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Seleneto de índio (In2Se3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Materiais de laboratório

Seleneto de índio (In2Se3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Número do item : LM-In2Se3

O preço varia com base em especificações e personalizações


Fórmula química
In2Se3
Pureza
4N
Forma
discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
ISO & CE icon

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Oferecemos materiais de seleneto de índio (In2Se3) a preços razoáveis para as suas necessidades de investigação. Com a nossa experiência, podemos produzir e adaptar materiais de seleneto de índio (In2Se3) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos específicos.

Oferecemos uma gama diversificada de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (incluindo formas circulares, quadradas, tubulares e irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes, blocos e muito mais.

Detalhes

Alvo de pulverização de seleneto de índio (In2Se3)
Alvo de pulverização de seleneto de índio (In2Se3)

Sobre o seleneto de índio (In2Se3)

O seleneto de índio (III) é um composto semicondutor do tipo III-VI que cristaliza numa estrutura de rede.

O seleneto de índio (III) é um composto de índio e selénio. Tem potencial para utilização em dispositivos fotovoltaicos e tem sido objeto de extensa investigação. O intervalo de banda do γ-In2Se3 é de aproximadamente 1,9 eV.

As duas fases mais comuns, α e β, têm uma estrutura em camadas, enquanto γ é uma "estrutura de wurtzite com defeito". No total, existem cinco formas conhecidas (α, β, γ, δ, κ). A transição de fase α- β é acompanhada por uma alteração na condutividade eléctrica.

A forma cristalina de uma amostra pode depender do método de produção. Por exemplo, foram produzidas películas finas de γ-In2Se3 puro a partir de trimetilíndio, InMe3, e seleneto de hidrogénio, H2Se, utilizando técnicas MOCVD. Foi desenvolvido um procedimento sintético para encapsular nanofitas de β-In2Se3 de camada única dentro de nanotubos de carbono.

As nanofitas encapsuladas sofrem uma mudança de fase induzida termicamente para nanofios γ-In2Se3 após aquecimento a 400 ° C.

Controle de qualidade de ingredientes

Análise da composição da matéria-prima
Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;

Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio.
Análise de detecção de falhas metalográficas
O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;

Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos.
Inspeção de aparência e dimensão
As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;

O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.

Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional

Processo de preparação
prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
Forma do alvo de pulverização catódica
pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado.
Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado

Formas metálicas disponíveis

Detalhes de formas metálicas

Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.

  • Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
  • Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
  • Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos
  • < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
  • Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
  • Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
  • Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes

A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.

Embalagem

Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

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Irem Eker

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