Produtos Consumíveis e materiais de laboratório Materiais de laboratório high purity gold (Au) sputtering target / powder / wire / block / granule
alvo de pulverização catódica de ouro (Au) de elevada pureza / pó / fio / bloco / grânulo

Materiais de laboratório

alvo de pulverização catódica de ouro (Au) de elevada pureza / pó / fio / bloco / grânulo

Número do item : LM-AU

O preço varia com base em specs and customizations


Fórmula química
Au
Pureza
4N-5N
Forma
discos / fio / bloco / pó / placas / alvos de coluna / alvo de degrau / por medida
ISO & CE icon

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite On-time Dispatch Guarantee.

Oferecemos materiais de ouro (AU) para uso laboratorial a preços razoáveis. A nossa experiência consiste em produzir e adaptar materiais de ouro (AU) de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.

Fornecemos uma gama de especificações e tamanhos para alvos de pulverização catódica (circulares, quadrados, tubulares, irregulares), materiais de revestimento, cilindros, cones, partículas, folhas, pós, pós para impressão 3D, pós nanométricos, fio-máquina, lingotes e blocos, etc.

Produtos principais

  • Partículas de ouro 99,999%, Aplicação: Evaporação Térmica, Evaporação por Feixe de Electrões
  • Alvo de ouro 99,99%, Aplicação: Revestimento por pulverização catódica
  • Alvo de ouro SEM 99,99%, Aplicação: Equipamento de microscópio eletrónico de varrimento SEM
  • Fio de ouro 99.999%, Aplicação: evaporação térmica, etc.
  • Ligação de fio de ouro 99,99%, Aplicação: Embalagem de semicondutores LED
  • Pepitas de ouro 99,99%, Aplicação: Indústria de fundição de ligas, etc.
  • Lantejoulas de ouro 99,99%, Aplicação: evaporação, fusão, etc.
  • Vareta de ouro 99,999%, Aplicação: evaporação, fusão, etc.

Detalhes

alvos de pulverização de ouro
Alvos de pulverização de Au
pepita de ouro
pepita de ouro
alt
Grãos de Au
alvos de pulverização catódica AU
Alvos de pulverização de Au
fio AU
Fio de Au
partículas de Au
Partículas de Au
Partículas de Au
Partículas de Au
Placa de Au
Placa de Au

Sobre o ouro (Au)

O ouro é amplamente utilizado na cunhagem de moedas e é um padrão na maioria dos sistemas monetários modernos. Além disso, é amplamente utilizado em jóias, restaurações dentárias e chapeamento. As suas propriedades inertes e de boa reflexão de infravermelhos fazem dele uma excelente escolha para o revestimento de certos satélites espaciais.

A utilização do ouro na eletrónica tem registado um crescimento significativo, particularmente nas telecomunicações, tecnologias da informação e aplicações críticas para a segurança. Os computadores têm normalmente conectores de bordo banhados a ouro e os fios de ligação de ouro são amplamente utilizados em pacotes de semicondutores. As tintas de película espessa de ouro também são aplicadas no fabrico de circuitos híbridos. As excelentes propriedades de molhagem da solda do ouro tornam-no ideal para formar uma camada protetora em placas de circuito impresso laminadas de cobre.

O ouro está disponível em várias formas, incluindo metal, compostos com purezas que variam entre 99% e 99,999% e alvos de pulverização catódica para fins de material de origem de evaporação. Estão também disponíveis nanopartículas e nanopós de ouro e óxidos de ouro em pó e em pastilhas densas para aplicações de revestimento ótico e de película fina. O ouro também está disponível em formas solúveis, incluindo cloretos, nitratos e acetatos, que podem ser fabricados como soluções em estequiometrias especificadas.

Controle de qualidade de ingredientes

Análise da composição da matéria-prima
Através da utilização de equipamentos como ICP e GDMS, o conteúdo de impurezas metálicas é detectado e analisado para garantir que atenda ao padrão de pureza;

Impurezas não metálicas são detectadas por equipamentos como analisadores de carbono e enxofre, analisadores de nitrogênio e oxigênio.
Análise de detecção de falhas metalográficas
O material alvo é inspecionado por meio de equipamento de detecção de falhas para garantir que não haja defeitos ou furos de contração no interior do produto;

Através de testes metalográficos, a estrutura interna dos grãos do material alvo é analisada para garantir que os grãos sejam finos e densos.
Inspeção de aparência e dimensão
As dimensões do produto são medidas por meio de micrômetros e paquímetros de precisão para garantir a conformidade com os desenhos;

O acabamento superficial e a limpeza do produto são medidos usando um medidor de limpeza superficial.

Tamanhos de alvo de pulverização catódica convencional

Processo de preparação
prensagem isostática a quente, fusão a vácuo, etc.
Forma do alvo de pulverização catódica
pulverização catódica plana alvo, alvo de pulverização catódica multi-arco, alvo de pulverização catódica escalonada, alvo de pulverização catódica de formato especial
Tamanho do alvo de pulverização catódica redondo
Diâmetro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Espessura: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
O tamanho pode ser personalizado.
Tamanho do alvo de pulverização catódica quadrado
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, o tamanho pode ser personalizado

Formas metálicas disponíveis

Detalhes de formas metálicas

Fabricamos quase todos os metais listados na tabela periódica em uma ampla variedade de formas e purezas, bem como como tamanhos e dimensões padrão. Também podemos produzir produtos personalizados para atender às necessidades específicas do cliente, como tamanho, formato, área de superfície, composição e muito mais. A lista a seguir fornece um exemplo dos formulários que oferecemos, mas não é exaustiva. Se precisar de consumíveis de laboratório, entre em contato conosco diretamente para solicitar um orçamento.

  • Formas planas/planares: cartão, filme, folha, microfoil, microfolha, papel, placa, fita, folha, tira, Fita, Wafer
  • Formas pré-formadas: ânodos, bolas, faixas, barras, barcos, parafusos, briquetes, cátodos, círculos, bobinas, cadinhos, cristais, cubos, copos, cilindros, discos, eletrodos, fibras, filamentos , flanges, grades, lentes, mandris, porcas, peças, prismas, discos, anéis, hastes, formas, escudos, mangas, molas, quadrados, alvos de pulverização catódica, bastões, tubos, arruelas, janelas, fios
  • Microtamanhos: miçangas, pedaços, cápsulas, chips, moedas, poeira, flocos, grãos, grânulos, micropó, agulhas, partículas, seixos, pellets, alfinetes, comprimidos, pó, aparas, shot, lesmas, esferas, comprimidos
  • < li>Macrosizes: Tarugos, Pedaços, Estacas, Fragmentos, Lingotes, Pedaços, Pepitas, Pedaços, Perfurações, Pedras, Sobras, Segmentos, Aparas
  • Porosos e Semi-Porosos: Tecido, Espuma, Gaze, Favo de Mel, Malha, Esponja, Lã
  • Nanoescala: Nanopartículas, Nanopós, Nanofólios, Nanotubos, Nanobastões, Nanoprismas
  • Outros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Resíduo, Amostras, Espécimes

A KinTek é especializada na fabricação de materiais de alta e ultra-alta pureza com uma faixa de pureza de 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e, em alguns casos, até 99,99999% (7N). Nossos materiais estão disponíveis em graus específicos, incluindo graus UP/UHP, semicondutores, eletrônicos, deposição, fibra óptica e MBE. Nossos metais, óxidos e compostos de alta pureza são criados especificamente para atender às rigorosas demandas de aplicações de alta tecnologia e são ideais para uso como dopantes e materiais precursores para deposição de filmes finos, crescimento de cristais de semicondutores e síntese de nanomateriais. Esses materiais são usados em microeletrônica avançada, células solares, células de combustível, materiais ópticos e outras aplicações de ponta.

Embalagem

Usamos vácuo embalagens para nossos materiais de alta pureza, e cada material possui embalagens específicas adaptadas às suas características únicas. Por exemplo, nosso alvo de pulverização catódica Hf é etiquetado e rotulado externamente para facilitar a identificação eficiente e o controle de qualidade. Tomamos muito cuidado para evitar qualquer dano que possa ocorrer durante o armazenamento ou transporte.

FAQ

O que é a deposição física de vapor (PVD)?

A deposição física de vapor (PVD) é uma técnica de deposição de películas finas através da vaporização de um material sólido no vácuo e da sua posterior deposição num substrato. Os revestimentos por PVD são altamente duráveis, resistentes a riscos e à corrosão, o que os torna ideais para uma variedade de aplicações, desde células solares a semicondutores. A PVD também cria películas finas que podem suportar temperaturas elevadas. No entanto, a PVD pode ser dispendiosa, e o custo varia consoante o método utilizado. Por exemplo, a evaporação é um método de PVD de baixo custo, enquanto a pulverização catódica por feixe de iões é bastante dispendiosa. A pulverização catódica por magnetrão, por outro lado, é mais cara mas mais escalável.

O que é um alvo de pulverização catódica?

Um alvo de pulverização catódica é um material utilizado no processo de deposição por pulverização catódica, que envolve a fragmentação do material alvo em partículas minúsculas que formam um spray e revestem um substrato, como uma bolacha de silício. Os alvos de pulverização catódica são normalmente elementos metálicos ou ligas, embora estejam disponíveis alguns alvos cerâmicos. Existem numa variedade de tamanhos e formas, com alguns fabricantes a criar alvos segmentados para equipamentos de pulverização catódica de maiores dimensões. Os alvos de pulverização catódica têm uma vasta gama de aplicações em domínios como a microeletrónica, as células solares de película fina, a optoelectrónica e os revestimentos decorativos, devido à sua capacidade de depositar películas finas com elevada precisão e uniformidade.

O que são materiais de elevada pureza?

Os materiais de elevada pureza referem-se a substâncias isentas de impurezas e que possuem um elevado nível de homogeneidade química. Estes materiais são essenciais em várias indústrias, particularmente no domínio da eletrónica avançada, onde as impurezas podem afetar significativamente o desempenho dos dispositivos. Os materiais de elevada pureza são obtidos através de vários métodos, incluindo a purificação química, a deposição em fase de vapor e a refinação por zonas. Na preparação de diamante monocristalino de qualidade eletrónica, por exemplo, é necessário um gás de matéria-prima de elevada pureza e um sistema de vácuo eficiente para atingir o nível de pureza e homogeneidade desejados.

O que é a pulverização catódica por magnetrão?

A pulverização catódica por magnetrão é uma técnica de revestimento baseada em plasma utilizada para produzir películas muito densas com excelente aderência, o que a torna um método versátil para criar revestimentos em materiais com pontos de fusão elevados e que não podem ser evaporados. Este método gera um plasma magneticamente confinado perto da superfície de um alvo, onde iões energéticos carregados positivamente colidem com o material alvo carregado negativamente, fazendo com que os átomos sejam ejectados ou "pulverizados". Estes átomos ejectados são então depositados num substrato ou bolacha para criar o revestimento desejado.

O que são metais de elevada pureza?

Os metais de elevada pureza são materiais de elemento único com um mínimo de impurezas, o que os torna ideais para utilização na investigação, desenvolvimento e produção de tecnologias avançadas. Estes metais são utilizados na criação de cerâmicas avançadas, sensores electrónicos, lentes e ópticas de alta precisão, LEDs, lasers, revestimentos de barreira térmica, ecrãs de plasma e muito mais. A KINTEK oferece uma gama diversificada de metais de elevada pureza e compostos metálicos binários e ternários em várias formas, composições, dispersões, tamanhos de partículas e pesos para aplicações comerciais e de investigação. Os metais especiais estratégicos são utilizados em aplicações de alta tecnologia e podem ser caros devido ao seu processamento elaborado.

Como são feitos os alvos de pulverização catódica?

Os alvos de pulverização catódica são fabricados utilizando uma variedade de processos de fabrico, dependendo das propriedades do material do alvo e da sua aplicação. Estes incluem fusão e laminação a vácuo, prensagem a quente, processo especial de sinterização por prensagem, prensagem a quente a vácuo e métodos forjados. A maioria dos materiais dos alvos de pulverização catódica pode ser fabricada numa vasta gama de formas e tamanhos, sendo as formas circulares ou rectangulares as mais comuns. Os alvos são normalmente fabricados a partir de elementos metálicos ou ligas, mas também podem ser utilizados alvos cerâmicos. Também estão disponíveis alvos de pulverização catódica compostos, feitos de uma variedade de compostos, incluindo óxidos, nitretos, boretos, sulfuretos, selenetos, teluretos, carbonetos, cristalinos e misturas compostas.

Porquê a pulverização catódica por magnetrões?

A pulverização catódica por magnetrão é preferida devido à sua capacidade de atingir uma elevada precisão na espessura da película e na densidade dos revestimentos, ultrapassando os métodos de evaporação. Esta técnica é especialmente adequada para criar revestimentos metálicos ou isolantes com propriedades ópticas ou eléctricas específicas. Além disso, os sistemas de pulverização catódica por magnetrões podem ser configurados com várias fontes de magnetrões.

Para que são utilizados os metais de elevada pureza?

Os metais de elevada pureza são utilizados em várias tecnologias avançadas que requerem propriedades, desempenho e qualidade específicos. São utilizados para criar iluminação fluorescente, ecrãs de plasma, LEDs, lentes e ópticas de alta precisão, sensores electrónicos, cerâmicas avançadas, revestimentos de barreira térmica, lasers e muito mais. Estes metais são também utilizados na produção de materiais magnéticos, termoeléctricos, de fósforo e semicondutores de alta qualidade. A KINTEK oferece uma carteira diversificada de metais de elevada pureza, compostos metálicos binários e ternários, ligas magnéticas, óxidos metálicos, nanomateriais e precursores organometálicos em várias formas, composições, dispersões, tamanhos e pesos de partículas para todas as aplicações comerciais e de investigação.

Para que é utilizado o alvo de pulverização catódica?

Os alvos de pulverização catódica são utilizados num processo chamado pulverização catódica para depositar películas finas de um material num substrato utilizando iões para bombardear o alvo. Estes alvos têm uma vasta gama de aplicações em vários campos, incluindo microeletrónica, células solares de película fina, optoelectrónica e revestimentos decorativos. Permitem a deposição de películas finas de materiais numa variedade de substratos com elevada precisão e uniformidade, o que os torna uma ferramenta ideal para a produção de produtos de precisão. Os alvos de pulverização catódica existem em várias formas e tamanhos e podem ser especializados para satisfazer os requisitos específicos da aplicação.

Quais são os materiais utilizados na deposição de película fina?

A deposição de película fina utiliza normalmente metais, óxidos e compostos como materiais, cada um com as suas vantagens e desvantagens únicas. Os metais são preferidos pela sua durabilidade e facilidade de deposição, mas são relativamente caros. Os óxidos são altamente duráveis, suportam temperaturas elevadas e podem ser depositados a baixas temperaturas, mas podem ser frágeis e difíceis de trabalhar. Os compostos oferecem resistência e durabilidade, podem ser depositados a baixas temperaturas e adaptados para apresentarem propriedades específicas.

A seleção do material para um revestimento de película fina depende dos requisitos da aplicação. Os metais são ideais para a condução térmica e eléctrica, enquanto os óxidos são eficazes na proteção. Os compostos podem ser adaptados para satisfazer necessidades específicas. Em última análise, o melhor material para um determinado projeto dependerá das necessidades específicas da aplicação.

Quais são os benefícios da utilização de metais de elevada pureza?

A utilização de metais de elevada pureza oferece várias vantagens. Em primeiro lugar, proporcionam um desempenho consistente e fiável devido à ausência de impurezas que podem causar variações nas propriedades do material. Em segundo lugar, os metais de elevada pureza permitem a produção de produtos de elevada qualidade e desempenho, garantindo uma melhor funcionalidade e durabilidade. Em terceiro lugar, os seus baixos níveis de impureza reduzem o risco de contaminação em aplicações sensíveis. Os metais de elevada pureza também apresentam uma melhor condutividade eléctrica, condutividade térmica e resistência à corrosão. Além disso, são frequentemente preferidos pelas suas propriedades de aderência melhoradas, tornando-os adequados para vários processos de revestimento e deposição de película fina.

O que são alvos de pulverização catódica para eletrónica?

Os alvos de pulverização catódica para eletrónica são discos finos ou folhas de materiais como o alumínio, o cobre e o titânio que são utilizados para depositar películas finas em bolachas de silício para criar dispositivos electrónicos como transístores, díodos e circuitos integrados. Estes alvos são utilizados num processo designado por pulverização catódica, no qual os átomos do material alvo são fisicamente ejectados da superfície e depositados num substrato através do bombardeamento do alvo com iões. Os alvos de pulverização catódica para eletrónica são essenciais na produção de microeletrónica e requerem normalmente uma elevada precisão e uniformidade para garantir dispositivos de qualidade.

Quais são os métodos para obter uma deposição óptima de película fina?

Para obter películas finas com propriedades desejáveis, são essenciais alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação de alta qualidade. A qualidade destes materiais pode ser influenciada por vários factores, tais como a pureza, o tamanho do grão e o estado da superfície.

A pureza dos alvos de pulverização catódica ou dos materiais de evaporação desempenha um papel crucial, uma vez que as impurezas podem causar defeitos na película fina resultante. O tamanho do grão também afecta a qualidade da película fina, sendo que os grãos maiores conduzem a propriedades de película pobres. Além disso, a condição da superfície é crucial, uma vez que as superfícies ásperas podem resultar em defeitos na película.

Para obter alvos de pulverização catódica e materiais de evaporação da mais alta qualidade, é crucial selecionar materiais que possuam alta pureza, tamanho de grão pequeno e superfícies lisas.

Utilizações da deposição de película fina

Películas finas à base de óxido de zinco

As películas finas de ZnO encontram aplicações em várias indústrias, tais como térmica, ótica, magnética e eléctrica, mas a sua principal utilização é em revestimentos e dispositivos semicondutores.

Resistências de película fina

As resistências de película fina são cruciais para a tecnologia moderna e são utilizadas em receptores de rádio, placas de circuito, computadores, dispositivos de radiofrequência, monitores, routers sem fios, módulos Bluetooth e receptores de telemóveis.

Filmes finos magnéticos

Os filmes finos magnéticos são utilizados em eletrónica, armazenamento de dados, identificação por radiofrequência, dispositivos de micro-ondas, ecrãs, placas de circuitos e optoelectrónica como componentes-chave.

Filmes finos ópticos

Os revestimentos ópticos e a optoelectrónica são aplicações padrão dos filmes finos ópticos. A epitaxia por feixe molecular pode produzir dispositivos optoelectrónicos de película fina (semicondutores), em que as películas epitaxiais são depositadas um átomo de cada vez no substrato.

Filmes finos de polímeros

Os filmes finos de polímeros são utilizados em chips de memória, células solares e dispositivos electrónicos. As técnicas de deposição química (CVD) oferecem um controlo preciso dos revestimentos de películas de polímeros, incluindo a conformidade e a espessura do revestimento.

Baterias de película fina

As baterias de película fina alimentam dispositivos electrónicos, tais como dispositivos médicos implantáveis, e a bateria de iões de lítio avançou significativamente graças à utilização de películas finas.

Revestimentos de película fina

Os revestimentos de película fina melhoram as características químicas e mecânicas dos materiais alvo em várias indústrias e campos tecnológicos. Revestimentos antirreflexo, revestimentos anti-ultravioleta ou anti-infravermelhos, revestimentos anti-riscos e polarização de lentes são alguns exemplos comuns.

Células solares de película fina

As células solares de película fina são essenciais para a indústria da energia solar, permitindo a produção de eletricidade relativamente barata e limpa. Os sistemas fotovoltaicos e a energia térmica são as duas principais tecnologias aplicáveis.

Que indústrias utilizam normalmente metais de elevada pureza?

Os metais de elevada pureza têm aplicação numa vasta gama de indústrias. As indústrias de semicondutores e eletrónica utilizam extensivamente metais de elevada pureza para circuitos integrados, microprocessadores e outros componentes electrónicos. A indústria aeroespacial depende de metais de elevada pureza pelas suas propriedades de leveza e elevada resistência. As indústrias ótica e fotovoltaica utilizam metais de elevada pureza para ópticas de precisão e células solares. Os metais de elevada pureza também desempenham um papel significativo em dispositivos médicos, componentes automóveis, laboratórios de investigação e processos de fabrico avançados.

Qual é a vida útil de um alvo de pulverização catódica?

A vida útil de um alvo de pulverização catódica depende de factores como a composição do material, a pureza e a aplicação específica para a qual está a ser utilizado. Geralmente, os alvos podem durar várias centenas a alguns milhares de horas de pulverização catódica, mas isto pode variar muito, dependendo das condições específicas de cada ciclo. O manuseamento e a manutenção adequados também podem prolongar a vida útil de um alvo. Além disso, a utilização de alvos de pulverização catódica rotativos pode aumentar os tempos de execução e reduzir a ocorrência de defeitos, tornando-os uma opção mais económica para processos de grande volume.

Factores e parâmetros que influenciam a deposição de películas finas

Taxa de deposição:

A taxa a que a película é produzida, tipicamente medida em espessura dividida pelo tempo, é crucial para selecionar uma tecnologia adequada à aplicação. As taxas de deposição moderadas são suficientes para películas finas, enquanto as taxas de deposição rápidas são necessárias para películas espessas. É importante encontrar um equilíbrio entre a velocidade e o controlo preciso da espessura da película.

Uniformidade:

A consistência da película ao longo do substrato é conhecida como uniformidade, que normalmente se refere à espessura da película, mas também pode estar relacionada com outras propriedades, como o índice de refração. É importante ter um bom entendimento da aplicação para evitar sub ou superespecificar a uniformidade.

Capacidade de preenchimento:

A capacidade de preenchimento ou cobertura de etapas refere-se a quão bem o processo de deposição cobre a topografia do substrato. O método de deposição utilizado (por exemplo, CVD, PVD, IBD ou ALD) tem um impacto significativo na cobertura e no preenchimento dos degraus.

Características da película:

As características da película dependem dos requisitos da aplicação, que podem ser classificados como fotónicos, ópticos, electrónicos, mecânicos ou químicos. A maioria das películas tem de cumprir requisitos em mais do que uma categoria.

Temperatura do processo:

As características da película são significativamente afectadas pela temperatura do processo, que pode ser limitada pela aplicação.

Danos:

Cada tecnologia de deposição tem o potencial de danificar o material depositado, sendo as características mais pequenas mais susceptíveis a danos no processo. A poluição, a radiação UV e o bombardeamento de iões estão entre as potenciais fontes de danos. É crucial compreender as limitações dos materiais e ferramentas.

Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

4.9

out of

5

Their gold sputtering targets are of exceptional quality, leading to remarkable thin film uniformity and adhesion.

Emiliano Montez

4.7

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are highly pure, resulting in minimal defects and enhanced film properties.

Isabella Khoo

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets have a smooth surface finish, minimizing defects and improving film quality.

Raphael Dubois

4.6

out of

5

These gold sputtering targets are durable and long-lasting, reducing the frequency of target replacements and downtime.

Aaliyah Singh

4.9

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION provide excellent value for money, delivering superior performance at a competitive price.

Lucas Schmidt

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are easy to integrate into our existing systems, ensuring a seamless production process.

Olivia Chen

4.8

out of

5

The technical support team at KINTEK SOLUTION is knowledgeable and responsive, providing valuable assistance whenever needed.

Elijah Rodriguez

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are consistently reliable, ensuring stable and predictable thin film deposition.

Amelia White

4.9

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are shipped promptly, meeting our tight production schedules.

Benjamin Brown

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are compatible with a wide range of deposition techniques, enhancing our versatility.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are meticulously manufactured, ensuring exceptional consistency and uniformity.

Alexander Johnson

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are backed by comprehensive documentation, facilitating seamless integration and operation.

Sophia Martinez

4.9

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are customizable, allowing us to tailor them to our specific requirements.

Jackson Lee

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are manufactured using advanced technology, resulting in superior film properties.

Ava Kim

4.8

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are packaged with care, ensuring they arrive in pristine condition.

Liam Hall

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are competitively priced, providing excellent value for our investment.

Isabella Hernandez

4.9

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are easy to handle and install, minimizing downtime during maintenance.

Benjamin Miller

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are RoHS compliant, ensuring they meet environmental regulations.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are backed by a comprehensive warranty, providing peace of mind.

Sophia Martinez

4.6

out of

5

KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are a valuable addition to our laboratory, enabling us to achieve exceptional results.

Jackson Lee

PDF of LM-AU

Baixar

Catálogo de Materiais De Laboratório

Baixar

Catálogo de Alvos De Pulverização Catódica

Baixar

Catálogo de Materiais De Elevada Pureza

Baixar

Catálogo de Materiais De Deposição De Película Fina

Baixar

Catálogo de Metais De Elevada Pureza

Baixar

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Alvo de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvos de pulverização catódica de platina (Pt) de elevada pureza, pós, fios, blocos e grânulos a preços acessíveis. Adaptados às suas necessidades específicas com diversos tamanhos e formas disponíveis para várias aplicações.

Alvo de pulverização catódica de germânio (Ge) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de germânio (Ge) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais em ouro de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Os nossos materiais de ouro feitos à medida estão disponíveis em várias formas, tamanhos e purezas para se adaptarem às suas necessidades específicas. Explore a nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, folhas, pós e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de alumínio (Al) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de alumínio (Al) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de alumínio (Al) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Oferecemos soluções personalizadas, incluindo alvos de pulverização catódica, pós, folhas, lingotes e muito mais para satisfazer as suas necessidades específicas. Encomende agora!

Alvo de pulverização catódica de prata (Ag) de alta pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de prata (Ag) de alta pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de prata (Ag) a preços acessíveis para as suas necessidades laboratoriais? Os nossos peritos especializam-se na produção de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades específicas.

Elétrodo de folha de ouro

Elétrodo de folha de ouro

Descubra eléctrodos em folha de ouro de alta qualidade para experiências electroquímicas seguras e duradouras. Escolha entre modelos completos ou personalize-os para satisfazer as suas necessidades específicas.

Tungsténio de alta pureza (W) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Tungsténio de alta pureza (W) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de tungsténio (W) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços acessíveis. Oferecemos purezas, formas e tamanhos personalizados de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de paládio (Pd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de paládio (Pd) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Procura materiais de paládio a preços acessíveis para o seu laboratório? Oferecemos soluções personalizadas com diferentes purezas, formas e tamanhos - desde alvos de pulverização catódica a pós nanométricos e pós para impressão 3D. Consulte a nossa gama agora!

Alvo de pulverização catódica de zinco (Zn) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de zinco (Zn) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de Zinco (Zn) de alta qualidade para utilização em laboratório a preços acessíveis. Os nossos especialistas produzem e personalizam materiais de diferentes purezas, formas e tamanhos para satisfazer as suas necessidades. Navegue pela nossa gama de alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de ródio (Rh) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de ródio (Rh) de elevada pureza / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de ródio de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais a preços excelentes. A nossa equipa de especialistas produz e personaliza ródio de várias purezas, formas e tamanhos para satisfazer os seus requisitos exclusivos. Escolha entre uma vasta gama de produtos, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento, pós e muito mais.

Revestimento por evaporação de feixe de electrões / Revestimento de ouro / Cadinho de tungsténio / Cadinho de molibdénio

Revestimento por evaporação de feixe de electrões / Revestimento de ouro / Cadinho de tungsténio / Cadinho de molibdénio

Estes cadinhos funcionam como recipientes para o material de ouro evaporado pelo feixe de evaporação de electrões, ao mesmo tempo que direccionam com precisão o feixe de electrões para uma deposição precisa.

Folha de platina Elétrodo de platina

Folha de platina Elétrodo de platina

A folha de platina é composta por platina, que é também um dos metais refractários. É macia e pode ser forjada, laminada e estirada em varão, fio, placa, tubo e fio.

Alvo de pulverização catódica de antimónio de elevada pureza (Sb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de antimónio de elevada pureza (Sb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Obtenha materiais de antimónio (Sb) de alta qualidade adaptados às suas necessidades específicas. Oferecemos uma vasta gama de formas e tamanhos a preços razoáveis. Navegue pelos nossos alvos de pulverização catódica, pós, folhas e muito mais.

Gadolínio de alta pureza (Gd) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Gadolínio de alta pureza (Gd) Alvo de pulverização catódica / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Encontre materiais de gadolínio (Gd) de alta qualidade para utilização laboratorial a preços acessíveis. Os nossos especialistas adaptam os materiais às suas necessidades específicas com uma gama de tamanhos e formas disponíveis. Compre alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais hoje.

Termografia por infravermelhos / medição de temperatura por infravermelhos lente de germânio (Ge) revestida de dupla face

Termografia por infravermelhos / medição de temperatura por infravermelhos lente de germânio (Ge) revestida de dupla face

As lentes de germânio são lentes ópticas duráveis e resistentes à corrosão, adequadas para ambientes agressivos e aplicações expostas aos elementos.

Chapas metálicas de elevada pureza - Ouro / Platina / cobre / ferro, etc...

Chapas metálicas de elevada pureza - Ouro / Platina / cobre / ferro, etc...

Melhore as suas experiências com as nossas chapas metálicas de elevada pureza. Ouro, platina, cobre, ferro e muito mais. Perfeito para eletroquímica e outros campos.

elétrodo de disco de ouro

elétrodo de disco de ouro

Procura um elétrodo de disco de ouro de alta qualidade para as suas experiências electroquímicas? Não procure mais do que o nosso produto topo de gama.

Folha de vidro de quartzo ótico resistente a altas temperaturas

Folha de vidro de quartzo ótico resistente a altas temperaturas

Descubra o poder das folhas de vidro ótico para a manipulação precisa da luz nas telecomunicações, na astronomia e muito mais. Desbloqueie os avanços na tecnologia ótica com uma clareza excecional e propriedades de refração adaptadas.

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de chumbo de elevada pureza (Pb) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Está à procura de materiais de chumbo (Pb) de alta qualidade para as suas necessidades laboratoriais? Não procure mais do que a nossa seleção especializada de opções personalizáveis, incluindo alvos de pulverização catódica, materiais de revestimento e muito mais. Contacte-nos hoje para obter preços competitivos!

Placa ótica de quartzo JGS1 / JGS2 / JGS3

Placa ótica de quartzo JGS1 / JGS2 / JGS3

A placa de quartzo é um componente transparente, durável e versátil, amplamente utilizado em vários sectores. Fabricada a partir de cristal de quartzo de alta pureza, apresenta uma excelente resistência térmica e química.

Janelas ópticas

Janelas ópticas

Janelas ópticas de diamante: excecional transparência no infravermelho de banda larga, excelente condutividade térmica e baixa dispersão no infravermelho, para aplicações de janelas de laser IR de alta potência e micro-ondas.

Folha de zinco de alta pureza

Folha de zinco de alta pureza

Há muito poucas impurezas nocivas na composição química da folha de zinco e a superfície do produto é direita e lisa; tem boas propriedades globais, processabilidade, coloração por galvanoplastia, resistência à oxidação e resistência à corrosão, etc.

Alvo de pulverização catódica de telúrio de elevada pureza (Te) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de telúrio de elevada pureza (Te) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Descubra a nossa gama de materiais de telúrio (Te) de alta qualidade para utilização laboratorial a preços acessíveis. A nossa equipa de especialistas produz tamanhos e purezas personalizados para satisfazer as suas necessidades específicas. Compre alvos de pulverização catódica, pós, lingotes e muito mais.

Alvo de pulverização catódica de índio de elevada pureza (In) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Alvo de pulverização catódica de índio de elevada pureza (In) / Pó / Fio / Bloco / Grânulo

Looking for high-quality Indium materials for laboratory use? Look no further! Our expertise lies in producing tailored Indium materials of varying purities, shapes, and sizes. We offer a wide range of Indium products to suit your unique requirements. Order now at reasonable prices!