Materiais de laboratório
Óxido de escândio de alta pureza (Sc2O3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-Sc2O3
O preço varia com base em specs and customizations
- Fórmula química
- Sc2O3
- Pureza
- 4N
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.
Solicite sua cotação personalizada 👋
Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappA preços competitivos, oferecemos materiais de óxido de escândio (Sc2O3) adaptados para uso em laboratório. A nossa experiência reside na produção de materiais de óxido de escândio (Sc2O3) com diferentes purezas, formas e tamanhos, para satisfazer as suas necessidades específicas.
A nossa seleção inclui uma variedade de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes, blocos e muito mais.
Detalhes
Sobre o óxido de escândio (Sc2O3)
Os compostos de óxido são geralmente não condutores de eletricidade, mas alguns óxidos estruturados em perovskite são eletronicamente condutores e são utilizados em cátodos de células de combustível de óxido sólido e sistemas de geração de oxigénio. Estes compostos contêm pelo menos um anião de oxigénio e um catião metálico. São insolúveis em água e muito estáveis, o que os torna úteis em cerâmicas e componentes estruturais leves para aplicações aeroespaciais e electroquímicas, como as células de combustível.
Os compostos de óxido metálico são anidridos básicos que podem reagir com ácidos e agentes redutores fortes em reacções redox. O óxido de escândio está disponível em várias formas, incluindo pastilhas, pó, alvos de pulverização catódica e nanopó.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.9
out of
5
Excellent product with fast delivery. Perfect for our research!
4.7
out of
5
Great quality and purity! Highly recommend for semiconductor applications.
4.8
out of
5
Very durable and long-lasting. Exactly what we needed!
4.6
out of
5
Amazingly fast delivery! We're very satisfied with the product's quality.
4.8
out of
5
Excellent value for money. We're very impressed with the results.
4.7
out of
5
Top-notch quality and purity. Highly recommend for thin-film applications.
4.9
out of
5
Exceptional product! We're very pleased with its performance.
4.8
out of
5
Great customer service and fast shipping. We're very happy with the product.
4.7
out of
5
Very satisfied with the product's quality and durability. Highly recommend!
4.6
out of
5
Excellent value for money. We're very impressed with its performance.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Escândio de alta pureza (Sc) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de escândio (Sc) para utilização em laboratório? Os nossos preços acessíveis e a nossa experiência na produção e personalização de materiais de acordo com as suas necessidades fazem de nós a escolha perfeita! Escolha entre uma gama diversificada de formas, tamanhos e especificações.
Procura materiais de óxido de crómio de alta qualidade para o seu laboratório? A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais, personalizados de acordo com as suas necessidades. Compre agora a preços razoáveis.
Dióxido de silício de alta pureza (SiO2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de dióxido de silício para o seu laboratório? Os nossos materiais de SiO2, feitos à medida, estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos. Consulte a nossa vasta gama de especificações hoje mesmo!
Obtenha materiais de alta qualidade de óxido de samário (Sm2O3) para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos materiais habilmente produzidos e adaptados vêm em diferentes formas e tamanhos para se adaptarem às suas necessidades. Navegue pela nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de óxido de ítrio de alta pureza (Y2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de óxido de ítrio (Y2O3) de alta qualidade adaptados às necessidades específicas do seu laboratório. A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais, tudo a preços razoáveis.
Obtenha materiais de Óxido de Zircónio (ZrO2) de alta qualidade adaptados às suas necessidades. Oferecemos uma variedade de formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, pós e muito mais, a preços acessíveis.
Procura materiais de Óxido de Tungsténio (WO3) de alta qualidade? Os nossos produtos de qualidade laboratorial são adaptados às suas necessidades específicas, com uma gama de purezas, formas e tamanhos disponíveis. Compre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.
Compre materiais de óxido de neodímio de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos produtos personalizados estão disponíveis em diferentes graus de pureza, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Escolha entre uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.
Encontre materiais de alta qualidade de óxido de tântalo (Ta2O5) para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Os nossos especialistas podem adaptar materiais de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos específicos. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de samário (Sm) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de Samário (Sm) para o seu laboratório? Oferecemos uma vasta gama de tamanhos e especificações para alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais a preços acessíveis. Personalizados de acordo com os seus requisitos exclusivos.
Sulfureto de tungsténio (WS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de Sulfureto de Tungsténio (WS2) para o seu laboratório? Oferecemos uma gama de opções personalizáveis a óptimos preços, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Encomende agora!
Materiais de óxido de cério (CeO2) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Formas e tamanhos personalizáveis. Alvos de pulverização catódica, pós, pós para impressão 3D e muito mais. Encomendar agora!
Alvo de pulverização catódica de crómio (Cr) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de crómio a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos formas e tamanhos personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, folhas, pós e muito mais. Contacte-nos hoje.
Compre materiais de óxido de vanádio (V2O3) para o seu laboratório a preços razoáveis. Oferecemos soluções personalizadas de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.
Selénio de alta pureza (Se) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de selénio (Se) a preços acessíveis para utilização em laboratório? Somos especializados na produção e adaptação de materiais de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Placa de cerâmica de zircónia - estabilizada com ítria maquinada com precisão
A zircónia estabilizada com ítrio tem características de elevada dureza e resistência a altas temperaturas, tendo-se tornado um material importante no domínio dos refractários e das cerâmicas especiais.
Procura materiais de óxido de alumínio para o seu laboratório? Oferecemos produtos de Al2O3 de alta qualidade a preços acessíveis com formas e tamanhos personalizáveis para atender às suas necessidades específicas. Encontre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Procura materiais de óxido de molibdénio (MoO3) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? A nossa empresa fornece soluções à medida a preços razoáveis. Oferecemos uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Contacte-nos hoje mesmo!
Haste cerâmica de zircónia - Maquinação de precisão de ítrio estabilizado
As varetas de cerâmica de zircónio são preparadas por prensagem isostática, e uma camada cerâmica uniforme, densa e lisa e uma camada de transição são formadas a alta temperatura e alta velocidade.
Sulfureto de molibdénio (MoS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Molibdénio a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Formas, tamanhos e purezas personalizados disponíveis. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.
Cerâmica de óxido de alumínio (Al2O3) Dissipador de calor - Isolamento
A estrutura de orifícios do dissipador de calor em cerâmica aumenta a área de dissipação de calor em contacto com o ar, o que aumenta consideravelmente o efeito de dissipação de calor, e o efeito de dissipação de calor é melhor do que o do super cobre e do alumínio.
Alumina Zircónia Processamento de peças com formas especiais Placas de cerâmica feitas à medida
As cerâmicas de alumina têm boa condutividade eléctrica, resistência mecânica e resistência a altas temperaturas, enquanto as cerâmicas de zircónio são conhecidas pela sua elevada resistência e tenacidade e são amplamente utilizadas.
Haste cerâmica isolada de alumina (Al2O3)
A barra de alumina isolada é um material cerâmico fino. As barras de alumina têm excelentes propriedades de isolamento elétrico, elevada resistência química e baixa expansão térmica.