Para limpar um alvo de pulverização catódica, siga estes passos:
Passo 1: Limpe com um pano macio que não largue pêlos, embebido em acetona. Isto ajudará a remover qualquer pó ou sujidade que possa estar presente na superfície do alvo.
Passo 2: Limpar com álcool. Este passo ajuda a remover quaisquer contaminantes ou resíduos no alvo.
Passo 3: Limpar com água desionizada. A água desionizada é utilizada para garantir que quaisquer impurezas ou resíduos remanescentes são completamente removidos do alvo.
Passo 4: Após a limpeza com água desionizada, colocar o alvo na estufa e secar a 100 ℃ durante 30 minutos. Este passo é importante para garantir que o alvo está completamente seco antes de continuar a ser utilizado.
Além de limpar o alvo de pulverização catódica, há também algumas precauções a serem tomadas durante o processo de pulverização catódica:
1. Preparação da pulverização catódica: É importante manter a câmara de vácuo e o sistema de pulverização catódica limpos. Quaisquer resíduos ou contaminantes podem aumentar a possibilidade de falha da película ou de curto-circuitos no sistema.
2. Instalação do alvo: Assegurar uma boa ligação térmica entre o alvo e a parede estabilizadora da pistola de pulverização catódica. Se a placa de arrefecimento ou a placa de suporte estiver deformada, pode afetar a condutividade térmica e provocar fissuras ou dobras no alvo.
3. Manter a limpeza do gás de pulverização catódica: O gás de pulverização catódica, como o árgon ou o oxigénio, deve estar limpo e seco para manter as características da composição do revestimento.
De um modo geral, a limpeza e a manutenção do alvo de pulverização catódica são cruciais para conseguir uma deposição de película fina de alta qualidade e para evitar quaisquer problemas potenciais durante o processo de pulverização catódica.
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