Materiais de laboratório
Alvo de pulverização catódica de óxido de crómio de elevada pureza (Cr2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-Cr2O3
O preço varia com base em specs and customizations
- Fórmula química
- Cr2O3
- Pureza
- 4N
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.
Solicite sua cotação personalizada 👋
Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappOferecemos materiais de óxido de crómio (Cr2O3) para uso laboratorial a preços acessíveis. A nossa especialização reside no fabrico e personalização de materiais de óxido de crómio (Cr2O3) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.
Oferecemos uma vasta gama de especificações e tamanhos para várias aplicações, tais como alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, entre outros.
Detalhes
Sobre o Óxido de Crómio (Cr2O3)
Óxido de cromo (III), é uma fonte de cromo altamente insolúvel e termicamente estável que encontra aplicação em várias indústrias, como vidro, ótica e cerâmica. Este sólido verde e higroscópico é encontrado naturalmente como o mineral raro eskolaite.
Os compostos de óxido, em geral, não são condutores de eletricidade. No entanto, certos óxidos estruturados em perovskite são condutores de eletricidade, o que os torna úteis no cátodo de células de combustível de óxido sólido e em sistemas de produção de oxigénio. Estes compostos contêm pelo menos um anião de oxigénio e um catião metálico. São tipicamente insolúveis em soluções aquosas, o que os torna extremamente estáveis e úteis em estruturas cerâmicas, desde simples tigelas de argila a componentes electrónicos avançados e componentes estruturais leves em aplicações aeroespaciais e electroquímicas.
O pó de óxido de crómio (Cr2O3) de elevada pureza (99,999%) encontra aplicações em células de combustível, onde apresenta condutividade iónica. Os compostos de óxido de metal são anidridos básicos, o que significa que podem reagir com ácidos e agentes redutores fortes em reacções redox. O óxido de crómio também está disponível em pellets, pedaços, pó, alvos de pulverização catódica, comprimidos e formas de nanopó. Em geral, está imediatamente disponível na maioria dos volumes, e podem ser consideradas formas submicrónicas e de nanopó de elevada pureza.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.8
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide materials have exceeded our expectations in terms of quality and consistency. We highly recommend them for your laboratory needs.
4.9
out of
5
I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my research for years, and they've always been reliable and produced excellent results. Highly recommended!
4.7
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide powders have been instrumental in our battery research. Their high purity and fine grain size have enabled us to achieve remarkable results. Keep up the great work!
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our ceramic applications, and we've been thoroughly impressed with their durability and thermal stability. Highly satisfied!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide granules have been a game-changer for our material science research. Their uniform size and high purity have enabled us to obtain highly accurate and reproducible data. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide wires for our electronics applications, and they've been performing exceptionally well. Their high conductivity and resistance to corrosion have been crucial for our success. Highly recommended!
4.8
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide ingots have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and fine grain structure have enabled us to achieve superior results in our research. Thank you, KINTEK!
4.9
out of
5
I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my thin-film research, and I'm consistently impressed with their performance. They produce high-quality films with excellent uniformity and adhesion. Highly recommended!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide particles for our catalysis research, and we've been very satisfied with the results. Their high surface area and chemical purity have enabled us to achieve high catalytic activity and selectivity. Thank you, KINTEK!
4.8
out of
5
I'm very impressed with the quality and consistency of KINTEK's Chromium Oxide powders. I've been using them for my research on solid oxide fuel cells, and they've been performing exceptionally well. Highly recommended!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets have been a lifesaver for our research on magnetic materials. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent magnetic properties. Thank you, KINTEK!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our high-temperature applications, and they've been performing flawlessly. Their exceptional thermal stability and durability have been instrumental in our success. Highly recommended!
4.8
out of
5
I'm very satisfied with the performance of KINTEK's Chromium Oxide granules. I've been using them for my research on electrochemical sensors, and they've been delivering highly reproducible and reliable results. Thank you, KINTEK!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide wires have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and excellent conductivity have enabled us to achieve superior performance in our electronic devices. Highly recommended!
4.7
out of
5
We've been using KINTEK's Chromium Oxide ingots for our research on energy storage materials, and we've been very impressed with their results. Their high energy density and long cycle life have been crucial for our success. Thank you, KINTEK!
4.8
out of
5
I'm very happy with the quality and performance of KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent optical properties. Highly recommended!
4.9
out of
5
KINTEK's Chromium Oxide particles have been a game-changer for our research on nanomaterials. Their uniform size and high purity have enabled us to achieve remarkable results. Thank you, KINTEK!
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Alvo de pulverização catódica de crómio (Cr) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de crómio a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos formas e tamanhos personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, folhas, pós e muito mais. Contacte-nos hoje.
Obtenha materiais de Óxido de Zircónio (ZrO2) de alta qualidade adaptados às suas necessidades. Oferecemos uma variedade de formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, pós e muito mais, a preços acessíveis.
Procura materiais de óxido de alumínio para o seu laboratório? Oferecemos produtos de Al2O3 de alta qualidade a preços acessíveis com formas e tamanhos personalizáveis para atender às suas necessidades específicas. Encontre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de óxido de ítrio de alta pureza (Y2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de óxido de ítrio (Y2O3) de alta qualidade adaptados às necessidades específicas do seu laboratório. A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais, tudo a preços razoáveis.
Procura materiais de Óxido de Tungsténio (WO3) de alta qualidade? Os nossos produtos de qualidade laboratorial são adaptados às suas necessidades específicas, com uma gama de purezas, formas e tamanhos disponíveis. Compre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.
Óxido de escândio de alta pureza (Sc2O3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de alta qualidade de óxido de escândio (Sc2O3) para uso em laboratório a preços razoáveis. As nossas soluções personalizadas combinam diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.
Vidro sem álcalis / vidro de boro-aluminossilicato
O vidro de boroaluminossilicato é altamente resistente à expansão térmica, o que o torna adequado para aplicações que requerem resistência a mudanças de temperatura, tais como vidraria de laboratório e utensílios de cozinha.
Liga de crómio-níquel (CrNi) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de alta qualidade em liga de crómio-níquel (CrNi) para o seu laboratório? Não precisa de procurar mais do que as nossas opções habilmente elaboradas e personalizadas. Explore a nossa vasta gama de tamanhos e especificações, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais. Compre agora!
Placa de cerâmica de zircónia - estabilizada com ítria maquinada com precisão
A zircónia estabilizada com ítrio tem características de elevada dureza e resistência a altas temperaturas, tendo-se tornado um material importante no domínio dos refractários e das cerâmicas especiais.
Materiais de óxido de cério (CeO2) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Formas e tamanhos personalizáveis. Alvos de pulverização catódica, pós, pós para impressão 3D e muito mais. Encomendar agora!
Cerâmica de óxido de alumínio (Al2O3) Dissipador de calor - Isolamento
A estrutura de orifícios do dissipador de calor em cerâmica aumenta a área de dissipação de calor em contacto com o ar, o que aumenta consideravelmente o efeito de dissipação de calor, e o efeito de dissipação de calor é melhor do que o do super cobre e do alumínio.
Dióxido de silício de alta pureza (SiO2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de dióxido de silício para o seu laboratório? Os nossos materiais de SiO2, feitos à medida, estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos. Consulte a nossa vasta gama de especificações hoje mesmo!
Procura materiais de óxido de molibdénio (MoO3) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? A nossa empresa fornece soluções à medida a preços razoáveis. Oferecemos uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Contacte-nos hoje mesmo!
Placa ótica de quartzo JGS1 / JGS2 / JGS3
A placa de quartzo é um componente transparente, durável e versátil, amplamente utilizado em vários sectores. Fabricada a partir de cristal de quartzo de alta pureza, apresenta uma excelente resistência térmica e química.
Alvo de pulverização catódica de óxido de háfnio de alta pureza (HfO2) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de Óxido de Háfnio (HfO2) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Os nossos produtos personalizados estão disponíveis em vários tamanhos e formas, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de óxido de zinco (ZnO) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de Óxido de Zinco (ZnO) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços óptimos. A nossa equipa de especialistas produz materiais à medida em várias purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Compre agora!
Cadinho de evaporação de grafite
Recipientes para aplicações a alta temperatura, em que os materiais são mantidos a temperaturas extremamente elevadas para evaporar, permitindo a deposição de películas finas em substratos.
Haste cerâmica isolada de alumina (Al2O3)
A barra de alumina isolada é um material cerâmico fino. As barras de alumina têm excelentes propriedades de isolamento elétrico, elevada resistência química e baixa expansão térmica.
Compre materiais de óxido de neodímio de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos produtos personalizados estão disponíveis em diferentes graus de pureza, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Escolha entre uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.
Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único
O silício (Si) é amplamente considerado como um dos materiais minerais e ópticos mais duráveis para aplicações na gama do infravermelho próximo (NIR), aproximadamente de 1 μm a 6 μm.
Alvo de pulverização catódica de ródio (Rh) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de ródio de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços excelentes. A nossa equipa de especialistas produz e personaliza ródio de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Escolha entre uma vasta gama de produtos, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Obtenha materiais de Óxido de Bismuto (Bi2O3) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços razoáveis. Escolha entre uma vasta gama de tamanhos e formas para satisfazer as suas necessidades específicas. Encomendar agora!
Dióxido de irídio IrO2 para eletrólise da água
Dióxido de irídio, cuja estrutura cristalina é o rutilo. O dióxido de irídio e outros óxidos de metais raros podem ser utilizados em eléctrodos anódicos para eletrólise industrial e microelectrodos para investigação electrofisiológica.
Obtenha materiais de óxido de ferro (Fe3O4) de diferentes purezas, formas e tamanhos para utilização em laboratório. A nossa gama inclui alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós, fio-máquina e muito mais. Contacte-nos agora.
Alumina Zircónia Processamento de peças com formas especiais Placas de cerâmica feitas à medida
As cerâmicas de alumina têm boa condutividade eléctrica, resistência mecânica e resistência a altas temperaturas, enquanto as cerâmicas de zircónio são conhecidas pela sua elevada resistência e tenacidade e são amplamente utilizadas.
Alvo de pulverização catódica de óxido de níquel de alta pureza (Ni2O3) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de Óxido de Níquel de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. As nossas soluções personalizadas adaptam-se às suas necessidades específicas. Descubra uma gama de formas, tamanhos e especificações para alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.