Materiais de laboratório
Seleneto de índio (In2Se3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-In2Se3
O preço varia com base em specs and customizations
- Fórmula química
- In2Se3
- Pureza
- 4N
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.
Solicite sua cotação personalizada 👋
Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappOferecemos materiais de seleneto de índio (In2Se3) a preços razoáveis para as suas necessidades de investigação. Com a nossa experiência, podemos produzir e adaptar materiais de seleneto de índio (In2Se3) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos específicos.
Oferecemos uma gama diversificada de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (incluindo formas circulares, quadradas, tubulares e irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes, blocos e muito mais.
Detalhes
Sobre o seleneto de índio (In2Se3)
O seleneto de índio (III) é um composto semicondutor do tipo III-VI que cristaliza numa estrutura de rede.
O seleneto de índio (III) é um composto de índio e selénio. Tem potencial para utilização em dispositivos fotovoltaicos e tem sido objeto de extensa investigação. O intervalo de banda do γ-In2Se3 é de aproximadamente 1,9 eV.
As duas fases mais comuns, α e β, têm uma estrutura em camadas, enquanto γ é uma "estrutura de wurtzite com defeito". No total, existem cinco formas conhecidas (α, β, γ, δ, κ). A transição de fase α- β é acompanhada por uma alteração na condutividade eléctrica.
A forma cristalina de uma amostra pode depender do método de produção. Por exemplo, foram produzidas películas finas de γ-In2Se3 puro a partir de trimetilíndio, InMe3, e seleneto de hidrogénio, H2Se, utilizando técnicas MOCVD. Foi desenvolvido um procedimento sintético para encapsular nanofitas de β-In2Se3 de camada única dentro de nanotubos de carbono.
As nanofitas encapsuladas sofrem uma mudança de fase induzida termicamente para nanofios γ-In2Se3 após aquecimento a 400 ° C.
Controle de qualidade de ingredientes
- Análise da composição da matéria-prima
- Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;
Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio. - Análise de detecção de falhas metalográficas
- O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;
Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos. - Inspeção de aparência e dimensão
- As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;
O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.
Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional
- Processo de preparação
- prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
- Forma do alvo de pulverização catódica
- pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
- Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
- Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado. - Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado
Formas metálicas disponíveis
Detalhes de formas metálicas
Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.
- Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
- Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
- Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
- Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
- Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
- Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes
A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.
Embalagem
Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
4.8
out of
5
Their Indium Selenide (In2Se3) is really worth the money. It's worth every penny.
4.9
out of
5
I highly recommend KINTEK SOLUTION's products. Their commitment to quality and customer satisfaction is evident in the superior quality of their materials.
4.7
out of
5
The delivery was quicker than I expected, and the quality of the product is exceptional. Very satisfied with my purchase.
4.8
out of
5
The technological advancement of their products is truly impressive. They continuously innovate to meet the evolving needs of the industry.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Indium Selenide (In2Se3) is a game-changer for our research. Its durability and reliability have been exceptional.
4.9
out of
5
The quality of their Indium Selenide (In2Se3) is outstanding. The consistency in performance is commendable.
4.7
out of
5
The customer service at KINTEK SOLUTION is top-notch. They go above and beyond to ensure customer satisfaction.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's commitment to quality and innovation is reflected in the exceptional products they offer. Highly satisfied with my experience.
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Seleneto de índio(II) (InSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de seleneto de índio (II) de alta qualidade para o seu laboratório a preços razoáveis? Os nossos produtos InSe adaptados e personalizáveis estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Escolha entre uma gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Alvo de pulverização catódica de índio de elevada pureza (In) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Looking for high-quality Indium materials for laboratory use? Look no further! Our expertise lies in producing tailored Indium materials of varying purities, shapes, and sizes. We offer a wide range of Indium products to suit your unique requirements. Order now at reasonable prices!
Obtenha alvos de pulverização de óxido de índio e estanho (ITO) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços razoáveis. As nossas opções personalizadas de diferentes formas e tamanhos satisfazem os seus requisitos exclusivos. Navegue pela nossa gama hoje mesmo.
Seleneto de zinco (ZnSe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de Seleneto de Zinco (ZnSe) para o seu laboratório? Os nossos preços acessíveis e as opções adaptadas por especialistas fazem de nós a escolha perfeita. Explore a nossa vasta gama de especificações e tamanhos hoje mesmo!
Selénio de alta pureza (Se) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de selénio (Se) a preços acessíveis para utilização em laboratório? Somos especializados na produção e adaptação de materiais de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Liga de cobre, níquel e índio (CuNiIn) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de cobre, níquel e índio para o seu laboratório? Os nossos produtos económicos estão disponíveis em diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Consulte os nossos alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais!
Sulfureto de zinco (ZnS) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de sulfureto de zinco (ZnS) a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais. Produzimos e personalizamos materiais de ZnS de diferentes purezas, formas e tamanhos. Escolha entre uma vasta gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Sulfureto de tungsténio (WS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de Sulfureto de Tungsténio (WS2) para o seu laboratório? Oferecemos uma gama de opções personalizáveis a óptimos preços, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais. Encomende agora!
Silicone de infravermelhos / Silicone de alta resistência / Lente de silicone de cristal único
O silício (Si) é amplamente considerado como um dos materiais minerais e ópticos mais duráveis para aplicações na gama do infravermelho próximo (NIR), aproximadamente de 1 μm a 6 μm.
Sulfureto de estanho (SnS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Estanho (SnS2) para o seu laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais para satisfazer as suas necessidades específicas. Veja a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.
Dióxido de silício de alta pureza (SiO2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Está à procura de materiais de dióxido de silício para o seu laboratório? Os nossos materiais de SiO2, feitos à medida, estão disponíveis em vários graus de pureza, formas e tamanhos. Consulte a nossa vasta gama de especificações hoje mesmo!
Janela de sulfureto de zinco (ZnS)
Ótica As janelas de sulfureto de zinco (ZnS) têm uma excelente gama de transmissão de infravermelhos entre 8-14 microns. Excelente resistência mecânica e inércia química para ambientes agressivos (mais duras do que as janelas de ZnSe)
Alvo de pulverização catódica de carboneto de molibdénio (Mo2C) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de alta qualidade em carboneto de molibdénio (Mo2C) para o seu laboratório? Não procure mais! Os nossos materiais produzidos por especialistas estão disponíveis numa gama de purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas. Compre hoje alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Sulfureto de antimónio (Sb2S3) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de alta qualidade de Sulfureto de Antimónio (Sb2S3) para o seu laboratório a preços razoáveis. Os nossos produtos personalizáveis incluem alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais. Encomendar agora!
As lentes de germânio são lentes ópticas duráveis e resistentes à corrosão, adequadas para ambientes agressivos e aplicações expostas aos elementos.
Sulfureto de molibdénio (MoS2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Encontre materiais de alta qualidade de Sulfureto de Molibdénio a preços razoáveis para as suas necessidades laboratoriais. Formas, tamanhos e purezas personalizados disponíveis. Navegue pela nossa seleção de alvos de pulverização catódica, pós e muito mais.
Seleneto de zinco（ZnSe） janela / substrato / lente ótica
O seleneto de zinco é formado pela síntese de vapor de zinco com gás H2Se, resultando em depósitos em forma de folha em receptores de grafite.
Siliceto de cobalto (CoSi2) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de siliceto de cobalto a preços acessíveis para a sua investigação laboratorial? Oferecemos soluções personalizadas de diferentes purezas, formas e tamanhos, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Explore a nossa gama agora!
Alvo de pulverização catódica de carboneto de silício (SiC) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Procura materiais de carboneto de silício (SiC) de alta qualidade para o seu laboratório? Não procure mais! A nossa equipa de especialistas produz e adapta materiais de SiC às suas necessidades exactas a preços razoáveis. Consulte a nossa gama de alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.
Folha de cerâmica de carboneto de silício (SIC) dissipador de calor plano/ondulado
O dissipador de calor cerâmico de carboneto de silício (sic) não só não gera ondas electromagnéticas, como também pode isolar ondas electromagnéticas e absorver parte das ondas electromagnéticas.
Alvo de pulverização catódica de germânio (Ge) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais em ouro de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Os nossos materiais de ouro feitos à medida estão disponíveis em várias formas, tamanhos e purezas para se adaptarem às suas necessidades específicas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, folhas, pós e muito mais.
Telureto de cobalto (CoTe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Obtenha materiais de telureto de cobalto de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços razoáveis. Oferecemos formas, tamanhos e purezas personalizados, incluindo alvos de pulverização catódica, revestimentos, pós e muito mais.