Conhecimento Quais são os tipos de pulverização catódica?
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Equipe técnica · Kintek Solution

Atualizada há 3 meses

Quais são os tipos de pulverização catódica?

Os principais tipos de sistemas de pulverização catódica utilizados na prática incluem:

1. Pulverização catódica por díodo de corrente contínua: Este tipo de pulverização catódica utiliza uma tensão contínua entre 500-1000 V para inflamar um plasma de árgon a baixa pressão entre um alvo e um substrato. Os iões positivos de árgon precipitam átomos do alvo, que migram para o substrato e se condensam para formar uma película fina. No entanto, apenas os condutores eléctricos podem ser pulverizados com este método e obtêm-se baixas taxas de pulverização.

Outros tipos de processos de pulverização catódica incluem:

2. Pulverização por díodos de radiofrequência: Este método utiliza energia de radiofrequência para ionizar o gás e gerar plasma. Permite taxas de pulverização mais elevadas e pode ser utilizado tanto para materiais condutores como para materiais isolantes.

3. Pulverização catódica por díodo magnetrão: Neste método, é utilizado um magnetrão para aumentar a eficiência da pulverização catódica. O campo magnético aprisiona os electrões perto da superfície do alvo, aumentando a taxa de ionização e melhorando a taxa de deposição.

4. Pulverização por feixe de iões: Esta técnica envolve a utilização de um feixe de iões para pulverizar átomos do material alvo. Permite um controlo preciso da energia dos iões e do ângulo de incidência, o que a torna adequada para aplicações que exigem elevada precisão e uniformidade.

É importante notar que a pulverização catódica pode ser utilizada para uma grande variedade de materiais, incluindo metais, cerâmicas e outros materiais. Os revestimentos por pulverização catódica podem ser de camada única ou multicamadas e podem consistir em materiais como prata, ouro, cobre, aço, óxidos metálicos ou nitretos. Além disso, existem diferentes formas de processos de pulverização catódica, como a pulverização catódica reactiva, a pulverização catódica magnetrónica de impulso de alta potência (HiPIMS) e a pulverização catódica assistida por iões, cada uma com as suas características e aplicações únicas.

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