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Materiais de laboratório
Alvo de pulverização catódica de lutécio (Lu) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo
Número do item : LM-LU
O preço varia com base em specs and customizations
- Fórmula química
- Lu
- Pureza
- 3N
- Forma
- discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
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Obtenha sua cotação agora! Leave a Message Obtenha um orçamento rápido Via WhatsappTemos o prazer de oferecer materiais de lutécio (Lu) de qualidade laboratorial a preços competitivos. A nossa força reside na produção e personalização de materiais de lutécio (Lu) com diferentes purezas, formas e tamanhos, adaptados às suas necessidades específicas.
Oferecemos uma vasta seleção de alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes, blocos e outras especificações à escolha.
Detalhes
![Alvo de pulverização catódica de lutécio (Lu)](https://image.kindle-tech.com/images/products/227/30564f85658ead035ab7b63589d0c15d.webp)
Sobre o lutécio (Lu)
O lutécio é um material importante no campo da ciência dos materiais devido às suas propriedades únicas. Uma de suas propriedades notáveis é sua alta densidade, tornando o tantalato de lutécio um hospedeiro ideal para fósforos de raios X. Além disso, o lutécio é utilizado como dopante na correspondência dos parâmetros de rede de certos cristais de granada de substrato.
O lutécio está disponível em diferentes formas, incluindo alvos de pulverização catódica de elevada pureza, metal e compostos com purezas que variam entre 99% e 99,999%. O pó de óxido de lutécio de elevada pureza também está disponível em formas elementares ou metálicas, tais como pastilhas, varetas, fios e grânulos para fins de material de fonte de evaporação.
Além disso, o óxido de lutécio está disponível em pó e em pellets densos para aplicações de revestimento ótico e de película fina. Os fluoretos de lutécio, outra forma insolúvel de lutécio, são também utilizados na metalurgia, na deposição química e física de vapor e em alguns revestimentos ópticos.
Finalmente, o lutécio pode ser fabricado como compostos solúveis, tais como cloretos, nitratos e acetatos em estequiometrias especificadas.
FAQ
O que é a deposição física de vapor (PVD)?
O que é um alvo de pulverização catódica?
O que são materiais de elevada pureza?
O que é a pulverização catódica por magnetrão?
O que são metais de elevada pureza?
Como são feitos os alvos de pulverização catódica?
Porquê a pulverização catódica por magnetrões?
Para que são utilizados os metais de elevada pureza?
Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?
Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?
A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.
A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.
Quais são os benefícios da utilização de metais de elevada pureza?
O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?
Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?
Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.
A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.
Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.
Utilizações da deposição de película fina
Películas finas à base de óxido de zinco
As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.
Resistências de película fina
As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.
Filmes finos magnéticos
Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.
Filmes finos ópticos
Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.
Filmes finos de polímeros
Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.
Baterias de película fina
As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.
Revestimentos de película fina
Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.
Células solares de película fina
As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.
Que indústrias utilizam normalmente metais de elevada pureza?
Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?
Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas
Taxa de deposição:
A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.
Uniformidade:
A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.
Capacidade de preenchimento:
A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.
Características da película:
As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.
Temperatura do processo:
As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.
Danos:
Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.
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