Conhecimento Como fazer a pulverização catódica?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 1 semana

Como fazer a pulverização catódica?

A pulverização catódica é um processo utilizado para depositar películas finas de materiais em substratos através da ejeção de átomos de um material alvo sólido através do bombardeamento por iões energéticos. O processo envolve várias etapas, incluindo a colocação do material alvo numa câmara de vácuo, a introdução de um gás de processo, a aplicação de um potencial elétrico para criar um plasma e a ejeção de átomos do alvo para o substrato.

Resumo da resposta:

A pulverização catódica funciona colocando um material alvo numa câmara de vácuo, enchendo a câmara com um gás de processo, aplicando um potencial elétrico para criar um plasma e bombardeando o alvo com iões energéticos para ejetar átomos que são depois depositados num substrato.

  1. Explicação pormenorizada:Preparação do material alvo:

  2. O material de revestimento, na forma sólida, é colocado num magnetrão, que serve de cátodo no sistema de pulverização catódica. O material deve ser puro para obter revestimentos de alta qualidade e o ambiente deve estar limpo.

  3. Evacuação da câmara de vácuo:

  4. A câmara é evacuada para remover quase todas as moléculas, criando um vácuo. Este passo é crucial para evitar a contaminação e garantir que o processo de pulverização catódica ocorre num ambiente controlado.Introdução do gás de processo:

  5. A câmara é preenchida com um gás de processo, normalmente árgon, oxigénio ou nitrogénio, dependendo do material a depositar. O gás é ionizado no passo seguinte para criar o plasma necessário para a pulverização catódica.

  6. Criação do Plasma:

  7. É aplicado um potencial elétrico ao material alvo, tornando-o carregado negativamente. O corpo da câmara serve como ânodo positivo. Esta configuração eléctrica ioniza o gás do processo, criando um plasma que contém iões energéticos.Bombardeamento e Sputtering:

Os iões energéticos no plasma são acelerados em direção ao material alvo carregado negativamente. Quando estes iões colidem com o alvo, transferem energia, fazendo com que os átomos do alvo sejam ejectados. Este processo é conhecido como pulverização catódica.

Deposição de material:

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