvos de pulverização de metal
Os alvos de pulverização de metal são feitos de elementos metálicos puros. Eles são normalmente usados em aplicações onde a pureza do metal é crucial. Isso inclui a produção de semicondutores e chips de computador. Os alvos metálicos podem ser qualquer metal elementar que seja adequado para as propriedades desejadas da película fina.
Alvos de pulverização de liga
Os alvos de pulverização de ligas são feitos de misturas de metais. As ligas são escolhidas para obter propriedades específicas nas películas finas. Essas propriedades incluem maior dureza, melhor condutividade ou maior resistência à corrosão. A composição da liga pode ser adaptada para atender aos requisitos específicos da aplicação.
Alvos de pulverização de cerâmica
Os alvos de sputtering cerâmicos são feitos de compostos não metálicos. Estes compostos são tipicamente óxidos ou nitretos. Os alvos cerâmicos são usados para criar filmes finos com alta dureza e resistência ao desgaste. Isto torna-os adequados para aplicações em ferramentas e instrumentos de corte. Os materiais cerâmicos fornecem frequentemente propriedades de isolamento térmico e elétrico.
Formas especializadas de alvos de pulverização catódica
As formas dos alvos de pulverização catódica evoluíram das formas tradicionais para formas mais especializadas. Por exemplo, os alvos rotativos são cilíndricos e concebidos para proporcionar uma deposição de película fina mais precisa. Estes alvos têm uma área de superfície maior, o que permite taxas de deposição mais rápidas. A capacidade de personalizar a forma dos alvos de pulverização catódica permite uma melhor adaptação a sistemas e requisitos de deposição específicos.
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