A corrente de iões de pulverização num processo de pulverização catódica é um fator crucial que determina a eficiência e a qualidade do processo de deposição.
O que é a corrente de iões de pulverização catódica? (Explicado em 4 pontos-chave)
1. Sputtering de díodo DC
Na pulverização catódica com díodo DC, é aplicada uma tensão DC de 500 - 1000 V.
Esta tensão acende um plasma de árgon a baixa pressão entre um alvo e um substrato.
Os iões de árgon positivos são então acelerados em direção ao alvo devido a esta tensão.
Esta aceleração faz com que os átomos sejam ejectados do alvo e depositados no substrato.
2. Sputtering RF
Na pulverização catódica por radiofrequência, é utilizada uma corrente alternada com frequências de cerca de 14 MHz.
Este método permite a pulverização catódica de materiais isolantes.
Os electrões podem ser acelerados para oscilar com a RF.
Os iões mais pesados reagem apenas à tensão média gerada no sistema RF.
Os iões são afectados pela tensão de polarização automática (VDC) que os acelera até ao alvo.
Esta tensão de auto-polarização aproxima-se da tensão equivalente aplicada durante a pulverização catódica em corrente contínua.
3. Relação entre tensão e corrente
A corrente dos iões de pulverização catódica está diretamente relacionada com a tensão aplicada.
Na pulverização catódica por díodo DC, a corrente é determinada pela tensão DC de 500 - 1000 V.
Na pulverização catódica RF, a corrente é determinada pela tensão de polarização automática (VDC) que acelera os iões para o alvo.
4. Precisão e eficiência
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