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Telureto de ferro (FeTe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Materiais de laboratório

Telureto de ferro (FeTe) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Número do item : LM-FeTe

O preço varia com base em especificações e personalizações


Fórmula química
FeTe
Pureza
3N
Rácio comummente utilizado
Fe:Te=3:2 at%
Forma
discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvos de degrau / por medida
ISO & CE icon

Envio:

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Fornecemos materiais de telureto de ferro (FeTe) para utilização em laboratório a preços competitivos. A nossa área de especialização é o fabrico e a personalização de materiais de telureto de ferro (FeTe) com diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.

Oferecemos uma vasta seleção de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, entre outros.

Detalhes

Alvo de pulverização de telureto de ferro (FeTe)
Alvo de pulverização de telureto de ferro (FeTe)

Sobre o telureto de ferro (FeTe)

Telureto de ferro (II) (FeTe), um produto cultivado em cristal que está amplamente disponível na maioria dos volumes.

Na nossa empresa, não só oferecemos materiais de FeTe padrão, mas também podemos produzir materiais personalizados para atender às suas necessidades e exigências específicas. A nossa equipa de especialistas pode fabricar materiais FeTe de acordo com as suas especificações personalizadas, permitindo-lhe tirar partido de novas tecnologias proprietárias e composições únicas para aplicações comerciais e de investigação.

Controle de qualidade de ingredientes

Análise da composição da matéria-prima
Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;

Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio.
Análise de detecção de falhas metalográficas
O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;

Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos.
Inspeção de aparência e dimensão
As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;

O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.

Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional

Processo de preparação
prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
Forma do alvo de pulverização catódica
pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado.
Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado

Formas metálicas disponíveis

Detalhes de formas metálicas

Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.

  • Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
  • Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
  • Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos
  • < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
  • Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
  • Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
  • Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes

A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.

Embalagem

Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

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KinTek's Iron Telluride materials arrived promptly, and their quality is top-notch. Our research team is thrilled.

Marlee G., Finland

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The Iron Telluride (FeTe) sputtering target we got from KinTek is worth every penny! Excellent performance and durability!

Keanu W., Australia

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KinTek's commitment to quality is evident in their Iron Telluride products. Highly recommended for research and industrial applications.

Ayanna S., Canada

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KinTek's Iron Telluride materials are game-changers in our lab. Their exceptional purity and consistency make our experiments more reliable.

Mohammed M., Saudi Arabia

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We've been using KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets for months, and they've consistently exceeded our expectations. Highly recommended!

Leticia P., Brazil

4.8

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KinTek's Iron Telluride materials are a testament to their expertise in materials science. Impeccable quality and prompt delivery.

Oliver B., Germany

4.9

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KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have revolutionized our thin-film research. Their consistency and reliability are unmatched.

Sakura H., Japan

4.7

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KinTek's Iron Telluride materials have enabled us to push the boundaries of our research. Their custom-tailored solutions are truly remarkable.

David A., United Kingdom

4.8

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5

KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets are the gold standard in our lab. Their superior quality and performance make them an unbeatable choice.

Isabella L., Italy

4.9

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5

KinTek's Iron Telluride materials are a game-changer for our research. Their exceptional purity and consistency have taken our experiments to the next level.

Liam F., Ireland

4.6

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5

KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have transformed our thin-film deposition process. Their durability and reliability are simply outstanding.

Ethan H., United States

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